[實用新型]一種LED芯片背鍍用壓蓋有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820584577.5 | 申請日: | 2018-04-23 |
| 公開(公告)號: | CN208183060U | 公開(公告)日: | 2018-12-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黃寧湘;魯俊雀;袁章潔 | 申請(專利權(quán))人: | 湘能華磊光電股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;H01L33/46 |
| 代理公司: | 長沙七源專利代理事務(wù)所(普通合伙) 43214 | 代理人: | 鄭雋;吳婷 |
| 地址: | 423038 湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 壓蓋 底面部 壓部 蓋板 容腔 本實用新型 邊緣空隙 固定芯片 密封接觸 頂面部 外沿 壓住 容納 延伸 加工 | ||
本實用新型提供了一種LED芯片背鍍用壓蓋,包括:蓋板,蓋板包括頂面部和適于與LED芯片相接觸的底面部,底面部的外沿邊緣設(shè)有延伸突出的適于蓋住LED芯片邊緣空隙的蓋壓部,蓋壓部與底面部組合構(gòu)成一開放型容腔,LED芯片容納于開放型容腔,并與蓋壓部內(nèi)側(cè)的接觸部分密封接觸。該LED芯片背鍍用壓蓋,旨在通過該壓蓋在背鍍加工時,壓住固定芯片,以防止溢鍍。
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及壓蓋,尤其是涉及一種LED芯片背鍍用壓蓋。
背景技術(shù)
目前,國內(nèi)LED市場逐漸趨向成熟,主要表現(xiàn)在LED產(chǎn)品的價格越來越低,性能越來越好。LED芯片亮度直接決定著價格,為了提升芯片亮度,LED企業(yè)普遍采用背鍍多層反射膜工藝以提升芯片亮度。在背鍍加工時,需要使用蓋子壓住固定芯片,以防止芯片掉落并防止背鍍材料從芯片邊緣空隙蒸發(fā)上去鍍到芯片正面,即溢鍍,導(dǎo)致產(chǎn)品品質(zhì)不良。
實用新型內(nèi)容
本實用新型提供一種LED芯片背鍍用壓蓋,旨在通過該壓蓋在背鍍加工時,壓住固定芯片,以防止溢鍍。
為了解決上述技術(shù)問題,本實用新型采取的技術(shù)方案為:
一種LED芯片背鍍用壓蓋,其包括:
蓋板,所述蓋板包括頂面部和適于與所述LED芯片相接觸的底面部,所述底面部的外沿邊緣設(shè)有延伸突出的適于蓋住所述LED芯片邊緣空隙的蓋壓部,所述蓋壓部與所述底面部組合構(gòu)成一開放型容腔,所述LED芯片容納于所述開放型容腔,并與所述蓋壓部內(nèi)側(cè)的接觸部分密封接觸。
優(yōu)選地,上述的一種LED芯片背鍍用壓蓋,其中所述接觸部分包括密封氣囊,其適于通過氣嘴對其充氣,直至與所述LED芯片邊緣抵接密封。
優(yōu)選地,上述的一種LED芯片背鍍用壓蓋,其中所述密封氣囊與所述LED芯片的接觸面成凹凸相間形,其包括多個相互間隔的凸部,相鄰所述凸部之間形成凹槽。
優(yōu)選地,上述的一種LED芯片背鍍用壓蓋,其中所述蓋壓部呈環(huán)形,其寬度為10mm,厚度為5mm。
優(yōu)選地,上述的一種LED芯片背鍍用壓蓋,其中所述蓋板上還設(shè)有放氣孔。
優(yōu)選地,上述的一種LED芯片背鍍用壓蓋,其中所述放氣孔的孔徑為1mm。
優(yōu)選地,上述的一種LED芯片背鍍用壓蓋,其中所述蓋板的頂面部還連接固定設(shè)有手柄。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型技術(shù)優(yōu)勢為:
該技術(shù)方案可通過該壓蓋完全蓋住LED芯片邊緣空隙,防止背鍍材料從芯片邊緣空隙蒸發(fā)上去鍍到芯片正面,另外,在接觸部分設(shè)置密封氣囊,密封氣囊適于通過氣嘴對其充氣,直至與LED芯片邊緣抵接密封,一方面起到密封作用,防止背鍍材料從芯片邊緣空隙蒸發(fā)上去鍍到芯片正面,即防止溢鍍發(fā)生,同時,另一方面密封氣囊與LED芯片邊緣柔性接觸,防止對LED芯片邊緣造成損壞。
還值得一提的是:密封氣囊與LED芯片的接觸面成凹凸相間形,其包括多個相互間隔的凸部,相鄰?fù)共恐g形成凹槽,如此,相鄰?fù)共糠謩e與LED芯片邊緣密封接觸,起到多級密封的作用,進(jìn)一步提高了密封效果,進(jìn)一步防止了溢鍍發(fā)生。
附圖說明
為了更清楚地說明本實用新型具體實施方式或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對具體實施方式或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖是本實用新型的一些實施方式,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1是本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是本實用新型部分結(jié)構(gòu)放大示意圖。
具體實施方式
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





