[實用新型]一種濺射鍍膜陰極系統有效
| 申請號： | 201821531010.8 | 申請日： | 2018-09-20 |
| 公開（公告）號： | CN209227050U | 公開（公告）日： | 2019-08-09 |
| 發明（設計）人： | 王策;李先林;呂勇 | 申請（專利權）人： | 華夏易能（海南）新能源科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京中政聯科專利代理事務所(普通合伙) 11489 | 代理人： | 陳超 |
| 地址： | 570216 海南省海口市南海*** | 國省代碼： | 海南;46 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 屏蔽罩 靶材利用率 固定磁體 濺射鍍膜 旋轉磁體 陰極系統 靶材 刻蝕 不均勻性 磁場分布 刻蝕區域 中部區域 不均勻 鍍膜層 拐彎處 均勻性 開口 應用 | ||
1.一種濺射鍍膜陰極系統，其特征在于，包括：旋轉磁體(1)、固定磁體(2)和屏蔽罩(3)；
所述屏蔽罩(3)一側設置有開口，且所述旋轉磁體(1)和所述固定磁體(2)設置在所述屏蔽罩(3)內部。
2.根據權利要求1所述的濺射鍍膜陰極系統，其中所述旋轉磁體(1)包括中心磁體(11)、圓周磁體(12)和旋轉機構(13)；
所述中心磁體(11)與所述圓周磁體(12)朝向靶材(5)的磁極其二者極性相反，且所述中心磁體(11)和所述圓周磁體(12)磁極方向與所述靶材(5)平面垂直；
所述中心磁體(11)與所述圓周磁體(12)設置在所述旋轉機構(13)上，所述旋轉機構(13)帶動所述圓周磁體(12)圍繞所述中心磁體(11)做圓周運動。
3.根據權利要求2所述的濺射鍍膜陰極系統，其中所述旋轉磁體(1)為多個,多個所述旋轉磁體(1)均勻布置。
4.根據權利要求3所述的濺射鍍膜陰極系統，其中多個所述旋轉磁體(1)等間距排布在一條直線上。
5.根據權利要求2-4任一項所述的濺射鍍膜陰極系統，其中所述固定磁體(2)與所述中心磁體(11)朝向所述靶材(5)的磁極其二者極性相同。
6.根據權利要求5所述的濺射鍍膜陰極系統，其中所述固定磁體(2)與所述屏蔽罩(3)固定連接。
7.根據權利要求6所述的濺射鍍膜陰極系統，其中所述固定磁體(2)、所述中心磁體(11)和所述圓周磁體(12)為長條形。
8.根據權利要求1-4任一項所述的濺射鍍膜陰極系統，其中所述固定磁體(2)為多個。
9.根據權利要求1-4任一項所述的濺射鍍膜陰極系統，還包括冷卻裝置(4)，
所述冷卻裝置(4)設置在靶材(5)和所述旋轉陰極之間。
10.根據權利要求9所述的濺射鍍膜陰極系統，其中所述冷卻裝置(4)為非導磁材料制作。
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