[實用新型]一種鋼化后低顏色差異的單銀低輻射膜玻璃

有效

• 申請號: 201820516272.0
• 申請日: 2018-04-12
• 公開（公告）號: CN208182861U
• 公開（公告）日: 2018-12-04
• 發明（設計）人: 張山山;李險峰;沈曉晨;邱宏;羅雨瀟;劉云南
• 申請（專利權）人: 中建材光電裝備（太倉）有限公司
• 主分類號: C03C17/36
• 分類號: C03C17/36
• 代理公司: 安徽省蚌埠博源專利商標事務所 34113
• 代理人: 陳俊

本實用新型公開一種鋼化后低顏色差異的單銀低輻射膜玻璃，包括玻璃基底，玻璃基底頂面由下至上依次層疊有第一氮化硅層、第一鎳鉻層、銀層、第二鎳鉻層與第二氮化硅層；第一氮化硅層的厚度為15～35nm、第一鎳鉻層的厚度為1.5～3nm、銀層的厚度為9～15nm、第二鎳鉻層的厚度為1.5～5nm、第二氮化硅層的厚度為45～60nm；本實用新型合理搭配各膜層厚度，膜系結構合理，膜層穩定，鋼化前后顏色變化小，太陽光下玻面反射色肉眼觀察幾乎完全相同，鋼化前后產品可混用于同一工程；本實用新型只需采用常規靶材，利用磁控濺射工藝即可制備，成本低、工藝過程可控、穩定性高。

技術領域

本實用新型涉及功能玻璃技術領域，具體是一種鋼化后低顏色差異的單銀低輻射膜玻璃。

背景技術

單銀低輻射鍍膜玻璃，又稱LOW-E玻璃，是指在普通玻璃表面通過磁控濺射的方法沉積多層非金屬膜與一層金屬膜，金屬層材料通常選用銀，銀層作為功能層對紅外線有著較高的反射作用，從而起到了一定的隔熱保溫作用，達到節能損耗的效果。

低輻射鍍膜玻璃已普遍應用于建筑及汽車玻璃行業，市面上多數單銀低輻射鍍膜玻璃幾乎都是可鋼化產品，但鋼化后玻璃面反射色與鋼化前差異較大，肉眼可明顯區分出顏色差異，不能滿足行業需要。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種鋼化后低顏色差異的單銀低輻射膜玻璃，該玻璃在鋼化前與鋼化后的顏色差異小，滿足工程建設的需求。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：

一種鋼化后低顏色差異的單銀低輻射膜玻璃，包括玻璃基底，玻璃基底頂面由下至上依次層疊有第一氮化硅層、第一鎳鉻層、銀層、第二鎳鉻層與第二氮化硅層；

所述第一氮化硅層的厚度為15～35nm、第一鎳鉻層的厚度為1.5～3nm、銀層的厚度為9～15nm、第二鎳鉻層的厚度為1.5～5nm、第二氮化硅層的厚度為45～60nm。

本實用新型的有益效果是，采用玻璃基底第一氮化硅層/第一鎳鉻層/銀層/第二鎳鉻層/第二氮化硅層的復合膜系結構，第一氮化硅層與第二氮化硅層作為介質層，第一鎳鉻層與第二鎳鉻層作為保護層，并合理搭配各膜層厚度，膜系結構合理，膜層穩定，鋼化前后顏色變化小，太陽光下玻面反射色肉眼觀察幾乎完全相同，鋼化前后產品可混用于同一工程；本實用新型只需采用常規靶材，利用磁控濺射工藝即可制備，成本低、工藝過程可控、穩定性高。

附圖說明

下面結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明：

圖1是本實用新型的結構示意圖。

具體實施方式

實施例一

如圖1所示，本實用新型提供一種鋼化后低顏色差異的單銀低輻射膜玻璃，包括玻璃基底，玻璃基底頂面由下至上依次層疊有第一氮化硅層、第一鎳鉻層、銀層、第二鎳鉻層與第二氮化硅層；

所述第一氮化硅層的厚度為35nm、第一鎳鉻層的厚度為1.5nm、銀層的厚度為9nm、第二鎳鉻層的厚度為3nm、第二氮化硅層的厚度為45nm。

各膜層可采用磁控濺射工藝，通入工作氣體與反應氣體依次濺鍍，為了得到更優質的產品，現用表格形式提供磁控濺射時的參數，見表1。

表1

對本實施例得到的產品進行光學檢測，結果見表2。

表2

實施例二