[實用新型]基板處理裝置

有效

• 申請號: 201820501751.5
• 申請日: 2018-04-10
• 公開（公告）號: CN208584374U
• 公開（公告）日: 2019-03-08
• 發明（設計）人: 林鐘逸;趙珳技
• 申請（專利權）人: 凱斯科技股份有限公司
• 主分類號: B24B37/10
• 分類號: B24B37/10;B24B37/20;B24B37/34
• 代理公司: 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327
• 代理人: 姜虎;陳英俊

本實用新型涉及一種基板處理裝置，用于進行基板的研磨工序，包括：研磨墊，其研磨基板上表面；研磨頭，其具備接觸研磨墊的上表面的隔膜，相對于基板進行移動，借助于此，可以獲得提高研磨穩定性及研磨準確度的有利效果。

技術領域

本實用新型涉及基板處理裝置，更具體而言，涉及一種能夠提高基板的研磨穩定性及研磨均勻度的基板處理裝置。

背景技術

最近，隨著對信息顯示裝置關心的高漲，要利用能攜帶的信息介質的要求也正在提高，同時正在重點進行對替代原有顯示裝置的陰極射線管(Cathode Ray Tube；CRT)的輕薄型平板顯示裝置(Flat Panel Display；FPD)的研究及商業化。

在這種平板顯示裝置領域，迄今輕巧且耗電少的液晶顯示裝置(Liquid CrystalDisplay Device；LCD)是最受矚目的顯示裝置，但液晶顯示裝置不是發光元件而是受光元件，在亮度、對比度(contrast ratio)及視野角等方面存在缺點，因此正在開展能夠克服這種缺點的新顯示裝置的活躍開發。其中，作為最近倍受矚目的新一代顯示裝置之一，有有機發光顯示裝置(OLED:Organic Light Emitting Display)。

一般而言，顯示裝置中使用強度及透過性優秀的玻璃基板，最近，顯示裝置指向緊湊化及高像素(high-pixel)，因而需能夠準備與此相應的玻璃基板。

作為一個示例，作為OLED工序之一，在向非晶硅(a-Si)照射激光而結晶成多晶硅(poly-Si)的ELA(Eximer Laser Annealing，準分子激光晶化)工序中，在多晶硅結晶的同時，表面會發生凸起，這種凸起可能發生不均衡現象(mura-effects)，因此，玻璃基板應進行研磨處理，以便去除凸起。

為此，最近進行了旨在高效研磨基板表面的多樣研究，但還遠遠不夠，要求對此進行開發。

實用新型內容

所要解決的技術問題

本實用新型目的在于，提供一種能夠提高基板的處理效率、提高研磨穩定性及研磨均勻度的基板處理裝置。

特別是本實用新型目的在于，能夠根據基板的表面曲折而均勻地研磨基板。

另外，本實用新型目的在于，能夠在研磨工序中，穩定地保持研磨墊的配置狀態。

另外，本實用新型目的在于，能夠容易地進行研磨墊的更換、能夠簡化研磨墊的更換工序。

另外，本實用新型目的在于，能夠提高生產率及收率。

解決技術問題的方案

旨在達成所述本實用新型目的的本實用新型提供一種基板處理裝置，所述基板處理裝置包括：研磨墊，其研磨基板的上表面；研磨頭，其具備接觸研磨墊上表面的隔膜，相對于基板進行移動。

旨在達成所述本實用新型目的的本實用新型提供的基板處理裝置中，所述隔膜由能夠根據所述基板的表面曲折而變形的可撓性材料形成。

旨在達成所述本實用新型目的的本實用新型提供的基板處理裝置中，所述隔膜向所述研磨墊傳遞對所述基板進行加壓的加壓力。

旨在達成所述本實用新型目的的本實用新型提供的基板處理裝置中，在所述隔膜的上部形成有壓力腔，通過調節所述壓力腔的壓力來調節所述加壓力。

旨在達成所述本實用新型目的的本實用新型提供的基板處理裝置中，所述研磨墊由能夠根據所述基板的表面曲折而變形的可撓性材料形成。

旨在達成所述本實用新型目的的本實用新型提供的基板處理裝置中，包括：研磨墊約束部，其相對于所述研磨頭約束所述研磨墊。