[實用新型]基板研磨裝置有效
| 申請號: | 201820960579.X | 申請日: | 2018-06-21 |
| 公開(公告)號: | CN208592708U | 公開(公告)日: | 2019-03-12 |
| 發明(設計)人: | 崔東圭;林鐘逸;趙珳技 | 申請(專利權)人: | 凱斯科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B24B37/10 | 分類號: | B24B37/10;B24B37/34;B24B37/30 |
| 代理公司: | 北京冠和權律師事務所 11399 | 代理人: | 朱健;張國香 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基板 基板研磨裝置 研磨 基板移送部 基板表面 線性移動 研磨墊 研磨面 | ||
1.一種基板研磨裝置,其特征在于,其包括:
基板移送部,其以使得基板的被研磨面朝向上部的狀態移送所述基板;以及
研磨模塊,其設置于所述基板的上部,在與所述基板表面接觸的狀態下,研磨墊進行旋轉的同時進行線性移動,從而研磨所述基板。
2.根據權利要求1所述的基板研磨裝置,其特征在于,
所述研磨墊具有比所述基板小的大小,
所述研磨墊通過以其中心為基準的自轉、與所述基板表面平行的圓軌道旋轉或橢圓軌道旋轉中任意一種以上的操作來進行旋轉。
3.根據權利要求2所述的基板研磨裝置,其特征在于,
所述研磨模塊在所述基板上進行往返線性移動或Z字形態的線性移動,或者
所述基板相對于所述研磨模塊進行往返線性移動或Z字形態的線性移動。
4.一種基板研磨裝置,其特征在于,其包括:
研磨模塊,其在基板的被研磨面朝向上部的狀態下設置于所述基板的上部,包括用于研磨所述基板的研磨墊;
所述研磨墊在與所述基板的被研磨面接觸的狀態下進行自轉的同時進行往返線性移動,從而研磨所述基板,并且所述研磨墊以移動的軌跡重疊的形式進行移動。
5.根據權利要求4所述的基板研磨裝置,其特征在于,
所述研磨模塊在所述基板上沿著第一軸方向進行往返線性移動,
所述研磨模塊沿著與所述第一軸垂直的第二軸方向進行移動的軌跡所重疊的面積是一定的。
6.根據權利要求4所述的基板研磨裝置,其特征在于,
還包括基板移送部,基板移送部以使得所述基板的被研磨面朝向上部的狀態移送所述基板,
所述研磨模塊僅沿著第一軸方向進行往返線性移動,
所述基板移送部使得所述基板沿著第二軸方向進行線性移動。
7.根據權利要求6所述的基板研磨裝置,其特征在于,
所述研磨模塊在所述第二軸方向上的移動距離比所述研磨墊的尺寸小。
8.根據權利要求6所述的基板研磨裝置,其特征在于,
所述研磨模塊的所述重疊的面積比所述研磨墊的面積小。
9.根據權利要求4所述的基板研磨裝置,其特征在于,
所述研磨墊具有比所述基板小的大小,
所述研磨模塊通過以其中心為基準的自轉、與所述基板表面平行的圓軌道旋轉或橢圓軌道旋轉中任意一種以上的操作來進行旋轉。
10.根據權利要求9所述的基板研磨裝置,其特征在于,
所述研磨墊具有矩形、正方形、多邊形、圓形、橢圓形中任意一種形狀,
至少設置一個以上所述研磨墊。
11.根據權利要求1或4所述的基板研磨裝置,其特征在于,
還包括基板移送部,基板移送部以使得所述基板的被研磨面朝向上部的狀態移送所述基板,
所述基板移送部在表面形成有安置部,安置部用于裝載所述基板,
所述安置部形成為具有以下任意一個或者兩個以上組合的構成:摩擦結構,其防止所述基板從所述基板移送部滑脫;槽,所述基板插入于槽中;凸出結構,其支撐所述基板的邊緣中至少一部分。
12.根據權利要求1或4所述的基板研磨裝置,其特征在于,
還設置有基板載體,基板載體用于裝載所述基板,
所述基板載體形成為具有以下任意一個或者兩個以上組合的構成:吸附結構,其向所述基板提供真空或吸入力從而夾緊基板;產生摩擦力的結構,其防止所述基板滑脫;槽,所述基板插入于槽中;凸出結構,其支撐所述基板的邊緣中至少一部分。
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