[實用新型]靜電吸盤及真空處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821488510.8
• 申請日: 2018-09-11
• 公開（公告）號: CN208706609U
• 公開（公告）日: 2019-04-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 不公告發(fā)明人
• 申請（專利權(quán)）人: 長鑫存儲技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01L21/683
• 分類號: H01L21/683
• 代理公司: 北京律智知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438
• 代理人: 袁禮君;闞梓瑄

1.一種靜電吸盤，其特征在于，包括：

本體，具有相對的第一表面和第二表面；第一表面被限定出多個冷卻區(qū)域，其中一冷卻區(qū)域位于第一表面的中心；

冷卻通道，貫穿第一表面和第二表面且分布于各個冷卻區(qū)域，冷卻氣體從第二表面進入冷卻通道并穿過第一表面；及

隔離部，自第一表面凸出設(shè)置，各個冷卻區(qū)域通過隔離部隔離，冷卻氣體在各個冷卻區(qū)域內(nèi)流動，其中，位于第一表面的中心的冷卻區(qū)域內(nèi)的冷卻氣體的流量大于其他冷卻區(qū)域內(nèi)的冷卻氣體的流量。

2.如權(quán)利要求1所述的靜電吸盤，其特征在于，位于第一表面的中心的冷卻區(qū)域為中心區(qū)域，冷卻區(qū)域還包括圍繞中心區(qū)域的過渡區(qū)域和周邊區(qū)域，過渡區(qū)域位于中心區(qū)域與周邊區(qū)域之間，且中心區(qū)域內(nèi)、過渡區(qū)域及周邊區(qū)域通過隔離部隔離，過渡區(qū)域的冷卻氣體的流量小于中心區(qū)域內(nèi)的冷卻氣體的流量，且大于周邊區(qū)域內(nèi)的冷卻氣體的流量。

3.如權(quán)利要求2所述的靜電吸盤，其特征在于，中心區(qū)域為圓形，隔離部、過渡區(qū)域及周邊區(qū)域均為環(huán)形，中心區(qū)域、過渡區(qū)域及周邊區(qū)域同心排布。

4.如權(quán)利要求3所述的靜電吸盤，其特征在于，分布于過渡區(qū)域及周邊區(qū)域的冷卻通道呈環(huán)狀排布。

5.如權(quán)利要求2所述的靜電吸盤，其特征在于，過渡區(qū)域的面積大于周邊區(qū)域的面積，過渡區(qū)域分布的冷卻通道的數(shù)量大于周邊區(qū)域分布的冷卻通道的數(shù)量。

6.如權(quán)利要求2所述的靜電吸盤，其特征在于，中心區(qū)域分布的冷卻通道的密度大于過渡區(qū)域和周邊區(qū)域分布的冷卻通道的密度。

7.如權(quán)利要求2所述的靜電吸盤，其特征在于，過渡區(qū)域的數(shù)量為多個，多個過渡區(qū)域與中心區(qū)域同心排布，各個過渡區(qū)域通過隔離部隔離。

8.如權(quán)利要求7所述的靜電吸盤，其特征在于，過渡區(qū)域數(shù)量為3-6個。

9.如權(quán)利要求2所述的靜電吸盤，其特征在于，冷卻通道包括進氣通道和出氣通道，冷卻氣體能夠從第二表面經(jīng)由進氣通道穿過第一表面，并從第一表面經(jīng)由出氣通道穿過第二表面。

10.如權(quán)利要求9所述的靜電吸盤，其特征在于，每一區(qū)域內(nèi)，進氣通道和出氣通道相對于本體的直徑對稱分布。

11.如權(quán)利要求10所述的靜電吸盤，其特征在于，相鄰兩區(qū)域內(nèi)的進氣通道和出氣通道的分布相反。

12.如權(quán)利要求9所述的靜電吸盤，其特征在于，每一區(qū)域內(nèi)，進氣通道和出氣通道間隔分布。

13.如權(quán)利要求2所述的靜電吸盤，其特征在于，靜電吸盤還包括多個相互隔離的氣體流道，其設(shè)置于第二表面，并分別與各冷卻區(qū)域?qū)?yīng)，氣體流道與所對應(yīng)的冷卻區(qū)域的冷卻通道連通。

14.如權(quán)利要求1所述的靜電吸盤，其特征在于，隔離部的頂面為水平面，且各個隔離部的高度相同。

15.如權(quán)利要求1所述的靜電吸盤，其特征在于，隔離部的高度為0.2mm～2mm。

16.如權(quán)利要求1所述的靜電吸盤，其特征在于，隔離部由陶瓷制成。

17.如權(quán)利要求1所述的靜電吸盤，其特征在于，冷卻氣體的流量為2sccm～10sccm，各冷卻區(qū)域的冷卻氣體的流量各不相同，且由中心至外周依次遞減1％～8％。

18.如權(quán)利要求1所述的靜電吸盤，其特征在于，冷卻氣體為惰性氣體。