[實用新型]一種用于高階半導體的精密洗凈處理設備

有效

• 申請號: 201820995769.5
• 申請日: 2018-06-25
• 公開（公告）號: CN208256617U
• 公開（公告）日: 2018-12-18
• 發明（設計）人: 吳典玠
• 申請（專利權）人: 世巨科技（合肥）有限公司
• 主分類號: H01L21/02
• 分類號: H01L21/02;H01L21/67
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于高階半導體的精密洗凈處理設備，包括外殼(1)、集液槽(6)、儲液箱(9)、第一輸送泵(11)、加熱器(14)、流量控制閥(19)和控制器(21)，其特征在于：所述外殼(1)的內部安裝有分隔板(2)，所述分隔板(2)的左側安裝有導流板(3)；

所述導流板(3)上安裝有放置板(4)，所述導流板(3)的下部安裝有集液槽(6)，所述集液槽(6)的下部安裝有進液管(8)，所述進液管(8)的下端安裝在儲液箱(9)的上部；

所述儲液箱(9)的右側安裝有輸液管(10)，所述輸液管(10)上安裝有第一輸送泵(11)，所述第一輸送泵(11)通過固定座(17)固定在外殼(1)上，所述輸液管(10)上安裝有檢測管(13)，所述輸液管(10)通過管道固定座(12)固定在分隔板(2)上，所述輸液管(10)的上端安裝在加熱器(14)上；

所述加熱器(14)的左側安裝有出液管(15)，所述出液管(15)上安裝有第二輸送泵(16)，所述出液管(15)的下端安裝有噴頭(20)，所述出液管(15)上安裝有流量控制閥(19)，所述外殼(1)的右側內壁上安裝有控制器(21)。

2.根據權利要求1所述的一種用于高階半導體的精密洗凈處理設備，其特征在于：所述放置板(4)通過支撐桿(5)固定在導流板(3)的上表面，所述放置板(4)上設置有分布均勻的漏液孔(25)，所述導流板(3)向右下側傾斜安裝。

3.根據權利要求1所述的一種用于高階半導體的精密洗凈處理設備，其特征在于：所述檢測管(13)通過連接座(22)與輸液管(10)固定連接，所述檢測管(13)上設置有安置腔(23)，所述安置腔(23)內安裝有溫度傳感器(24)。

4.根據權利要求1所述的一種用于高階半導體的精密洗凈處理設備，其特征在于：所述出液管(15)上的第二輸送泵(16)安置在分隔板(2)的左側，所述出液管(15)通過支架(18)固定在外殼(1)上部的內壁上，所述出液管(15)上的噴頭(20)正對放置板(4)的中間位置處。

5.根據權利要求1所述的一種用于高階半導體的精密洗凈處理設備，其特征在于：所述集液槽(6)安裝在導流板(3)的右下側，所述集液槽(6)的內部安裝有過濾網(7)，所述集液槽(6)與儲液箱(9)通過進液管(8)相互連通。

6.根據權利要求1所述的一種用于高階半導體的精密洗凈處理設備，其特征在于：所述控制器(21)通過傳導線分別與第一輸送泵(11)、加熱器(14)、第二輸送泵(16)、流量控制閥(19)和溫度傳感器(24)電性連接。