[實用新型]氮化鋁單晶生長用坩堝蓋有效
| 申請號: | 201821261322.1 | 申請日: | 2018-08-07 |
| 公開(公告)號: | CN208917342U | 公開(公告)日: | 2019-05-31 |
| 發明(設計)人: | 王曉丹;陳飛飛;毛紅敏;李祥;葛麗娟 | 申請(專利權)人: | 蘇州科技大學 |
| 主分類號: | C30B29/40 | 分類號: | C30B29/40;C30B23/00 |
| 代理公司: | 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103 | 代理人: | 王健 |
| 地址: | 215009 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 固定腳架 坩堝蓋 本實用新型 氮化鋁單晶 折彎部 襯底 設計結構 生長過程 隱患問題 折彎部位 主體形狀 圓心 高溫膠 夾角為 碳污染 下表面 掉落 生長 下端 穩固 | ||
本實用新型公開一種氮化鋁單晶生長用坩堝蓋,包括坩堝蓋主體、至少2個固定腳架,所述固定腳架固定于坩堝蓋主體的下表面,所述固定腳架的下端具有一折彎部,此折彎部與固定腳架的夾角為90°,所述固定腳架的折彎部位于朝向圓心的一側,所述坩堝蓋主體形狀為圓形,所述固定腳架相互成90°夾角分布。本實用新型設計結構簡單、科學合理,使用方便,能夠解決高溫膠帶來的碳污染問題,同時還解決了在生長過程中襯底掉落的隱患問題,其次,襯底可以更方便穩固的放置在固定腳架上。
技術領域
本實用新型涉及物理氣相傳輸方法生長氮化鋁單晶領域,尤其涉及一種氮化鋁單晶生長用坩堝蓋。
背景技術
因采用AlN單晶作為外延襯底可以大幅降低薄膜中的缺陷密度,提高器件的性能,在制備高溫、高頻、高功率電子器件方面有很好的應用前景,尤其在藍光-紫外固態激光二極管、激光器、GaN基高電子遷移率晶體管器件和日盲型AlGaN紫外探測器的襯底方面具有獨特優勢。
物理氣相傳輸方法是被認為是最有可能實現AlN體單晶商業化生產的理想途徑。在物理氣相傳輸方法制備AlN體單晶的過程中,需要先將襯底固定在坩堝蓋的下表面。目前,一般采用高溫膠的方式將襯底粘在坩堝蓋下表面,但這種方式有以下兩個問題:一是高溫膠中含碳,如果用鎢坩堝,將不可避免的帶來對鎢坩堝的污染,生成碳化鎢,降低坩堝壽命;二是采用高溫膠固定的方式存在固定不穩固的隱患,襯底有可能掉落。如何克服上述技術問題成為本領域技術人員努力的方向。
實用新型內容
本實用新型的目的是提供一種氮化鋁單晶生長用坩堝蓋,該坩堝蓋能夠很好的解決現有技術中存在的問題。該氮化鋁單晶生長用坩堝蓋設計結構簡單、科學合理,使用方便,能夠解決高溫膠帶來的碳污染問題,同時還解決了在生長過程中襯底掉落的隱患問題。
為達到上述目的,本實用新型采用的技術方案是:一種多氮化鋁單晶生長用坩堝蓋,包括坩堝蓋主體、至少2個固定腳架,所述固定腳架固定于坩堝蓋主體的下表面,所述固定腳架的下端具有一折彎部,此折彎部與固定腳架的夾角為90°,所述固定腳架的折彎部位于朝向圓心的一側。
上述技術方案中進一步改進的方案如下:
1. 上述方案中,所述坩堝蓋主體形狀為圓形。
2. 上述方案中,所述固定腳架的數目為3個,其中2個相向設置,剩余一個設置于2個固定腳架之間。
3. 上述方案中,所述固定腳架設置于坩堝蓋主體的邊緣區域。
4. 上述方案中,所述固定腳架相互成90°夾角分布。
5. 上述方案中,所述至少2個固定腳架的形狀相同。
由于上述技術方案的運用,本實用新型與現有技術相比具有下列優點:
本實用新型氮化鋁單晶生長用坩堝蓋,其設計結構簡單、科學合理,使用方便,能夠解決高溫膠帶來的碳污染問題,同時還解決了在生長過程中襯底掉落的隱患問題;其次,其固定腳架相互成90°夾角安裝且均為朝向圓心的直角結構,襯底可以更方便穩固的放置在固定腳架上。
附圖說明
附圖1為本實用新型氮化鋁單晶生長用坩堝蓋仰視圖;
附圖2為本實用新型氮化鋁單晶生長用坩堝蓋側視圖。
以上附圖中:1、坩堝蓋主體;2、固定腳架;3、折彎部。
具體實施方式
下面結合實施例對本發明作進一步描述:
實施例1:一種氮化鋁單晶生長用坩堝蓋,包括坩堝蓋主體1、至少2個固定腳架2,所述固定腳架2固定于坩堝蓋主體1的下表面,所述固定腳架的下端具有一折彎部3,此折彎部3與固定腳架2的夾角為90°,所述固定腳架2的折彎部3位于朝向圓心的一側。
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