[實用新型]一種鋁蒸發(fā)槽結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821141760.4 | 申請日: | 2018-07-17 |
| 公開(公告)號: | CN208717422U | 公開(公告)日: | 2019-04-09 |
| 發(fā)明(設計)人: | 張德強 | 申請(專利權(quán))人: | 江門市兆業(yè)科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/26 | 分類號: | C23C14/26;C23C14/14 |
| 代理公司: | 廣州嘉權(quán)專利商標事務所有限公司 44205 | 代理人: | 關達津 |
| 地址: | 529000 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 蒸發(fā)槽 密封罩 蒸發(fā)舟 槽體 薄膜 伸進 兩端連接電極 本實用新型 進口和出口 薄膜鍍膜 金屬液體 金屬蒸汽 寬度設置 通電加熱 有效限制 供電極 金屬絲 進料孔 密封孔 揮發(fā) 側(cè)壁 清洗 承接 穿過 加工 | ||
1.一種鋁蒸發(fā)槽結(jié)構(gòu),包括槽體(1)、設置在槽體(1)中的蒸發(fā)舟(2),所述蒸發(fā)舟(2)兩端連接電極(3)以通電加熱,其特征在于:所述蒸發(fā)舟(2)中部設置蒸發(fā)槽(4)以承接金屬液體且所述蒸發(fā)槽(4)長度與待加工薄膜寬度適應,所述槽體(1)中設置有密封罩(5),所述密封罩(5)設置在所述蒸發(fā)槽(4)上方,寬度與所述蒸發(fā)槽(4)長度適應,側(cè)壁上設置有供電極(3)與蒸發(fā)舟(2)端部伸進連接的密封孔以及供金屬絲(6)伸進的進料孔,所述密封罩(5)兩端分別設置有適應薄膜厚度且供所述薄膜穿過的進口和出口(7)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鋁蒸發(fā)槽結(jié)構(gòu),其特征在于:所述密封罩(5)側(cè)壁底部與槽體(1)底面連接,所述密封孔承接蒸發(fā)舟(2)和電極(3),所述電極(3)和蒸發(fā)舟(2)連接處設置于所述密封孔內(nèi),所述密封孔端部設置有密封擋圈以密封。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鋁蒸發(fā)槽結(jié)構(gòu),其特征在于:所述槽體(1)側(cè)壁上設置有承接部,所述電極(3)上與連接蒸發(fā)舟(2)的一端相對的一端為外端,所述承接部供所述電極(3)的外端放置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鋁蒸發(fā)槽結(jié)構(gòu),其特征在于:所述槽體(1)的側(cè)壁高于所述密封罩(5)的高度,所述槽體(1)上設置有密封擋板(8)以蓋住槽體(1)的槽口,進一步密封,同時所述槽體(1)上的兩端側(cè)壁上設置有供薄膜分別進出的第二進口和第二出口。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種鋁蒸發(fā)槽結(jié)構(gòu),其特征在于:所述第二進口和所述第二出口以及密封罩(5)上的進口和出口(7)均設置在同一高度上,且形狀均為與薄膜寬度相適應的長方形槽。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于江門市兆業(yè)科技有限公司,未經(jīng)江門市兆業(yè)科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201821141760.4/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:鍍鋁機的鍍鋁箱
- 下一篇:一種離子源多弧柱弧復合PVD鍍膜系統(tǒng)
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





