[實用新型]進出片室和真空鍍膜設備

有效

• 申請號: 201821170181.2
• 申請日: 2018-07-23
• 公開（公告）號: CN208883973U
• 公開（公告）日: 2019-05-21
• 發明（設計）人: 樊文鳳;張陽
• 申請（專利權）人: 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司
• 主分類號: C23C14/22
• 分類號: C23C14/22;C23C14/56
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;黃燦

本實用新型提供一種進出片室和真空鍍膜設備，用于對基片進行真空鍍膜，所述進出片室包括殼體，所述進出片室還包括至少一個密封的不銹鋼盒體，所述不銹鋼盒體設置于所述殼體內，所述不銹鋼盒體用于填充所述殼體內的空間。本實用新型通過在進出片室內設置密封的不銹鋼盒體作為腔室填充件填充進出片室內的空間，能夠減少將進出片室內的氣體體積，從而減少抽真空過程的抽氣量以及破真空過程的進氣量，能夠提高生產效率。

技術領域

本實用新型涉及真空鍍膜技術領域，尤其涉及一種進出片室和真空鍍膜設備。

背景技術

真空鍍膜指的是在低壓狀態下把金屬、合金或化合物進行蒸發或濺射，使其在基片(或稱基板、基體)上凝固并沉積形成鍍膜的加工過程。該加工過程通常在真空鍍膜設備的進出片室內進行，通常包括依次循環進行的破真空、開啟進出片室、進出片、關閉進出片室、抽真空、鍍膜這六個主要步驟。

為了便于維護及適應不同尺寸的基片，進出片室內側通常會在帶動基片移動的滾輪組件上方預留較大的空間，然而在進行小尺寸基片鍍膜時，由于這部分空間的存在，會導致在抽真空過程中的抽氣量和破真空中的進氣量增加，從而延長了抽真空和破真空過程的時間，影響生產效率。

實用新型內容

本實用新型提供一種進出片室和真空鍍膜設備，以解決現有的真空鍍膜設備的抽真空和破真空過程時間長而影響生產效率的問題。

第一方面，本實用新型提供了一種進出片室，用于對基片進行真空鍍膜，所述進出片室包括殼體，所述進出片室還包括至少一個密封的不銹鋼盒體，所述不銹鋼盒體設置于所述殼體內，所述不銹鋼盒體用于填充所述殼體內的空間。

可選的，所述不銹鋼盒體的外表面粗糙度等級為Ra≤0.2um。

可選的，所述不銹鋼盒體設置于所述殼體的頂板。

可選的，所述不銹鋼盒體通過連接件可拆卸地吊裝于所述殼體的頂板。

可選的，所述不銹鋼盒體內部設置有隔板，所述隔板將所述不銹鋼盒體內分隔成多個腔室。

可選的，所述不銹鋼盒體內設置有加強筋，所述加強筋的兩端分別與所述不銹鋼盒體一組相對的內壁相連。

可選的，所述不銹鋼盒體外側設置有加強箍，且所述加強箍環繞所述不銹鋼盒體設置。

可選的，所述進出片室還包括設置于所述殼體的底板上的滾輪組件，所述滾輪組件包括多組間隔設置的滾輪，相鄰兩個所述滾輪之間設置有至少一個所述不銹鋼盒體，且設置于相鄰兩個滾輪之間的不銹鋼盒體的高度小于各所述滾輪的高度。

可選的，設置于滾輪之間的所述不銹鋼盒體，焊接于所述殼體的底板上或通過緊固件可拆卸地固定于所述殼體的底板上。

第二方面，本實用新型還提供了一種真空鍍膜設備，包括上述任一項所述的進出片室。

本實用新型通過在進出片室內設置密封的不銹鋼盒體作為腔室填充件填充進出片室內的空間，能夠減少將進出片室內的氣體體積，從而減少抽真空過程的抽氣量以及破真空過程的進氣量，能夠提高生產效率。本公開實施例的不銹鋼盒體為密封的中空填充件，不銹鋼結構更強，從而壁厚更薄，填充件重量更輕，可以降低進出片室的負載。

在優選的實施例中，不銹鋼盒體的外表面拋光至表面光亮或鏡面光亮，表面粗糙度等級為Ra≤0.2um，從而減少外表面氣體的附著，進一步減小真空過程中外接抽真空裝置的吸氣量，快速達到真空。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例的技術方案，下面將對本實用新型實施例描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動性的前提下，還可以根據這些附圖獲取其他的附圖。