[實用新型]一種金屬濺射系統中的阻隔式控制裝置

有效

• 申請號: 201820853413.8
• 申請日: 2018-06-01
• 公開（公告）號: CN208667833U
• 公開（公告）日: 2019-03-29
• 發明（設計）人: 岑永富;劉青健;蔣振聲;覃覺平
• 申請（專利權）人: 應達利電子股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/54
• 代理公司: 深圳市恒申知識產權事務所(普通合伙) 44312
• 代理人: 袁文英

本實用新型提供了一種金屬濺射系統中的阻隔式控制裝置，包括擋板單元、棒狀金屬、電源、電源控制器、頻率計和多個石英晶片，其特征在于，所述擋板單元與所述電源通過導線相連，所述電源與所述頻率計分別通過導線與所述電源控制器相連；所述多個石英晶片設置于同一條直線上，所述棒狀金屬與所述多個石英晶片的位置相對固定,且所述棒狀金屬與所述石英晶片互相平行；所述擋板單元設置在所述棒狀金屬與所述石英晶片之間；所述頻率計用于獲取所述石英晶片的頻率數據，并通過所述電源控制器指示所述擋板單元在所述棒狀金屬與所述石英晶片之間移動。本實用新型通過改變擋板方向來調整金屬離子濺射量，從而增加石英晶片頻率的一致性。

技術領域

本實用新型屬于離子流流量控制技術領域，尤其涉及一種金屬濺射系統中的阻隔式控制裝置。

背景技術

在石英晶體諧振器和振蕩器用的石英晶片電極的形成過程中，需要在真空狀態下給晶片的兩面各鍍上一層金屬膜形成電極以便導電。金屬真空濺射系統則是在真空狀態下同時給大量晶片的兩面各鍍上一層金屬電極膜的極佳系統。

通常情況下，金屬真空濺射系統是在真空狀態、高電壓和高溫下將金屬材料融解后形成帶電荷的金屬離子流，然后金屬離子流在真空空間的單向強電磁場的作用下沖向并附在大量石英晶片的表面，同時形成大量的金屬電極膜。由于同時對大量晶片進行濺射鍍膜，離棒狀金屬離子源中間部位近的石英晶片要比離棒狀金屬離子源中間部位遠的石英晶片獲得更多的金屬離子，從而增加了這些獲得更多金屬離子的晶片的有效厚度。這樣就使得大量在同時濺射電極膜時候的晶片于晶片之間的頻率相差較大，變差較大，頻率特性的一致性較差。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題在于在濺射電極膜時候的晶片與晶片之間的頻率相差較大，變差較大導致頻率特性的一致性較差。

為解決上述技術問題，本實用新型是這樣實現的，一種金屬濺射系統中的阻隔式控制裝置，包括擋板單元、棒狀金屬、電源、電源控制器、頻率計和多個石英晶片，其特征在于，

所述擋板單元與所述電源通過導線相連，所述電源與所述頻率計分別通過導線與所述電源控制器相連；

所述多個石英晶片設置于同一條直線上，所述棒狀金屬與所述多個石英晶片的位置相對固定,且所述棒狀金屬與所述石英晶片互相平行；

所述擋板單元設置在所述棒狀金屬與所述石英晶片之間；

所述頻率計用于獲取所述石英晶片的頻率數據，并通過所述電源控制器指示所述擋板單元在所述棒狀金屬與所述石英晶片之間移動。

進一步地，所述擋板單元包括擋板主體、轉軸、方向控制器和微型電機；

所述擋板主體與所述方向控制器通過轉軸相連，所述方向控制器通過導線與所述微型電機相連，所述微型電機通過導線與所述電源相連；

所述方向控制器可通過所述轉軸變換所述擋板主體的角度來對所述擋板主體進行移動。

進一步地，所述擋板主體的結構為網狀結構。

進一步地，所述棒狀金屬的材質包括：銀、鉻、鐵或銅。

本實用新型中的金屬濺射系統中的阻隔式控制裝置與現有技術相比，有益效果在于：通過擋板來減少棒狀金屬的金屬離子濺射量，通過調整金屬離子濺射量來使得石英晶片的金屬鍍膜平均，從而增加石英晶片頻率的一致性。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是本實用新型實施例中金屬濺射系統中的阻隔式控制裝置的示意圖。