[實用新型]一種自清潔旋轉反應器

有效

• 申請號: 201820642644.4
• 申請日: 2018-05-02
• 公開（公告）號: CN208494234U
• 公開（公告）日: 2019-02-15
• 發明（設計）人: 李偉;王坤;史玉芬;詹蓉
• 申請（專利權）人: 江蘇遠方迪威爾設備科技有限公司
• 主分類號: B01J19/28
• 分類號: B01J19/28;B01J19/00
• 代理公司: 南京天華專利代理有限責任公司 32218
• 代理人: 李德濺;夏平

1.一種自清潔旋轉反應器，包括機架（1）、機身（2）、進料端（3）、出料端（4）、驅動機構（5）和導料抄板（6），其特征在于：所述的機身（2）內放置有多個瓷球（7）且導料抄板（6）通過筋板（8）固定在機身（2）的殼體內壁上，瓷球（7）能夠穿過筋板（8）內的縫隙和筋板（8）之間的間隙在機身（2）底部的殼體內壁上運動。

2.根據權利要求1所述的自清潔旋轉反應器，其特征在于：所述機身（2）的內腔中設置有限定瓷球（7）軸向運動范圍的隔擋（9），且隔擋（9）之間的間距為2.5～4m。

3.根據權利要求2所述的自清潔旋轉反應器，其特征在于：所述的隔擋（9）上設有多個端部半圓的直徑小于瓷球（7）的直徑的長圓孔。

4.根據權利要求1所述的自清潔旋轉反應器，其特征在于：所述的機架（1）包括托輪機構（10）和托輪擋輪機構（11），托輪機構（10）位于機身（2）的兩端且托輪擋輪機構（11）位于托輪機構（10）之間。

5.根據權利要求4所述的自清潔旋轉反應器，其特征在于：所述托輪機構（10）和托輪擋輪機構（11）中的托輥（12）上設有環狀凹槽（13），環狀凹槽（13）內設有能夠在托輥（12）和機身（2）之間滾動的滾圈（14）。

6.根據權利要求4或5所述的自清潔旋轉反應器，其特征在于：所述的托輪擋輪機構（11）機構還包括支撐機構（15），所述的支撐機構（15）包括能夠固定在結構底座上的安裝底板（16），安裝底板（16）的上方設有用于支撐旋轉設備機身的支座（17），在安裝底板（16）的頂部焊接有帶頂凹槽（18）的下滑道副（19）且支座（17）的底部焊接有帶底凹槽（20）的上滑道副（21），頂凹槽（18）和底凹槽（20）相對設置且兩者構成一個能夠容納滑塊（22）的腔體，所述的下滑道副（19）、滑塊（22）和上滑道副（21）構成一個完整的滑道副。

7.根據權利要求6所述的自清潔旋轉反應器，其特征在于：所述下滑道副（19）的下平面和上滑道副（21）的上平面之間留有間隙（23）；所述間隙（23）的高度與滑塊（22）的高度之比為10～15:100。

8.根據權利要求6所述的自清潔旋轉反應器，其特征在于：所述滑塊（22）的長度和頂凹槽（18）和底凹槽（20）的長度之比皆為90～95:100。