[實用新型]半導體封裝和CISCSP有效
| 申請號: | 201820698200.2 | 申請日: | 2018-05-11 |
| 公開(公告)號: | CN208589446U | 公開(公告)日: | 2019-03-08 |
| 發明(設計)人: | 徐守謙 | 申請(專利權)人: | 半導體元件工業有限責任公司 |
| 主分類號: | H01L27/146 | 分類號: | H01L27/146;H01L23/485 |
| 代理公司: | 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270 | 代理人: | 王美石;姚開麗 |
| 地址: | 美國亞*** | 國省代碼: | 美國;US |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 介電層 半導體封裝 焊盤 凸塊 開口 半導體管芯 密封材料 封裝 底部填充材料 本實用新型 向上延伸 母板 耦接 穿過 側面 暴露 | ||
本實用新型涉及半導體封裝和CISCSP封裝。半導體封裝的實施方式可包括:半導體管芯,所述半導體管芯包括第一介電層和多個焊盤,所述第一介電層具有穿過其中暴露所述多個焊盤中的每一個的至少一部分的多個開口。耦接到所述第一介電層的第二介電層的厚度可大于或等于所述第一介電層的厚度,并且所述第二介電層可具有與所述第一介電層中的所述多個開口相對應的多個開口。多個凸塊可與所述多個焊盤耦接到達所述第一介電層和所述第二介電層中的所述多個開口中。所述半導體封裝還可包括凸塊密封材料,所述凸塊密封材料沿所述多個凸塊的側面從所述多個焊盤的材料向上延伸。所述封裝可與母板耦接而不使用底部填充材料。
相關專利申請的交叉引用
本文件要求授予Shou-Chian Hsu的名稱為“CISCSP Package and RelatedMethods”(CISCSP封裝及相關方法)的美國臨時專利申請62/527,787的提交日期的權益,該申請提交于2017年6月30日,該申請的公開內容據此全文以引用方式并入本文。
技術領域
本文的各方面整體涉及圖像傳感器,更具體地涉及半導體封裝和CISCSP 封裝。
背景技術
一般來講,為了將半導體封裝耦接到母板,通常使用底部填充材料來填充母板與封裝上的凸塊之間的空間。在一些系統中,在半導體封裝與母板耦接以及施加和固化底部填充材料之前或之后,最初在半導體封裝上的凸塊周圍分布聚合物或其他材料。底部填充材料的使用是為了在封裝的熱循環期間防止與母板連接的點附近的凸塊的破裂或再分布層(RDL)電路的破裂。
實用新型內容
半導體封裝的實施方式可包括:半導體管芯,該半導體管芯包括第一介電層和多個焊盤,該第一介電層具有穿過其中暴露所述多個焊盤中的每一個的至少一部分的多個開口。半導體封裝還可包括耦接到第一介電層的第二介電層。第二介電層可具有與第一介電層中的所述多個開口相對應的多個開口。第二介電層的所述多個開口的寬度可大于第一介電層的所述多個開口的寬度。半導體封裝還可包括多個凸塊,所述多個凸塊與所述多個焊盤耦接到達第一介電層的所述多個開口中以及第二介電層的所述多個開口中。半導體封裝還可包括凸塊密封材料,該凸塊密封材料設置在所述多個凸塊周圍并且沿所述多個凸塊的側面從所述多個焊盤的材料向上延伸。該封裝可被配置為與母板耦接而不在所述多個凸塊與母板之間使用底部填充材料。
半導體封裝的實施方式可包括以下各項中的一者、全部或任何一者:
第二介電層的厚度可大于或等于第一介電層的厚度。
第一介電層的材料可為與第二介電層的材料相同和不同中的一者。
第二介電層的厚度可被配置為將焊料密封材料的密封高度提升到所需高度。
第二介電層的厚度可大于30微米。
半導體管芯可為圖像傳感器,其包括耦接到半導體管芯的多個微透鏡。圍壩可耦接在半導體管芯的周邊周圍。玻璃層可耦接到半導體管芯上方的圍壩。
第一介電層和第二介電層可各自使用噴涂、旋涂和層合中的一者來施加。
互補金屬氧化物半導體(CMOS)圖像傳感器芯片級封裝(CISCSP)的實施方式可包括:半導體管芯,該半導體管芯包括多個焊盤以及具有穿過其中的多個開口的第一焊料掩模限定(SMD)層。穿過第一焊料掩模的開口可暴露所述多個焊盤中的每一個的至少一部分。該封裝還可包括耦接到第一SMD層的第二非焊料掩模限定(NSMD)層。第二NSMD層可具有與第一SMD層中的所述多個開口相對應的多個開口。第二NSMD層的所述多個開口的寬度可大于第一SMD 層的所述多個開口的寬度。該封裝可具有多個凸塊,所述多個凸塊與所述多個焊盤耦接到達第一SMD層的所述多個開口中以及第二NSMD層的所述多個開口中。該封裝可具有凸塊密封材料,該凸塊密封材料設置在所述多個凸塊周圍并且沿所述多個凸塊的側面從所述多個焊盤的材料向上延伸。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于半導體元件工業有限責任公司,未經半導體元件工業有限責任公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201820698200.2/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





