[實用新型]一種基于磁共振成像的光散射測量電路

有效

• 申請號: 201820523165.0
• 申請日: 2018-04-13
• 公開（公告）號: CN208172226U
• 公開（公告）日: 2018-11-30
• 發明（設計）人: 劉子龍;蔣依芹;甘海勇;張巧香
• 申請（專利權）人: 中國計量科學研究院
• 主分類號: G01R33/48
• 分類號: G01R33/48;G01N21/47
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司 11018
• 代理人: 閆煥娟;宋志強

本實用新型提供了一種基于磁共振成像的光散射測量電路，控制基于磁共振成像的光散射測量裝置進行光散射測量，所述光散射測量電路包括：光源發生器，所述光源發生器電連接所述光散射測量裝置；光探測器，所述光探測器電連接所述光散射測量裝置；時域跟隨器，所述時域跟隨器電連接所述光散射測量裝置；時域調制器，所述時域調制器電連接所述時域跟隨器、并電連接所述光源發生器和所述光探測器中的一者，所述時域跟隨器電連接所述光源發生器和所述光探測器中的另一者；處理器，所述處理器電連接所述光探測器、所述光散射測量裝置以及所述時域跟隨器。光散射測量電路控制并配合光散射測量裝置實現對光散射的測量，獲得連續光散射強度信號分布圖。

技術領域

本實用新型涉及光學技術領域，特別涉及一種基于磁共振成像的光散射測量電路。

背景技術

光散射是指光通過不均勻介質時一部分光偏離原方向傳播的現象，偏離原方向的光稱為散射光。與光的吸收一樣，光的散射也會通過物質的光的強度減弱，光的散射現象在各領域中均由特殊的用處。獲得光散射分布圖對研究物質特性具有重要的意義。

通常采用光散射測量儀獲取光散射分布圖，現有技術中光散射測量儀包括探測器、光源裝置、樣品架以及轉動裝置，將樣品放置在樣品架上后，光源直接入射到樣品的表面，探測器接收經樣品表面散射作用后的反射光束信號，從而獲得此狀態下的光散射強度信號值，利用特定的轉動裝置調整探測器、光源裝置、樣品架中的一者、兩者或三者，進而獲取不同入射角、不同反射角度以及樣品不同表面的光散射強度信號值。通過上述方法，通過獲得大量離散的光散射信號值生成的光散射分布圖，雖然通過大量次數的轉動操作，使得生成的光散射圖譜近似連續的，但實際上仍為離散的光散射圖譜，無法精確獲得樣品表面任一位置光散射的信號值，使用的局限性差，并且，在測量過程中通過轉動操作耗時長，測量效率低，特別是對于性能不穩定的測量對象或測量條件，測量偏差較大，甚至不能實現有效的測量。

對于本領域技術人員而言，如何利用磁共振成像獲得連續的光散射強度分布圖，獲得有效的信號值是亟待解決的問題之一。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供一種光散射測量電路，用于控制并配合光散射測量裝置實現對光散射的測量，獲得連續光散射強度信號分布圖。

本實用新型提供的一種基于磁共振成像的光散射測量電路，所述光散射測量電路用于連接產生磁共振光散射分布圖的光散射測量裝置，所述光散射測量電路包括：

光源發生器，所述光源發生器電連接所述光散射測量裝置；

光探測器，所述光探測器電連接所述光散射測量裝置；

時域跟隨器，所述時域跟隨器電連接所述光散射測量裝置；

時域調制器，所述時域調制器電連接所述時域跟隨器、并電連接所述光源發生器和所述光探測器中的一者，所述時域跟隨器電連接所述光源發生器和所述光探測器中的另一者；

處理器，所述處理器電連接所述光探測器、所述光散射測量裝置以及所述時域跟隨器。

可選地，所述光散射測量電路還包括：

第一門控機構，所述第一門控機構電連接在所述光源發生器與所述光散射測量裝置之間；

第二門控機構，所述第二門控機構電連接在所述光探測器與所述光散射測量裝置之間。

可選地，所述第一門控機構和所述第二門控機構分別與所述時域跟隨器和所述時域調制器對應電連接。

可選地，所述第一門控機構和所述第二門控機構均通過光纖與所述光散射測量裝置連接。

可選地，所述光散射測量電路還包括譜儀，所述譜儀電連接在所述處理器和所述光散射測量裝置之間。

可選地，所述譜儀通過光纖與所述光散射測量裝置連接。