[實(shí)用新型]用于涂層前鋁箔表面油污的清洗處理裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201821503750.0
• 申請(qǐng)日: 2018-09-14
• 公開（公告）號(hào): CN208815121U
• 公開（公告）日: 2019-05-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄔建明;孫軍杰;雷振管
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 寧波時(shí)代鋁箔科技股份有限公司
• 主分類號(hào): C23G5/00
• 分類號(hào): C23G5/00
• 代理公司: 寧波市鄞州甬致專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33228
• 代理人: 李迎春

1.一種用于涂層前鋁箔表面油污的清洗處理裝置，包括安裝在涂層生產(chǎn)線(1)上的至少一個(gè)用于輸送待涂層的鋁箔(2)的滾筒(3)，其特征在于：所述滾筒(3)位于鋁箔(2)一側(cè)的涂層生產(chǎn)線(1)上安裝有用于去除鋁箔(2)表面的油污的電暈裝置，所述電暈裝置電連接有高壓振蕩發(fā)生器，所述高壓振蕩發(fā)生器電連接有電暈處理控制器。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于涂層前鋁箔表面油污的清洗處理裝置，其特征在于，所述涂層生產(chǎn)線(1)上安裝有兩個(gè)用于輸送待涂層的鋁箔(2)的滾筒(3)，每個(gè)滾筒(3)位于鋁箔(2)一側(cè)的涂層生產(chǎn)線(1)上均安裝有電暈裝置，兩個(gè)電暈裝置分別用于去除鋁箔(2)兩個(gè)表面上的油污。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于涂層前鋁箔表面油污的清洗處理裝置，其特征在于，所述涂層生產(chǎn)線(1)上安裝有多個(gè)用于輸送待涂層的鋁箔(2)的滾筒(3)，每個(gè)滾筒(3)位于鋁箔(2)一側(cè)的涂層生產(chǎn)線(1)上均安裝有電暈裝置，每個(gè)電暈裝置分別用于去除鋁箔(2)其中一個(gè)表面上的油污，且鋁箔(2)每個(gè)表面所在位置的一側(cè)均設(shè)置有若干個(gè)電暈裝置。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一所述的用于涂層前鋁箔表面油污的清洗處理裝置，其特征在于，所述電暈裝置包括用于貼近滾筒(3)的支架(4)，所述支架(4)朝向滾筒(3)一側(cè)的端面上設(shè)有與滾筒(3)同軸的弧形面(41)，所述弧形面(41)上固定有若干條沿弧形面(41)的徑向方向分布的陶瓷電極(5)，每根陶瓷電極(5)沿弧形面(41)的軸向方向延伸，所述陶瓷電極(5)用于釋放等離子電弧以去除鋁箔(2)表面的油污，所述陶瓷電極(5)與高壓振蕩發(fā)生器電連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于涂層前鋁箔表面油污的清洗處理裝置，其特征在于，所述支架(4)可沿滾筒(3)徑向方向移動(dòng)式地安裝在涂層生產(chǎn)線(1)上，所述涂層生產(chǎn)線(1)上安裝有分別用于驅(qū)動(dòng)其中一個(gè)支架(4)以使陶瓷電極(5)靠近或遠(yuǎn)離滾筒(3)的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于涂層前鋁箔表面油污的清洗處理裝置，其特征在于，所述支架(4)的至少一端設(shè)置有用于觀察陶瓷電極(5)放電狀態(tài)的觀察孔。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于涂層前鋁箔表面油污的清洗處理裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)推動(dòng)支架(4)靠近滾筒(3)后，陶瓷電極(5)與滾筒(3)之間的間距為1.5～3mm。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于涂層前鋁箔表面油污的清洗處理裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)推動(dòng)支架(4)遠(yuǎn)離滾筒(3)后，陶瓷電極(5)與滾筒(3)之間的間距為50～100mm。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一所述的用于涂層前鋁箔表面油污的清洗處理裝置，其特征在于，所述涂層生產(chǎn)線(1)上安裝有用于排出電暈裝置對(duì)鋁箔(2)電暈時(shí)所產(chǎn)生的氣體的排氣管道(6)。

10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于涂層前鋁箔表面油污的清洗處理裝置，其特征在于，所述滾筒(3)的直徑為100～200mm，所述弧形面(41)的弧長(zhǎng)為滾筒(3)周長(zhǎng)的40％～50％。