[實用新型]一種多功能暗室熒光光譜測試儀裝置

有效

• 申請號: 201821394552.5
• 申請日: 2018-08-28
• 公開（公告）號: CN208999307U
• 公開（公告）日: 2019-06-18
• 發明（設計）人: 邊惠
• 申請（專利權）人: 南京盈波光電科技有限公司
• 主分類號: G01N21/64
• 分類號: G01N21/64
• 代理公司: 南京瑞弘專利商標事務所(普通合伙) 32249
• 代理人: 陳建和

多功能暗室熒光光譜測試儀裝置，包括光學暗室、Xe激發光源，濾光光柵、三維位移臺和望遠鏡系統，Xe激發光源，濾光光柵、三維位移臺和望遠鏡系統光學暗室內，Xe激發光源經濾光光柵，由濾光光柵出射的反射光路或經由光纖照射到三維位移臺上熒光材料；三維位移臺側上方設有角度可調和焦距可調的望遠鏡系統。本實用新型通過巧妙地設計將多種功能集成在一起并置于光學暗室中，以滿足大多數熒光光譜測試需求，各種參數可以根據需要進行調整，提高了實驗效率與精度。

技術領域：

本實用新型熒光光譜測試裝置，尤其是一種暗室多功能熒光光譜測試裝置。

背景技術：

現有的熒光光譜儀又稱熒光分光光度計，是一種定性、定量分析的儀器。通過熒光光譜儀的檢測，可以獲得物質的激發光譜、發射光譜、量子產率、熒光強度、熒光壽命、斯托克斯位移、熒光偏振與去偏振特性，以及熒光的淬滅方面的信息。包括光源、激發光源、發射光源、試樣池、檢測器、顯示裝置等組成。熒光光譜儀可分為X射線熒光光譜儀和分子熒光光譜儀。

分子熒光光譜儀具體包括1.熒光激發光譜和熒光發射光譜，2.同步熒光(波長和能量)掃描光譜，3.3D(Ex Em Intensity)，4.Time Base和CWA(固定波長單點測量)，5.熒光壽命測量，包括壽命分辨及時間分辨，6.計算機采集光譜數據和處理數據(Datamax和Gram32)。

然而，現有的分子熒光光譜儀為了滿足檢測條件和獲得適當的靈敏度，成本比較高，在應用上受到限制。

實用新型內容

本實用新型的目的是，提供一種多功能暗室熒光光譜測試儀裝置，利用光譜儀從寬光譜光源中得到單色光，激發熒光材料，利用望遠鏡系統搜集激發光，分析光譜特性。并設計真空室的使用條件。

本實用新型的技術方案：多功能暗室熒光光譜測試儀裝置，包括光學暗室、Xe激發光源，濾光光柵、三維位移臺和望遠鏡系統，Xe激發光源，濾光光柵、三維位移臺和望遠鏡系統光學暗室內，Xe激發光源經濾光光柵，由濾光光柵出射的反射光路或經由光纖照射到三維位移臺上熒光材料；三維位移臺側上方設有角度可調和焦距可調的望遠鏡系統。系統光入射口也可連接激光器以滿足實驗需要。

光學暗室設有接激光器的光入射口。

通過激光測距設備與三維位移臺的協同，精確確定物鏡與測試材料的距離。

利用角度可調和焦距可調的望遠鏡系統搜集熒光。

將以上功能通過工業設計集成在一個設備上，并置于暗室中。

有益效果：本實用新型利用光譜儀從寬光譜光源中得到所需單色光，利用光纖或反射光路將單色光聚焦在材料表面。也可根據實驗需要將光譜儀換為激光器。測試材料放置于三維平移臺上。物鏡與測試平臺的距離可由激光測距系統精確測定，望遠鏡系統搜集光的角度可以在30-60度之間調整，以搜集最強信號。本實用新型系統所有光路都置于光學暗室中，避免雜散光對系統的影響，而且容易將暗室改進成真空暗室，應用上效果更好，且能適應各種材料的測量。本實用新型結構簡單，通過巧妙地設計將多種功能集成在一起并置于光學暗室中，以滿足大多數熒光光譜測試需求，各種參數可以根據需要進行調整，提高了實驗效率與精度。將多種功能集成于一體。提高使用效率。

附圖說明

圖1為本實用新型結構示意圖。

具體實施方式

如圖1所示，多功能暗室熒光光譜測試儀裝置，包括光學暗室1、Xe激發光源2(氙燈光源HSX-uv300)，濾光光柵3(三光柵單色儀)、獲得高質量的單色光，根據需要將光通過反射光路或光纖照射到熒光材料4中。系統光入射口也可連接激光器以滿足實驗需要。熒光材料4置于三維位移臺5上面，三維位移臺5上方，設有望遠鏡系統6，利用角度可調和焦距可調的望遠鏡系統搜集熒光。