[實用新型]一種加熱均勻的低溫箱式電阻爐有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821024168.6 | 申請日: | 2018-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN208547250U | 公開(公告)日: | 2019-02-26 |
| 發(fā)明(設計)人: | 張剛;劉樹香;楊莉 | 申請(專利權)人: | 天津華勘商品檢驗有限公司 |
| 主分類號: | F27B14/06 | 分類號: | F27B14/06;F27B14/14;F27B14/10;F27D9/00 |
| 代理公司: | 天津市新天方專利代理有限責任公司 12104 | 代理人: | 張強 |
| 地址: | 300181*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 盤管 箱式電阻爐 爐體 爐膛 本實用新型 加熱均勻 內襯層 外襯層 底座 能量轉換 超聲發(fā)生器 超聲換能器 上下移動 燒結效果 受熱均勻 物料振動 變幅桿 加熱層 套在 體內 | ||
本實用新型是一種加熱均勻的低溫箱式電阻爐,包括底座、爐體和兩個盤管,所述爐體設置在所述底座上,所述爐體內設有爐膛,所述爐膛與所述爐體之間由內至外依次設有加熱層、內襯層和外襯層,兩個所述盤管套在所述內襯層外且所述盤管橫向嵌在所述外襯層內,向盤管中注入冷水能夠加速箱式電阻爐降溫,同時本實用新型設有超聲發(fā)生器和超聲換能器,利用能量轉換,使變幅桿上下移動,從而起到對物料振動的作用,使物料受熱均勻從而達到理想的燒結效果。
技術領域
本實用新型涉及科研實驗加熱設備技術領域,尤其涉及一種加熱均勻的低溫箱式電阻爐。
背景技術
電阻爐是利用電阻絲或電阻帶為發(fā)熱元件的加熱爐,工作溫度在650℃以下的為低溫爐;650~1000℃為中溫爐;1000℃以上為高溫爐,適用于各大專院校及科研院所,進行金屬材料、陶瓷材料的燒結,某些單晶體的熱處理,耐火材料的高溫重燒收縮的檢測和研究。目前現有的箱式電阻爐大部分都存在冷卻降溫時間長等問題,而且置于箱式電阻爐中的物質常常因受熱不均勻而達不到理想的燒結效果,最終導致實驗反反復復,浪費時間。
發(fā)明內容
本實用新型旨在解決現有技術的不足,而提供一種加熱均勻的低溫箱式電阻爐。
本實用新型為實現上述目的,采用以下技術方案:一種加熱均勻的低溫箱式電阻爐,其特征在于,包括底座、爐體和兩個盤管,所述爐體設置在所述底座上,所述爐體內設有爐膛,所述爐膛與所述爐體之間由內至外依次設有加熱層、內襯層和外襯層,兩個所述盤管套在所述內襯層外且所述盤管橫向嵌在所述外襯層內,所述外襯層上方設有控制層,所述外襯層底部中心位置設有第一支撐架,所述第一支撐架上端置于所述爐膛內底部,兩個所述盤管分別位于所述第一支撐架的左右兩側,所述第一支撐架底部連有超聲波換能器,所述超聲波換能器置于所述底座上,所述超聲波換能器連有超聲波發(fā)生器,所述超聲波發(fā)生器置于所述底座上,所述第一支撐架頂部固接有內部中空的變幅桿,所述變幅桿頂端固接有物料放置盤,所述物料放置盤上均布有若干個凹槽,所述凹槽底部低于所述物料放置盤,所述凹槽正上方設有圓環(huán)形卡座,所述圓環(huán)形卡座左右兩端各固接有一個第二支撐架,所述第二支撐架底部與所述物料放置盤固接,所述圓環(huán)形卡座內壁上均布有若干根第一陶瓷彈簧,所述第一陶瓷彈簧連有卡板,所述卡板底部連有第二陶瓷彈簧,所述第二陶瓷彈簧下端固定在所述物料放置盤上,所述爐膛內設有固定板,所述固定板位于所述物料放置盤上方,所述固定板的大小與所述物料放置盤的大小相匹配,所述固定板底部連有兩根第三陶瓷彈簧,所述第三陶瓷彈簧下端連有蓋板,所述蓋板位于所述凹槽的上方,所述控制層內設有豎直放置的電動伸縮桿,所述電動伸縮桿下端伸入所述爐膛內,且與所述固定板頂部中心位置連接,所述控制層內設有兩套控水裝置,兩套所述控水裝置分別設置在所述電動伸縮桿的左右兩側,所述控水裝置包括冷水箱、冷水泵和閥門,所述冷水箱一側與所述盤管進水管連接,所述冷水箱另一側與所述盤管出水管連接,所述冷水泵設置在所述盤管進水管上,所述冷水泵位于所述冷水箱左側,所述閥門在所述盤管進水管上,所述閥門位于所述冷水箱與所述冷水泵之間。
特別的,在所述爐體中部設有爐口。
特別的,所述凹槽為倒梯形槽。
本實用新型的有益效果是:本實用新型在加熱層外設有內襯層和外襯層,外襯層內設有盤管,向盤管中注入冷水能夠加速箱式電阻爐降溫,同時本實用新型設有超聲發(fā)生器和超聲換能器,利用能量轉換,使變幅桿上下移動,從而起到對物料振動的作用,使物料受熱均勻從而達到理想的燒結效果。
附圖說明
圖1為本實用新型的結構示意圖;
圖2為物料放置盤的俯視圖;
圖3為圓環(huán)形卡座的俯視圖;
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