[實用新型]基板移送裝置有效
| 申請號: | 201820856568.7 | 申請日: | 2018-06-05 |
| 公開(公告)號: | CN208767258U | 公開(公告)日: | 2019-04-19 |
| 發明(設計)人: | 李載鴻 | 申請(專利權)人: | 凱斯科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/677;H01L21/687 |
| 代理公司: | 北京冠和權律師事務所 11399 | 代理人: | 朱健;張國香 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基板移送裝置 基板 移送單元 本實用新型 基板處理 基板污染 顆粒附著 支撐基板 蓋子 腔室 遮蓋 引入 | ||
1.一種基板移送裝置,其包括:
移送單元,其用于支撐基板并向基板處理用腔室引入基板或將基板引出;
蓋子,其對所述移送單元的上部進行遮蓋;
所述蓋子設置有凈化用流體噴射部,凈化用流體噴射部向所述基板和所述蓋子之間的空間噴射凈化用流體。
2.根據權利要求1所述的基板移送裝置,其特征在于,
所述蓋子設置為垂直地擋住所述基板的水平方向周圍的至少一個方向。
3.根據權利要求1所述的基板移送裝置,其特征在于,
所述蓋子設置為固定于所述移送單元。
4.根據權利要求1所述的基板移送裝置,其特征在于,還包括:
機械手主體,其設置有驅動部,驅動部提供使得所述移送單元進行移送的動力;
機械手臂,其一側緊固連接于所述機械手主體,在另一側末端設置有所述移送單元。
5.根據權利要求4所述的基板移送裝置,其特征在于,
所述機械手臂以收縮及伸長的形式形成,
在所述機械手臂收縮的狀態下,所述移送單元通過所述驅動部的驅動向所述腔室的基板出入口外側移動,并隨著所述機械手臂伸長而通過所述基板出入口被引入至所述腔室的內部。
6.根據權利要求4所述的基板移送裝置,其特征在于,
所述蓋子設置為固定于所述機械手主體。
7.根據權利要求6所述的基板移送裝置,其特征在于,
所述蓋子設置為,在所述機械手臂向所述機械手主體方向收縮的狀態下對所述移送單元的上部進行遮蓋。
8.根據權利要求7所述的基板移送裝置,其特征在于,
所述蓋子設置為延長至與所述腔室的基板出入口相鄰近的位置。
9.根據權利要求4所述的基板移送裝置,其特征在于,
所述蓋子設置為,在所述機械手臂和所述移送單元旋轉時一起旋轉并對所述移送單元的上部進行遮蓋。
10.根據權利要求4所述的基板移送裝置,其特征在于,
所述機械手主體設置有凈化用流體噴射部,凈化用流體噴射部向所述基板和所述蓋子之間的空間噴射凈化用流體。
11.根據權利要求6所述的基板移送裝置,其特征在于,
還設置有固定于所述移送單元的所述蓋子。
12.根據權利要求1或10所述的基板移送裝置,其特征在于,
所述蓋子的邊緣設置為向下側彎曲,從所述凈化用流體噴射部供給的流體以圍繞所述基板的周圍并進行流動的形式形成。
13.根據權利要求1或10所述的基板移送裝置,其特征在于,
從所述凈化用流體噴射部供給的流體是非活性氣體。
14.根據權利要求1所述的基板移送裝置,其特征在于,
從所述凈化用流體噴射部供給的流體是氮氣。
15.根據權利要求1或10所述的基板移送裝置,其特征在于,
從所述凈化用流體噴射部供給的流體是潔凈空氣。
16.根據權利要求1或10所述的基板移送裝置,其特征在于,
所述凈化用流體噴射部形成于所述基板的上側。
17.根據權利要求1或10所述的基板移送裝置,其特征在于,
所述凈化用流體噴射部形成于所述基板的水平方向周圍的一側。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





