[實用新型]一種線性電磁執(zhí)行元件掩模有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821284818.0 | 申請日： | 2018-08-10 |
| 公開（公告）號： | CN208721977U | 公開（公告）日： | 2019-04-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 劉飛豹;劉浩雨 | 申請（專利權(quán)）人： | 景瓷精密零部件（桐鄉(xiāng)）有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/48 | 分類號： | G03F1/48 |
| 代理公司： | 嘉興啟帆專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33253 | 代理人： | 李伊飏 |
| 地址： | 314000 浙江省嘉興市桐*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 掩模板 防塵 抗反射膜 上表面 下表面 涂料 線性電磁 保護膜 硅橡膠 高分子聚合物材料 聚硅氧烷聚合物 芯片 保護膜玻璃 本實用新型 表面涂覆 頂部設(shè)置 光柵 反射性 防潮性 防塵膜 硅晶片 鉻膜 晶片 涂覆 掩模 制作 | ||
1.一種線性電磁執(zhí)行元件掩模，包括掩模板(1)，其特征在于，所述掩模板(1)的底部設(shè)置有硅晶片(2)，所述掩模板(1)的頂部設(shè)置有芯片(3)，所述芯片(3)的上表面設(shè)置有光柵格(4)，所述掩模板(1)的下表面涂覆有第一防塵涂料(9)，所述第一防塵涂料(9)的下表面安裝有第一保護膜(5)，所述第一保護膜(5)的下表面設(shè)置有玻璃晶片(6)，所述玻璃晶片(6)的下表面設(shè)置有抗反射膜(7)，所述抗反射膜(7)的下表面設(shè)置有鉻膜(8)，所述鉻膜(8)的下表面安裝有第二保護膜(10)，所述第二保護膜(10)的下表面涂覆有第二防塵涂料(11)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種線性電磁執(zhí)行元件掩模，其特征在于，所述鉻膜(8)為濺射鉻。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種線性電磁執(zhí)行元件掩模，其特征在于，所述第一防塵涂料(9)和第二防塵涂料(11)均由聚硅氧烷聚合物材料制作而成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種線性電磁執(zhí)行元件掩模，其特征在于，所述第一保護膜(5)和第二保護膜(10)均由硅橡膠高分子聚合物材料制作而成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種線性電磁執(zhí)行元件掩模，其特征在于，所述玻璃晶片(6)由合成石英玻璃材料制作而成。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
