[實用新型]一種研磨墊調整器有效
| 申請號： | 201820646138.2 | 申請日： | 2018-05-03 |
| 公開（公告）號： | CN208231570U | 公開（公告）日： | 2018-12-14 |
| 發明（設計）人： | 黃珂明 | 申請（專利權）人： | 晶晨半導體（深圳）有限公司 |
| 主分類號： | B24B53/017 | 分類號： | B24B53/017 |
| 代理公司： | 上海申新律師事務所 31272 | 代理人： | 俞滌炯 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 研磨盤 研磨墊 研磨 研磨臂 本實用新型 金剛石 化學研磨 驅動裝置 調整器 復數 盤面 軟刷 可移動地設置 表面顆粒 表面修整 對稱分布 二次處理 內部設置 預定路徑 速率和 凸出的 未連接 清潔 應用 | ||
1.一種研磨墊調整器，應用于化學研磨機，所述化學研磨機內部設置有研磨墊，其特征在于，包括研磨盤、連桿、研磨臂及驅動裝置；
所述研磨盤包括第一研磨盤與第二研磨盤，分別與所述研磨墊接觸，沿預定路徑進行旋轉；
所述第一研磨盤面向所述研磨墊的一面設置有凸出的復數個金剛石，所述第二研磨盤面向所述研磨墊的一面設置有復數個軟刷；
所述第一研磨盤與所述第二研磨盤對稱分布于所述連桿的下方；
所述研磨臂可移動地設置于所述連桿的上方；
所述驅動裝置連接所述研磨臂未連接所述研磨盤的一端。
2.根據權利要求1所述的研磨墊調整器，其特征在于，復數個所述金剛石的頂部位于同一高度。
3.根據權利要求1所述的研磨墊調整器，其特征在于，復數個所述軟刷自所述第二研磨盤的中心位置向外均勻分布。
4.根據權利要求1所述的研磨墊調整器，其特征在于，所述連桿的上方設置有第一轉軸，所述第一轉軸連接所述研磨臂；
所述連桿的下方至少設置有兩個第二轉軸，兩個所述第二轉軸分別連接所述第一研磨盤與所述第二研磨盤。
5.根據權利要求1所述的研磨墊調整器，其特征在于，所述第一研磨盤、所述第二研磨盤分別與所述連桿的旋轉方向一致。
6.根據權利要求1所述的研磨墊調整器，其特征在于，所述驅動裝置為旋轉電機。
7.根據權利要求1所述的研磨墊調整器，其特征在于，所述第一研磨盤與所述第二研磨盤均為圓盤狀結構，且所述第一研磨盤與所述第二研磨盤的半徑之和小于所述連桿的長度。
8.根據權利要求1所述的研磨墊調整器，其特征在于，還包括一電腦裝置，電連接所述驅動裝置。
9.一種化學機械研磨機，其特征在于，包括上述權利要求1-8所述的研磨墊調整器。
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