[實(shí)用新型]半導(dǎo)體器件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201820923789.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-06-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN208538858U | 公開(公告)日: | 2019-02-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 工藤弘儀;德田悟;打矢聰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 瑞薩電子株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01L27/088 | 分類號(hào): | H01L27/088;H01L23/528;H01L21/8234;H01L21/768 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 陳偉;閆劍平 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 布線 漂移區(qū)域 半導(dǎo)體器件 電連接 源極區(qū)域 導(dǎo)電膜 體區(qū)域 襯底 俯視 半導(dǎo)體 本實(shí)用新型 布線配置 漏極區(qū)域 柵極電極 包圍體 第二面 絕緣 配置 跨過(guò) | ||
1.一種半導(dǎo)體器件,其特征在于,
具有:
半導(dǎo)體襯底,其具有第一面、作為所述第一面的相反面的第二面;
第一布線及第二布線,其配置在所述第一面之上;
第一導(dǎo)電膜,其與所述第一布線電連接;和
柵極電極,
所述半導(dǎo)體襯底具有位于所述第一面的第一導(dǎo)電型的源極區(qū)域、位于所述第二面的所述第一導(dǎo)電型的漏極區(qū)域、位于所述漏極區(qū)域之上的所述第一導(dǎo)電型的漂移區(qū)域、和夾在所述源極區(qū)域與所述漂移區(qū)域之間的第二導(dǎo)電型的體區(qū)域,所述第二導(dǎo)電型為與所述第一導(dǎo)電型相反的導(dǎo)電型,
所述漂移區(qū)域配置成在俯視時(shí)包圍所述體區(qū)域,
所述第一布線配置成在俯視時(shí)跨過(guò)所述漂移區(qū)域與所述體區(qū)域的邊界,并且具有與所述漂移區(qū)域電連接的第一部分,
所述柵極電極與夾在所述源極區(qū)域與所述漂移區(qū)域之間的所述體區(qū)域絕緣且與所述體區(qū)域相對(duì)置,
所述第二布線與所述源極區(qū)域電連接,
所述第一導(dǎo)電膜與所述第二布線絕緣且與所述第二布線相對(duì)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,
還具有第二導(dǎo)電膜,該第二導(dǎo)電膜配置成跨過(guò)所述邊界、且與所述柵極電極電連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,
所述第二導(dǎo)電膜沿著所述邊界延伸。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,
所述第二導(dǎo)電膜配置成在俯視時(shí)與所述第一部分重疊。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,
所述第二導(dǎo)電膜具有位于所述漏極區(qū)域之上的第一端、和第二端,所述第二端為所述第一端的相反一側(cè)的端,
所述邊界與所述第一端之間的距離為3μm以上,
所述邊界與所述第二端之間的距離為3μm以上。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,
所述第一導(dǎo)電膜和所述第二導(dǎo)電膜位于同一層內(nèi)、且由同一材料構(gòu)成。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,
還具有第三布線,該第三布線配置在所述第一面之上、且與所述柵極電極電連接,
所述第三布線跨過(guò)所述邊界、且沿著所述邊界延伸,
所述第三布線具有第三端、和與所述第三端分開配置的第四端,
所述第一部分在俯視時(shí)從所述第三端與所述第四端之間通過(guò)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,
所述第三布線在所述第三端及所述第四端處與所述第二導(dǎo)電膜電連接。
9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,
還具有層間絕緣膜,該層間絕緣膜配置在所述第一面之上,
在所述層間絕緣膜中設(shè)有埋入有所述第二導(dǎo)電膜的至少一個(gè)以上溝槽。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,
所述溝槽的個(gè)數(shù)為多個(gè),
將彼此相鄰的所述溝槽之間的間隔除所述溝槽的寬度而得到的值在0.5以上1以下。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,
所述溝槽的所述寬度為0.2μm以上0.4μm以下。
12.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體器件,其特征在于,
所述第二導(dǎo)電膜一體地形成。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





