[實用新型]一種邊界溫度條件光電成像系統像質定量評價裝置

有效

• 申請號: 201820781879.1
• 申請日: 2018-05-24
• 公開（公告）號: CN208751823U
• 公開（公告）日: 2019-04-16
• 發明（設計）人: 趙貴軍;張磊;張松;王海偉;張崇;崔超;孫樹紅;權明吉;彭佳琦;張繼真
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍陸軍沈陽軍事代表局駐長春地區軍事代表室
• 主分類號: G01M11/00
• 分類號: G01M11/00
• 代理公司: 北京中理通專利代理事務所(普通合伙) 11633
• 代理人: 劉慧宇

一種邊界溫度條件光電成像系統像質定量評價裝置，屬于光學檢測領域，為了滿足現有技術的需求，該裝置主要包括溫度模擬裝置、光學窗口、平行光管、積分球、三個機械調整裝置、計算機處理系統以及測試臺；溫度模擬裝置，其為具有除濕功能的高低溫試驗箱，被測光電成像系統設置在溫度模擬器內；光學窗口固定在溫度模擬裝置的側壁的通孔位置上；被測光電成像系統、光學窗口、平行光管和積分球依次同軸設置；測光電成像系統、平行光管和積分球分別設置在三個機械調整裝置上；平行光管和積分球所在的機械調整裝置安裝在測試臺上；計算機處理系統與被測光電成像系統連接；該裝置實現在邊界溫度條件下對典型的光電成像系統進行像質定量評價。

技術領域

本實用新型涉及一種邊界溫度條件光電成像系統像質定量評價裝置，屬于光學檢測領域，主要用于實現邊界溫度條件下典型光電成像系統的像質測試與定量評價。

背景技術

像質是光電成像系統的關鍵性能指標之一，是光學檢測領域重點關注的問題，直接影響光電成像系統的設計、制造和使用。研究表明，溫度對于光電成像系統的像質具有直接影響。

隨著光電技術和圖像處理技術的快速發展，光電成像系統在偵查、瞄準、校射、檢測等的應用越來越廣泛。依據應用領域的不同，光電成像系統都需要具有特定的溫度工作范圍，特殊情況下，需要在-40℃—50℃的溫度環境下正常工作。因此，必須關注溫度變化對像質的影響。然而，由于測試條件的限制，目前國內光電成像系統只能進行常規溫度環境的像質評價和高低溫環境下的存儲試驗，高低溫試驗也只是針對設備能否正常開機、調焦是否正常等簡單功能進行測試，而決定光電成像系統性能的成像質量的關鍵指標，如傳遞函數、分辨率等均無法在邊界溫度條件下進行考核。測試條件和方法的限制制約了光電成像系統的性能評價，為其在邊界溫度環境下的應用和使用效能的發揮埋下隱患。

目前尚未見到此種邊界溫度條件光電成像系統像質定量評價裝置的相關報道。

實用新型內容

本實用新型目的是提出一種能夠在邊界溫度條件下光電成像系統進行像質定量評價的檢測裝置。

技術方案如下：

邊界溫度條件光電成像系統像質定量評價裝置，其特征是，該裝置主要包括溫度模擬裝置、光學窗口、平行光管、積分球、三個機械調整裝置、計算機處理系統以及測試臺；溫度模擬裝置，其為具有除濕功能的高低溫試驗箱，被測光電成像系統設置在溫度模擬器內；光學窗口固定在溫度模擬裝置的側壁的通孔位置上；被測光電成像系統、光學窗口、平行光管和積分球依次同軸設置；測光電成像系統、平行光管和積分球分別設置在三個機械調整裝置上；平行光管和積分球所在的機械調整裝置安裝在測試臺上；計算機處理系統與被測光電成像系統連接。

該裝置中積分球發出的光經過平行光管出射平行的目標光，目標光通過光學窗口透射到溫度模擬裝置內，被測光電成像系統接收；被測光電成像系統通過被測光電成像系統自帶的CCD或CMOS探測器接收目標光并成像，被測光電成像系統將成像信息傳輸給計算機處理系統，計算機處理系統對所成的像進行運算和處理，用于進行像質評價。

所述光學窗口主要包括基礎法蘭、三個柔性結構、窗口玻璃、密封蓋、大密封圈、小密封圈、六個溫度傳感器、六個導熱片、三個電加熱片、三個制冷片和溫控單元；基礎法蘭的內環端面沿圓周均勻布置固定三個柔性機構；窗口玻璃的邊緣固定在基礎法蘭的內環上，徑向與沿圓周布置的三個柔性機構相切安裝；密封蓋與基礎法蘭外環通過螺栓連接；密封蓋內側設有兩個同心的環形密封槽，大密封圈和小密封圈分別放置在兩個密封槽內；在密封蓋上沿圓周均勻設置六個溫度傳感器，且溫度傳感器與光學玻璃接觸，用于測量光學玻璃的溫度；在光學玻璃的徑向端面上，每隔60°均勻地膠連六個導熱片，三個電加熱片和三個制冷片交替設置在相鄰的導熱片上；溫控單元主要包括單片機，其數據采集接口連接六個溫度傳感器，其控制接口連接三個電加熱片和三個制冷片，傳感器采集的溫度信號經單片機進行處理后發出控制指令，驅動電加熱片和制冷片加熱或制冷。

本實用新型的有益效果是：