[實用新型]一種低氧高純鈦錠的電子束熔煉裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820968761.X | 申請日： | 2018-06-22 |
| 公開（公告）號： | CN208346240U | 公開（公告）日： | 2019-01-08 |
| 發(fā)明（設計）人： | 方樹銘;楊芃;辜鋒;杜波;李俊;李玉章;梁智;王應武;田明東 | 申請（專利權）人： | 昆明冶金研究院 |
| 主分類號： | C22B34/12 | 分類號： | C22B34/12;C22B9/22 |
| 代理公司： | 昆明知道專利事務所(特殊普通合伙企業(yè)) 53116 | 代理人： | 張玉;謝喬良 |
| 地址： | 650031 *** | 國省代碼： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 吸氧劑 高純鈦 放置裝置 電子束 電子束熔煉裝置 低氧 熔池 鑄錠 本實用新型 水冷銅坩堝 真空抽口 熔煉 熔煉真空室 產品品質 通氣小孔 真空環(huán)境 真空室 熔料 | ||
【權利要求書】：
1.一種低氧高純鈦錠的電子束熔煉裝置，其特征在于包括進料真空室（1），待熔料柱（2），熔煉真空室（3），水冷銅坩堝（4），吸氧劑放置裝置（5），電子束鑄錠熔池（6），真空抽口（13），所述的電子束鑄錠熔池（6）設置在水冷銅坩堝（4）的中心，所述的吸氧劑放置裝置（5）設置在電子束鑄錠熔池（6）和真空抽口（13）之間，所述的吸氧劑放置裝置（5）內放置有吸氧劑顆粒（11），且所述的吸氧劑放置裝置（5）四周設置有通氣小孔（14）。
2.根據權利要求1所述的低氧高純鈦錠的電子束熔煉裝置，其特征在于所述的吸氧劑放置裝置（5）通過支撐板（8）、壓盤螺栓（7）固接在水冷銅坩堝（4）靠近真空抽口（13）的一側。
4.根據權利要求1所述的低氧高純鈦錠的電子束熔煉裝置，其特征在于所述的通氣小孔（14）的孔徑小于吸氧劑顆粒（11）的粒徑。
5.根據權利要求1所述的低氧高純鈦錠的電子束熔煉裝置，其特征在于所述的吸氧劑顆粒（11）的粒徑為1~4mm。
6.根據權利要求1所述的低氧高純鈦錠的電子束熔煉裝置，其特征在于所述的吸氧劑顆粒（11）為鎂粒、鈣粒、鋰粒中的一種或多種。
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