[實(shí)用新型]一種利用納米材料檢測(cè)重金屬離子的設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201821391737.0
• 申請(qǐng)日: 2018-08-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN208636205U
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-03-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉剛;張雁南;邰俊雅;李陽(yáng);袁鳴;劉瑩;韓欣宇;曹佳惠;周鈺儀
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 吉林工程技術(shù)師范學(xué)院
• 主分類號(hào): G01N21/31
• 分類號(hào): G01N21/31;G01N21/01
• 代理公司: 西安銘澤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 61223
• 代理人: 李振瑞

本實(shí)用新型公開(kāi)了一種利用納米材料檢測(cè)重金屬離子的設(shè)備，包括底座，所述底座的上端豎直設(shè)有兩個(gè)支撐板，兩個(gè)所述支撐板的上端共同固定連接有第一固定板，兩個(gè)所述支撐板相對(duì)的側(cè)壁固定連接有第二固定板，所述第一固定板的側(cè)壁貫穿設(shè)有升降機(jī)構(gòu)，所述升降機(jī)構(gòu)相對(duì)的側(cè)壁固定連接有升降板，所述升降板的下端固定連接有兩個(gè)磁塊，兩個(gè)所述磁塊的下端連接有磁性納米材料板，所述第二固定板的上端設(shè)有兩個(gè)限位機(jī)構(gòu)，兩個(gè)所述限位機(jī)構(gòu)相對(duì)的側(cè)壁連接有反應(yīng)機(jī)構(gòu)，所述底座的上端設(shè)有第一盆體。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，能夠避免人工手持磁性納米材料板進(jìn)行吸附反應(yīng)，在減少人力資源消耗的同時(shí)，能夠保證其吸附效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及金屬離子檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種利用納米材料檢測(cè)重金屬離子的設(shè)備。

背景技術(shù)

當(dāng)下，用納米材料檢測(cè)重金屬離子是進(jìn)行金屬離子檢測(cè)的常規(guī)手段，其過(guò)程是將金屬離子與納米銀溶液進(jìn)行反應(yīng)，再通過(guò)磁性納米材料對(duì)其進(jìn)行吸附，納米銀金屬離子會(huì)產(chǎn)生作用力較強(qiáng)的聚集物，而磁性納米材料能夠?qū)奂锲鸬胶軓?qiáng)的吸附能力，因此可以實(shí)現(xiàn)對(duì)膠體銀金屬離子的聚集物起到很好的富集效果，從而提高其含量至測(cè)定下限以上。

傳統(tǒng)的操作方式需要人工手持磁性納米材料板進(jìn)行吸附反應(yīng)，此一過(guò)程需要耗費(fèi)較多的反應(yīng)時(shí)間，而人工手持磁性納米材料板不僅需要耗費(fèi)人力資源，而且由于人工的不穩(wěn)定性會(huì)影響吸附效果，為此我們?cè)O(shè)計(jì)了一種利用納米材料檢測(cè)重金屬離子的設(shè)備來(lái)解決以上問(wèn)題。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的是為了解決現(xiàn)有的操作方式不僅需要耗費(fèi)較多的人力資源，而且由于人工操作的不穩(wěn)定性可能對(duì)吸附效果造成影響，而提出的一種利用納米材料檢測(cè)重金屬離子的設(shè)備，其能夠避免人工手持磁性納米材料板進(jìn)行吸附反應(yīng)，在減少人力資源消耗的同時(shí)，能夠保證其吸附效果。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用了如下技術(shù)方案：

一種利用納米材料檢測(cè)重金屬離子的設(shè)備，包括底座，所述底座的上端豎直設(shè)有兩個(gè)支撐板，兩個(gè)所述支撐板的上端共同固定連接有第一固定板，兩個(gè)所述支撐板相對(duì)的側(cè)壁固定連接有第二固定板，所述第一固定板的側(cè)壁貫穿設(shè)有升降機(jī)構(gòu)，所述升降機(jī)構(gòu)相對(duì)的側(cè)壁固定連接有升降板，所述升降板的下端固定連接有兩個(gè)磁塊，兩個(gè)所述磁塊的下端連接有磁性納米材料板，所述第二固定板的上端設(shè)有兩個(gè)限位機(jī)構(gòu)，兩個(gè)所述限位機(jī)構(gòu)相對(duì)的側(cè)壁連接有反應(yīng)機(jī)構(gòu)，所述底座的上端設(shè)有第一盆體，所述底座的上端設(shè)有工作臺(tái)，所述工作臺(tái)的上端設(shè)有第二盆體，所述底座的上端設(shè)有原子吸收光譜儀。

優(yōu)選地，所述升降機(jī)構(gòu)包括兩個(gè)螺紋桿，兩個(gè)所述螺紋桿均貫穿第一固定板的側(cè)壁并與其側(cè)壁轉(zhuǎn)動(dòng)連接，且兩個(gè)所述螺紋桿的下端均與第二固定板的上端轉(zhuǎn)動(dòng)連接，其中一個(gè)所述螺紋桿的外側(cè)壁固定連接有從動(dòng)輪，所述第一固定板的上端固定連接有伺服電機(jī)，所述伺服電機(jī)的輸出軸末端固定連接有與從動(dòng)輪相互嚙合的主動(dòng)輪，兩個(gè)所述螺紋桿的上端共同連接有傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，兩個(gè)所述螺紋桿的外側(cè)壁均螺紋連接有升降塊，兩個(gè)所述升降塊相對(duì)的側(cè)壁均與升降板的側(cè)壁固定連接，兩個(gè)所述支撐板相對(duì)的側(cè)壁均固定連接有限位板，兩個(gè)所述限位板相對(duì)的側(cè)壁均設(shè)有限位槽，兩個(gè)所述限位槽內(nèi)均滑動(dòng)連接有限位塊，兩個(gè)所述限位塊相對(duì)的側(cè)壁均與其相對(duì)的升降塊的側(cè)壁固定連接。

優(yōu)選地，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括兩個(gè)傳動(dòng)輪，兩個(gè)所述傳動(dòng)輪分別與兩個(gè)螺紋桿的上端固定連接，兩個(gè)所述傳動(dòng)輪之間連接有傳動(dòng)帶。

優(yōu)選地，所述限位機(jī)構(gòu)包括設(shè)置在第二固定板上端的豎板，所述豎板的側(cè)壁固定連接有定位板，所述定位板的側(cè)壁設(shè)有定位槽，所述定位槽內(nèi)滑動(dòng)連接有定位塊，所述定位塊與定位槽的內(nèi)側(cè)壁之間連接有多個(gè)彈簧，所述定位塊遠(yuǎn)離彈簧的一端側(cè)壁與反應(yīng)機(jī)構(gòu)的側(cè)壁相抵。