[實(shí)用新型]蝕刻機(jī)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821454165.6 | 申請日: | 2018-09-05 |
| 公開(公告)號: | CN208965040U | 公開(公告)日: | 2019-06-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳德和 | 申請(專利權(quán))人: | 東莞宇宙電路板設(shè)備有限公司 |
| 主分類號: | C23F1/08 | 分類號: | C23F1/08 |
| 代理公司: | 深圳中一聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44414 | 代理人: | 張全文 |
| 地址: | 523695 *** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 內(nèi)層玻璃 底板 支撐框 開窗 蝕刻 外層玻璃 儲液槽 蝕刻機(jī) 蝕刻室 封蓋 本實(shí)用新型 避免污染 間隔設(shè)置 密封液體 蝕刻氣體 提升設(shè)備 整潔度 藥水 液封 填充 環(huán)繞 室內(nèi) 外部 支撐 維護(hù) | ||
1.蝕刻機(jī),包括設(shè)有開窗的蝕刻室、封蓋于所述開窗上的內(nèi)層玻璃、與所述內(nèi)層玻璃間隔設(shè)置并封蓋于所述開窗上的外層玻璃以及用于支撐所述內(nèi)層玻璃和所述外層玻璃的支撐框,所述支撐框安裝于所述蝕刻室上,所述支撐框環(huán)繞所述開窗,所述支撐框包括開窗下端的底板,其特征在于:所述底板對應(yīng)于所述內(nèi)層玻璃的位置上開設(shè)有儲液槽,所述儲液槽內(nèi)填充有密封液體,所述內(nèi)層玻璃的側(cè)邊伸入所述儲液槽內(nèi)并浸入所述密封液體。
2.如權(quán)利要求1所述的蝕刻機(jī),其特征在于:所述儲液槽靠近所述蝕刻室的側(cè)壁的高度低于所述儲液槽遠(yuǎn)離所述蝕刻室的側(cè)壁的高度。
3.如權(quán)利要求2所述的蝕刻機(jī),其特征在于:所述蝕刻機(jī)還包括用于給所述儲液槽輸送所述密封液體的補(bǔ)液機(jī)構(gòu)。
4.如權(quán)利要求3所述的蝕刻機(jī),其特征在于:所述補(bǔ)液機(jī)構(gòu)包括用于提供動力的水泵和用于供外界密封液體流入所述儲液槽的管道,所述水泵的出水口與所述管道連通,所述管道與所述儲液槽連通。
5.如權(quán)利要求4所述的蝕刻機(jī),其特征在于:所述密封液體為蝕刻藥水,所述底板上還設(shè)有用于供所述儲液槽內(nèi)的密封液體流至所述蝕刻室的排液流道。
6.如權(quán)利要求5所述的蝕刻機(jī),其特征在于:所述補(bǔ)液機(jī)構(gòu)還包括用于調(diào)節(jié)所述管道流量大小的調(diào)節(jié)閥,所述調(diào)節(jié)閥位于所述儲液槽的入水口與所述水泵的出水口之間。
7.如權(quán)利要求6所述的蝕刻機(jī),其特征在于:所述支撐框還包括與所述底板相鄰的側(cè)板,所述側(cè)板沿該側(cè)板的厚度方向上開設(shè)有呈階梯式設(shè)置的緩沖流道,所述緩沖流道的一端與所述管道連通,所述緩沖流道的另一端與所述儲液槽的入水口連通。
8.如權(quán)利要求7中所述的蝕刻機(jī),其特征在于:所述外層玻璃的四周設(shè)有膠邊條,所述內(nèi)層玻璃的兩側(cè)邊以及頂部設(shè)有膠邊條。
9.如權(quán)利要求8中所述的蝕刻機(jī),其特征在于:所述內(nèi)層玻璃上還設(shè)有用于將所述內(nèi)層玻璃壓緊于所述支撐框上的第一壓緊手柄。
10.如權(quán)利要求8中所述的蝕刻機(jī),其特征在于:所述外層玻璃上還設(shè)有用于將所述外層玻璃壓緊于所述支撐框的第二壓緊手柄。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于東莞宇宙電路板設(shè)備有限公司,未經(jīng)東莞宇宙電路板設(shè)備有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201821454165.6/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





