[實用新型]一種氣浮裝置、工件臺和光刻機

有效

• 申請號: 201820628746.0
• 申請日: 2018-04-28
• 公開（公告）號: CN208224713U
• 公開（公告）日: 2018-12-11
• 發明（設計）人: 吳文娟
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備(集團)股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

本實用新型公開了一種氣浮裝置、工件臺和光刻機，該氣浮裝置包括承載單元和氣浮單元；所述承載單元固定連接于所述氣浮單元的第一表面；所述氣浮單元包括多個出氣口，所述多個出氣口在所述氣浮單元的第二表面呈陣列分布；所述氣浮單元的第二表面與第一表面相對設置。本實用新型的技術方案通過在氣浮單元的第二表面設置呈陣列分布的出氣口，使氣浮裝置的第二表面受力均勻，變形小，從而提高了氣浮裝置的氣浮剛度。

技術領域

本實用新型涉及半導體器件加工技術領域，尤其涉及一種氣浮裝置、工件臺和光刻機。

背景技術

氣浮裝置是為緊密運動臺提供氣浮軸承支撐、以保證運動臺在氣浮平臺(一般為大理石氣浮平臺)上作無摩擦運動的關鍵部件，一般包括氣浮單元和預緊力單元。現有的氣浮裝置通常為方形氣浮裝置，在氣浮裝置的底面四個頂角處設置氣浮單元，中部為真空預緊力單元。氣浮裝置工作時，氣浮單元中通入正壓氣體，在氣浮裝置與氣浮平臺之間形成氣膜，使氣浮裝置受到氣浮力的支撐作用，保證氣浮裝置在氣浮平臺上作無摩擦運動，而真空預緊力單元則通入負壓氣體，使氣浮裝置受到與氣浮力大小相等、方向相反的真空預緊力作用，從而保證氣浮裝置受力平衡。通過調節氣浮力與真空預緊力的大小，即可調節氣浮裝置的氣浮剛度。

此時，若要提高氣浮裝置的氣浮剛度，需要同時增加氣浮力和真空預緊力，而隨著真空預緊力的增加，氣浮裝置底面中部會產生彎曲，從而使氣浮裝置與氣浮平臺之間的距離變小。由于氣浮裝置與氣浮平臺之間的氣膜厚度通常只有幾微米到十幾微米，因此，當氣浮裝置底面中部的彎曲量過大、與氣浮平臺接觸時，氣浮裝置與氣浮平臺之間將產生機械摩擦，導致氣浮裝置失去作用。

實用新型內容

本實用新型提供一種氣浮裝置、工件臺和光刻機，以使氣浮單元受力均勻，變形小，從而提高氣浮剛度。

第一方面，本實用新型實施例提出一種氣浮裝置，該氣浮裝置包括：承載單元和氣浮單元；

所述承載單元固定連接于所述氣浮單元的第一表面；

所述氣浮單元包括多個出氣口，所述多個出氣口在所述氣浮單元的第二表面呈陣列分布；

所述氣浮單元的第二表面與第一表面相對設置。

進一步地，所述氣浮單元還包括至少一個進氣口，以及連通所述至少一個進氣口與所述多個出氣口的氣路；

其中，所述至少一個進氣口位于所述氣浮單元的第三表面，所述第三表面連接所述第一表面與所述第二表面。

進一步地，還包括多個出氣孔道，所述氣路包括交叉連通的第一氣路與第二氣路；

每個所述出氣孔道的第一開口形成一所述出氣口，所述出氣孔道的第二開口與所述第一氣路和所述第二氣路連通，所述出氣孔道的第二開口設置于所述第一氣路與所述第二氣路的連通處。

進一步地，還包括多個堵頭接口；

所述多個堵頭接口設置于所述第一氣路位于所述氣浮單元的第三表面的開口處，以及所述第二氣路位于所述氣浮單元的第三表面的開口處；

在所述第一氣路和所述第二氣路在所述第三表面的開口，未設置所述堵頭接口的開口構成所述進氣口。

進一步地，還包括多個密封結構；

所述密封結構用于密封所述堵頭接口；

所述密封結構的數量等于所述堵頭接口的數量。

進一步地，還包括均壓機構；

所述均壓機構位于所述氣浮單元的第二表面；

所述均壓機構連接至少部分所述出氣口。

進一步地，所述均壓機構包括第一均壓槽和第二均壓槽；