[實(shí)用新型]一種檢測長焦大離軸量離軸拋物面鏡的光學(xué)系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821484380.0
• 申請日: 2018-09-11
• 公開（公告）號: CN208736353U
• 公開（公告）日: 2019-04-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 胡建軍;潘君驊;錢煜;王偉
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州如期光電科技有限公司
• 主分類號: G01B11/02
• 分類號: G01B11/02;G01B11/26;G01M11/00
• 代理公司: 蘇州智品專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32345
• 代理人: 王利斌

本實(shí)用新型屬于光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種檢測離軸拋物面的光學(xué)系統(tǒng)；為解決長焦大離軸量離軸拋物面鏡的檢測系統(tǒng)光路過長受氣流擾動(dòng)嚴(yán)重以及CCD對被檢測工件的檢測分辨率低從而導(dǎo)致檢測精度下降的技術(shù)問題，提出一種檢測長焦大離軸量離軸拋物面鏡的光學(xué)系統(tǒng)；該系統(tǒng)采用偏軸兩鏡系統(tǒng)將發(fā)散鏡頭虛焦點(diǎn)和偏軸兩鏡系統(tǒng)的像點(diǎn)重合，有效的縮短了光路長度；再配合標(biāo)準(zhǔn)球面反射鏡、標(biāo)準(zhǔn)平面反射鏡進(jìn)一步縮短光路長度且壓縮了光路寬度；此外該技術(shù)方案使得CCD的像元得到有效利用，增大了被檢測工件的檢測分辨率，可以有效遏制空氣擾動(dòng)對檢驗(yàn)結(jié)果的不利影響，提高干涉檢驗(yàn)精度，為加工符合技術(shù)要求的離軸鏡提供保障。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于光學(xué)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種檢測離軸拋物面的光學(xué)系統(tǒng)。

背景技術(shù)

離軸拋物面反射鏡由于失去了旋轉(zhuǎn)對稱性，無法按傳統(tǒng)方法在磨鏡機(jī)上加工磨制。通常認(rèn)為，如果要對離軸拋物面反射鏡作高精度的單件加工，只有運(yùn)用計(jì)算機(jī)輔助加工方法。即必須依賴于復(fù)雜的數(shù)控光學(xué)加工設(shè)備。現(xiàn)在一般采取挖切技術(shù)，先做一個(gè)大的旋轉(zhuǎn)對稱的母拋物面鏡，再用套切工具挖出所需部分。這種方法只能適用于口徑較小并且離軸量不大的鏡子。

離軸拋物面反射鏡主要有以下幾個(gè)指標(biāo)：通光口徑、離軸量（或離軸角）、母拋物面焦距及鏡面精度。鏡面精度要求，高者用波長表示，又分均方根誤差（RMS）和峰谷值誤差（P-V）；低者用星點(diǎn)像彌散圓直徑表示。

慣性約束核聚變工程需要將多路激光束會(huì)聚于靶丸，為了將多路激光束在同一水平面上分布得當(dāng)，做到各路光無不干涉，需要組合不同焦距和離軸量的離軸拋物面。在目前的原理實(shí)驗(yàn)階段，離軸拋物面的焦距已經(jīng)到達(dá)30m級、離軸量已經(jīng)達(dá)到15m級，隨著慣性約束核聚變工程的發(fā)展，對更大焦距和離軸量的離軸拋物面將會(huì)有進(jìn)一步的需求。

專利號為：ZL031131119.0的發(fā)明專利公開了一種離軸拋物面反射鏡的加工方法，該方法在加工長焦大離軸量離軸拋物面鏡時(shí)由于焦距長導(dǎo)致干涉檢測光路過長，氣流擾動(dòng)導(dǎo)致測量精度降低；大離軸量導(dǎo)致干涉檢測時(shí)CCD對條紋的分辨率下降，嚴(yán)重影響測試可靠性。例如一塊焦距30m、離軸量15m的離軸拋物面，干涉檢驗(yàn)時(shí)需要的恒溫室內(nèi)場地至少為20m（長）×10m（寬），而且干涉檢驗(yàn)光路長度超過60m，氣流擾動(dòng)對拋物鏡的面形誤差帶來極大的影響。

可見，長焦大離軸量離軸拋物面鏡的高精度加工受制于高精度檢測，現(xiàn)有技術(shù)還不能滿足需求。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明目的是解決長焦大離軸量離軸拋物面鏡的檢測系統(tǒng)光路過長受氣流擾動(dòng)嚴(yán)重以及CCD對被檢測工件的檢測分辨率低從而導(dǎo)致檢測精度下降的技術(shù)問題，采用的技術(shù)方案如下：

一種檢測長焦大離軸量離軸拋物面鏡的光學(xué)系統(tǒng)，該光學(xué)系統(tǒng)包括沿著干涉儀發(fā)出的光波傳播方向依次排布的：發(fā)散鏡頭、標(biāo)準(zhǔn)球面反射鏡、用于放置待測長焦大離軸量離軸拋物面鏡的調(diào)整架、標(biāo)準(zhǔn)平面反射鏡；