[實用新型]雙舌板多供位倒手機構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820959948.3 | 申請日： | 2018-06-21 |
| 公開（公告）號： | CN208655598U | 公開（公告）日： | 2019-03-26 |
| 發(fā)明（設計）人： | 萬鑫;周東斌;劉金波;付玉磊;李向前;付廷喜;楊浩 | 申請（專利權(quán)）人： | 天津伍嘉聯(lián)創(chuàng)科技發(fā)展股份有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/677 | 分類號： | H01L21/677 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 300451 天津市濱海新*** | 國省代碼： | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 料盤 雙作用氣缸 直線模組 雙舌板 本實用新型 成本開支 生產(chǎn)效率 移動定位 上舌板 脫離 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.雙舌板多供位倒手機構(gòu)，它包括直線模組，所述的直線模組固定在工作底板上，其上方滑塊安裝有定位底板，所述的定位底板設有安裝孔，兩側(cè)立板、雙作用氣缸、直線軸承安裝在上面，其特征是：雙作用氣缸的出力軸與料盤固定連接，所述的雙作用氣缸通過直線軸承與上方通氣座連接，所述的通氣座前后各安裝一個舌板，其特點是：所述舌板上方安裝有限位板，所述的通氣座上安裝有第一反射傳感器與上下傳感器片，所述第一反射傳感器與料盤對應設置，上下傳感器片與氣缸上下極限位置對應設置，兩側(cè)立板上方安裝料盤定位板，定位板上安裝有用于定位的定位銷，倒手機構(gòu)中有兩條導向軌道安裝于支座上，支座固定于底板上，軌道側(cè)安裝一傳感器支架，所述傳感器支架上有感應軌道上是否有無料盤的第二反射傳感器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙舌板多供位倒手機構(gòu)，其特征為：通氣座的前后安裝兩個舌板。
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H01 基本電氣元件
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
