[實用新型]復(fù)合網(wǎng)紋離型膜有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820730506.1 | 申請日： | 2018-05-16 |
| 公開（公告）號： | CN208247659U | 公開（公告）日： | 2018-12-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 顧偉杰 | 申請（專利權(quán)）人： | 浙江禾為新材料科技有限公司 |
| 主分類號： | B32B27/06 | 分類號： | B32B27/06;B32B27/36;B32B7/12;B32B3/08;B32B33/00 |
| 代理公司： | 嘉興永航專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33265 | 代理人： | 侯蘭玉 |
| 地址： | 314000 浙江省嘉興市南湖區(qū)*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 網(wǎng)紋 膜層 加強(qiáng)層 離型膜 微凹坑 本實用新型 復(fù)合網(wǎng) 粘結(jié)層 材料硬度 電暈處理 依次設(shè)置 單層 底面 頂面 網(wǎng)膜 填充 剝離 殘留 | ||
1.一種復(fù)合網(wǎng)紋離型膜，其特征在于：該復(fù)合網(wǎng)紋離型膜包括依次設(shè)置的網(wǎng)紋膜層和加強(qiáng)層，所述的網(wǎng)紋膜層為厚度0.15~0.3mm的網(wǎng)紋膜，所述的加強(qiáng)層為厚度0.075~0.1mm的PET薄膜，網(wǎng)紋膜層和加強(qiáng)層相鄰的表面均為經(jīng)電暈處理的具有若干均勻分布的微凹坑的平面，設(shè)于網(wǎng)紋膜層的微凹坑的平均半徑為15~60μm，設(shè)于加強(qiáng)層的微凹坑的平均半徑為7.5~20μm，網(wǎng)紋膜層和加強(qiáng)層中間設(shè)有粘結(jié)層，粘結(jié)層的頂面和底面填充所述網(wǎng)紋膜和PET薄膜的微凹坑。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合網(wǎng)紋離型膜，其特征在于：所述的加強(qiáng)層在遠(yuǎn)離網(wǎng)紋膜層的一面設(shè)有防靜電層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合網(wǎng)紋離型膜，其特征在于：所述的加強(qiáng)層在遠(yuǎn)離網(wǎng)紋膜層的一面設(shè)有防紫外線層。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的復(fù)合網(wǎng)紋離型膜，其特征在于：所述的防靜電層的厚度為50~75μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的復(fù)合網(wǎng)紋離型膜，其特征在于：所述的防紫外線層的厚度為5~20μm。
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