[實(shí)用新型]位線結(jié)構(gòu)及存儲(chǔ)器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821428389.X
• 申請日: 2018-08-30
• 公開（公告）號(hào): CN208655645U
• 公開（公告）日: 2019-03-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 祝嘯
• 申請（專利權(quán)）人: 長鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): H01L27/108
• 分類號(hào): H01L27/108
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 智云

1.一種位線結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：

基底，位于所述基底上的多條位線，多條所述位線間隔排列；

隔離材料層，位于所述基底和所述位線上，所述隔離材料層覆蓋所述位線的頂部和側(cè)壁；

多孔絕緣材料層，位于所述隔離材料層上，所述多孔絕緣材料層覆蓋所述隔離材料層，且所述多孔絕緣材料層中具有多個(gè)孔隙；

空氣隙，位于所述位線兩側(cè)并在所述隔離材料層和所述多孔絕緣材料層之間，且所述空氣隙與所述多孔絕緣材料層中的多個(gè)孔隙連通。

2.如權(quán)利要求1所述的位線結(jié)構(gòu)，其特征在于，還包括位線隔離層，所述位線隔離層覆蓋所述多孔絕緣材料層并填充相鄰所述位線之間的間隙。

3.如權(quán)利要求2所述的位線結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述隔離材料層的材質(zhì)包含氮化硅或氮氧化硅或二氧化硅，所述多孔絕緣材料層的材質(zhì)包含介孔二氧化硅，所述位線隔離層的材質(zhì)包含二氧化硅。

4.如權(quán)利要求1所述的位線結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述位線包含依次位于所述基底上的第一導(dǎo)電材料層、第二導(dǎo)電材料層與保護(hù)材料層，所述第一導(dǎo)電材料層的材質(zhì)包含摻雜多晶硅，所述第二導(dǎo)電材料層的材質(zhì)包含鈦或氮化鈦或鎢，所述保護(hù)材料層的材質(zhì)包含氮化硅或氮氧化硅或二氧化硅。

5.如權(quán)利要求1所述的位線結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述隔離材料層具有在所述位線上的第一部位以及在所述基底上的第二部位，所述多孔絕緣材料層覆蓋所述隔離材料層的所述第一部位和所述第二部位，以及包覆所述空氣隙。

6.一種存儲(chǔ)器，其特征在于，包括：

基底，位于所述基底上的多條位線，多條所述位線間隔排列；

隔離材料層，位于所述基底和所述位線上，所述隔離材料層覆蓋所述位線的頂部和側(cè)壁；

多孔絕緣材料層，位于所述隔離材料層上，所述多孔絕緣材料層覆蓋所述隔離材料層，且所述多孔絕緣材料層中具有多個(gè)孔隙；

空氣隙，位于所述位線兩側(cè)并在所述隔離材料層和所述多孔絕緣材料層之間，所述空氣隙與所述多孔絕緣材料層中的多個(gè)孔隙連通。