[實用新型]一種氣體分布裝置以及干燥裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201821335140.4
• 申請日: 2018-08-17
• 公開（公告）號: CN208794946U
• 公開（公告）日: 2019-04-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 毛燕東;劉雷;李克忠
• 申請（專利權(quán)）人: 新奧科技發(fā)展有限公司
• 主分類號: F26B21/00
• 分類號: F26B21/00;F26B9/06
• 代理公司: 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274
• 代理人: 李文博

1.一種氣體分布裝置，其特征在于，包括：

第一布?xì)獍搴偷诙細(xì)獍澹?/p>

其中，所述第一布?xì)獍迳祥_設(shè)有多個第一布?xì)饪祝龅诙細(xì)獍迳祥_設(shè)有多個第二布?xì)饪祝?dāng)所述第一布?xì)獍搴退龅诙細(xì)獍宓闹行妮S線重合進(jìn)行疊置時，所述第一布?xì)饪着c所述第二布?xì)饪籽厮龅谝徊細(xì)獍搴退龅诙細(xì)獍宓闹行妮S線的方向交錯設(shè)置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體分布裝置，其特征在于，

所述第一布?xì)饪自谒龅谝徊細(xì)獍宓闹行妮S線的延伸方向上的投影面積大于或等于所述第二布?xì)饪自谒龅诙細(xì)獍宓闹行妮S線的延伸方向上的投影面積。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣體分布裝置，其特征在于，

每一個所述第二布?xì)饪自谒龅诙細(xì)獍宓耐粋?cè)均設(shè)置有風(fēng)帽，用于將經(jīng)所述第二布?xì)獍宓牧硪粋?cè)通入的氣體沿所述第二布?xì)饪自谒龅诙細(xì)獍宓闹行妮S線的延伸方向的一周均勻分散。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氣體分布裝置，其特征在于，

所述風(fēng)帽通過間隔設(shè)置在所述第二布?xì)饪字車闹辽賰蓚€支撐柱支撐在所述第二布?xì)獍宓囊粋?cè)。

5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的氣體分布裝置，其特征在于，

所述風(fēng)帽背離所述第二布?xì)饪椎耐獗砻鏋閳A錐面。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣體分布裝置，其特征在于，

所述圓錐面的錐角為90-150度。

7.一種氣體分布裝置，其特征在于，包括：

第一布?xì)獍搴偷诙細(xì)獍澹?/p>

其中，所述第一布?xì)獍迳祥_設(shè)有多個第一布?xì)饪祝龅诙細(xì)獍迳祥_設(shè)有多個第二布?xì)饪祝颐恳粋€所述第二布?xì)饪自谒龅诙細(xì)獍宓耐粋?cè)均設(shè)置有風(fēng)帽，用于將經(jīng)第二布?xì)獍宓牧硪粋?cè)通入的氣體沿所述第二布?xì)饪自谒龅诙細(xì)獍宓闹行妮S線的延伸方向的一周均勻分散。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的氣體分布裝置，其特征在于，

所述風(fēng)帽通過間隔設(shè)置在第二布?xì)饪字車闹辽賰蓚€支撐柱支撐在所述第二布?xì)獍宓囊粋?cè)。

9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的氣體分布裝置，其特征在于，

所述風(fēng)帽背離所述第二布?xì)饪椎耐獗砻鏋閳A錐面。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的氣體分布裝置，其特征在于，

所述圓錐面的錐角為90-150度。

11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的氣體分布裝置，其特征在于，

所述第一布?xì)饪自谒龅谝徊細(xì)獍宓闹行妮S線的延伸方向上的投影面積大于或等于所述第二布?xì)饪自谒龅诙細(xì)獍宓闹行妮S線的延伸方向上的投影面積。

12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的氣體分布裝置，其特征在于，

當(dāng)所述第一布?xì)獍搴退龅诙細(xì)獍宓闹行妮S線重合進(jìn)行疊置時，所述第一布?xì)饪着c所述第二布?xì)饪籽厮龅谝徊細(xì)獍搴退龅诙細(xì)獍宓闹行妮S線的方向交錯設(shè)置。

13.一種干燥裝置，其特征在于，包括：

殼體，以及設(shè)置在所述殼體底部的氣體分布裝置；

其中，所述氣體分布裝置為如權(quán)利要求1-6任一項所述的氣體分布裝置，或者，如權(quán)利要求7-12任一項所述的氣體分布裝置；

所述氣體分布裝置中的第二布?xì)獍搴偷谝徊細(xì)獍逖厮鰵んw的軸向由下向上間隔設(shè)置，且當(dāng)所述氣體分布裝置為如權(quán)利要求1-6任一項所述的氣體分布裝置時，所述第一布?xì)獍迮c所述第二布?xì)獍宓闹行妮S線重合；當(dāng)所述氣體分布裝置為如權(quán)利要求7-12任一項所述的氣體分布裝置時，所述風(fēng)帽設(shè)置于所述第二布?xì)獍宄蛩龅谝徊細(xì)獍宓囊粋?cè)；

所述第二布?xì)獍迮c所述殼體的下部圍合成氣室，所述氣室上設(shè)置有載熱氣進(jìn)口；

所述第一布?xì)獍迮c所述殼體的上部圍合成干燥室，所述干燥室的上部設(shè)置有待干燥物料進(jìn)口。