[實用新型]分子束外延系統(tǒng)的進樣裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821025396.5 | 申請日： | 2018-06-29 |
| 公開（公告）號： | CN208594347U | 公開（公告）日： | 2019-03-12 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陳意橋;陳超;趙曼曼 | 申請（專利權(quán)）人： | 蘇州焜原光電有限公司 |
| 主分類號： | C30B25/02 | 分類號： | C30B25/02;C30B25/08 |
| 代理公司： | 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 湯東鳳 |
| 地址： | 215000 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 操作室 進樣裝置 過渡艙 襯底 分子束外延系統(tǒng) 操作口 進樣室 本實用新型 電子元器件 抽氣機構(gòu) 換氣機構(gòu) 密閉空間 外延生長 可開關(guān) 隔開 進樣 內(nèi)門 室門 手套 外門 潔凈 室內(nèi) 保證 | ||
本實用新型屬于電子元器件技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種分子束外延系統(tǒng)的進樣裝置，包括與MBE進樣室連接的操作室和設(shè)在所述操作室上的過渡艙；所述MBE進樣室與所述操作室之間具有可開關(guān)的室門；所述操作室具有兩個面向大氣的操作口，所述操作口的內(nèi)側(cè)設(shè)有將操作室與大氣隔開的手套，所述操作室上設(shè)有換氣機構(gòu)；所述過渡艙具有一個面向所述操作室內(nèi)的內(nèi)門和面向大氣的外門，所述過渡艙上設(shè)有抽氣機構(gòu)。本進樣裝置使襯底進樣的過程中經(jīng)過多個密閉空間，使襯底所處的環(huán)境逐步達到干燥潔凈無氧化的條件，保證襯底外延生長的質(zhì)量優(yōu)良。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及電子元器件技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種分子束外延系統(tǒng)的進樣裝置。
背景技術(shù)
分子束外延(MBE)是在超高真空環(huán)境下，通過把熱蒸發(fā)或裂解產(chǎn)生的原子或分子束投射到具有一定取向、一定溫度的清潔襯底上而生成高質(zhì)量晶體薄膜的外延生長技術(shù)。MBE設(shè)備對超高真空的要求極為嚴(yán)格，現(xiàn)有MBE裝置一般都為三室型，包括進樣室，預(yù)處理室和生長室，以保證設(shè)備生長室真空度和清潔度，但是在每次裝樣過程中，進樣室都要與大氣連通，襯底也會直接暴露在大氣中。為此，我司采用一種新的MBE系統(tǒng)進樣裝置。在進樣室前設(shè)計增加氮氣(或惰性氣體)氣氛操作裝置，使襯底在非大氣環(huán)境中完成包裝的拆除和裝樣過程，避免進樣室與大氣直接連通，也避免了襯底直接暴露在空氣中；此外生長完畢后的外延片產(chǎn)品被取出MBE系統(tǒng)后，可在此裝置中密封后再取出至大氣環(huán)境，以避免產(chǎn)品沾染大氣后對后續(xù)加工工藝產(chǎn)生不利影響。
現(xiàn)有MBE系統(tǒng)進樣室打開后直接與大氣相通，襯底裝入進樣室的過程中會直接暴露在空氣中，進樣室主要用于完成襯底的進樣和低溫除氣，除氣主要是去除襯底和樣品托暴露于空氣時吸附的水汽等。裝樣完成后，需要以100-200攝氏度烘烤襯底若干小時，此過程即為低溫除氣；等待進樣室真空度低于5x10-8Torr后，再將樣品傳入預(yù)處理室對襯底進行高溫除氣，然后傳送進入生長室進行外延生長。
現(xiàn)有MBE系統(tǒng)進樣室打開后直接與大氣相通，襯底裝入進樣室的過程中會直接暴露在空氣中，進樣室主要用于完成襯底的進樣和低溫除氣，除氣主要是去除襯底和樣品托暴露于空氣時吸附的水汽等。裝樣完成后，需要以100-200攝氏度烘烤襯底若干小時，此過程即為低溫除氣；等待進樣室真空度低于5x10-8Torr后，再將樣品傳入預(yù)處理室對襯底進行高溫除氣，然后傳送進入生長室進行外延生長。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的主要目的在于提供一種分子束外延系統(tǒng)的進樣裝置，其能夠使襯底進入MBE系統(tǒng)之前能夠進行更快更徹底的環(huán)境調(diào)節(jié)，避免其受到雜質(zhì)顆粒影響而產(chǎn)生表面缺陷。
本實用新型通過如下技術(shù)方案實現(xiàn)上述目的：一種分子束外延系統(tǒng)的進樣裝置，包括與MBE進樣室連接的操作室和設(shè)在所述操作室上的過渡艙；所述MBE進樣室與所述操作室之間具有可開關(guān)的室門；所述操作室具有兩個面向大氣的操作口，所述操作口的內(nèi)側(cè)設(shè)有將操作室與大氣隔開的手套，所述操作室上設(shè)有換氣機構(gòu)；所述過渡艙具有一個面向所述操作室內(nèi)的內(nèi)門和面向大氣的外門，所述過渡艙上設(shè)有抽氣機構(gòu)。
具體的，所述換氣機構(gòu)包括首末端都朝向操作室的循環(huán)管、設(shè)于循環(huán)管上的循環(huán)風(fēng)機和凈化器以及位于循環(huán)管出口的顆粒過濾器。
進一步的，所述操作室內(nèi)設(shè)有水含量探頭和氧含量探頭，所述循環(huán)風(fēng)機的啟停通過水含量探頭和氧含量探頭的檢測結(jié)果決定。
進一步的，所述抽氣機構(gòu)包括真空泵以及連接真空泵及過渡艙的抽氣管。
進一步的，所述抽氣管分出一個連通所述操作室的支路，在所述抽氣管的分支位置設(shè)有一個雙向開關(guān)。
進一步的，所述循環(huán)管上設(shè)有一個面向大氣的進氣支管，所述進氣支管上設(shè)有進氣閥，所述循環(huán)管與抽氣管之間設(shè)有支管，所述支管上設(shè)有泄氣閥。
進一步的，所述操作室內(nèi)設(shè)有氣壓計，所述泄氣閥和所述進氣閥的開關(guān)受氣壓計的檢測結(jié)果影響。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于蘇州焜原光電有限公司，未經(jīng)蘇州焜原光電有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201821025396.5/2.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
