[實用新型]光罩彎曲校正裝置及曝光機

有效

• 申請號: 201821346226.7
• 申請日: 2018-08-21
• 公開（公告）號: CN208673039U
• 公開（公告）日: 2019-03-29
• 發明（設計）人: 李亮亮;趙玉財;王璐
• 申請（專利權）人: 咸陽彩虹光電科技有限公司
• 主分類號: G03F1/64
• 分類號: G03F1/64;G03F7/20
• 代理公司: 西安嘉思特知識產權代理事務所(普通合伙) 61230
• 代理人: 張捷

1.一種光罩彎曲校正裝置，其特征在于，包括第一光罩保持架(5)、第二光罩保持架(6)及抽真空裝置，其中，

所述第一光罩保持架(5)為方框形結構，所述方框形結構的下表面包括多個第一吸附口(7)，以吸附所述光罩(2)的四周部分；

所述第二光罩保持架(6)為桿狀結構且與所述第一光罩保持架(5)構成日字形結構，所述桿狀結構的下表面包括多個第二吸附口(8)，以吸附所述光罩(2)的中間部分；

所述多個第一吸附口(7)和所述多個第二吸附口(8)設置在同一平面上；

所述第一光罩保持架(5)和所述第二光罩保持架(6)均包括真空接口(9)，所述第一吸附口(7)和所述第二吸附口(8)分別通過所述真空接口(9)連接至所述抽真空裝置。

2.根據權利要求1所述的光罩彎曲校正裝置，其特征在于，所述第一光罩保持架(5)和所述第二光罩保持架(6)的內部均包括真空腔(10)，所述真空接口(9)開設在所述真空腔(10)的側壁，所述第一吸附口(7)或所述第二吸附口(8)開設在所述真空腔(10)的下壁。

3.根據權利要求2所述的光罩彎曲校正裝置，其特征在于，所述光罩彎曲校正裝置還包括支撐桿(11)，所述第二光罩保持架(6)安裝在所述支撐桿(11)的下表面上，使得所述第一吸附口(7)和所述第二吸附口(8)處于同一平面上。

4.根據權利要求3所述的光罩彎曲校正裝置，其特征在于，所述第二光罩保持架(6)的上表面與所述支撐桿(11)的下表面相粘合或者焊接結合。

5.根據權利要求4所述的光罩彎曲校正裝置，其特征在于，所述支撐桿(11)架設在所述第一光罩保持架(5)上，且平行于所述第一光罩保持架(5)的一側。

6.根據權利要求5所述的光罩彎曲校正裝置，其特征在于，所述光罩彎曲校正裝置還包括驅動裝置，所述驅動裝置電連接至所述支撐桿(11)，以驅動所述支撐桿(11)移動。

7.根據權利要求6所述的光罩彎曲校正裝置，其特征在于，所述第一光罩保持架(5)的兩側分別設置有一個平行于所述第一光罩保持架(5)的滑軌(12)，所述支撐桿(11)的兩端分別垂直容納在相應側的滑軌(12)中。

8.根據權利要求1所述的光罩彎曲校正裝置，其特征在于，所述第一光罩保持架(5)沿其長度方向均勻開設有兩列所述第一吸附口(7)。

9.根據權利要求8所述的光罩彎曲校正裝置，其特征在于，所述第二光罩保持架(6)沿其長度方向均勻開設有四列所述第二吸附口(8)。

10.一種曝光機，包括光罩臺(13)，其特征在于，所述光罩臺(13)上安裝有權利要求1至9中任一項所述的光罩彎曲校正裝置。