[實(shí)用新型]一種用于磁芯鍍膜的真空鍍膜設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201820174857.9 | 申請(qǐng)日: | 2018-02-01 |
| 公開(公告)號(hào): | CN208023082U | 公開(公告)日: | 2018-10-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 錢棟力 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 浙江通達(dá)磁業(yè)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/32 | 分類號(hào): | C23C14/32;C23C14/54 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 314407 浙江省*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鍍膜箱 鍍膜設(shè)備 真空鍍膜設(shè)備 離子發(fā)生器 基片夾具 加熱設(shè)備 控制芯片 放電箱 真空泵 磁芯 鍍膜 本實(shí)用新型 真空泵電機(jī) 導(dǎo)電裝置 定時(shí)模塊 鍍膜流程 控制模塊 人力資源 智能模塊 固定架 人性化 旋轉(zhuǎn)葉 智能化 側(cè)壁 底端 坩堝 軸承 輸出 監(jiān)管 協(xié)調(diào) | ||
本實(shí)用新型公開了一種用于磁芯鍍膜的真空鍍膜設(shè)備,由鍍膜設(shè)備構(gòu)成,所述鍍膜設(shè)備由鍍膜箱和加熱設(shè)備構(gòu)成,所述加熱設(shè)備位于鍍膜箱的底端且通過固定架與鍍膜箱固定連接,所述鍍膜箱頂部設(shè)有放電箱,所述放電箱內(nèi)部設(shè)有離子發(fā)生器,所述鍍膜箱側(cè)壁上設(shè)有真空泵,所述真空泵內(nèi)的旋轉(zhuǎn)葉通過軸承于真空泵電機(jī)連接,所述鍍膜箱內(nèi)部設(shè)有基片夾具和坩堝,所述基片夾具的一端上設(shè)有基片,另一端通過導(dǎo)電裝置與離子發(fā)生器連接,通過控制芯片內(nèi)的智能模塊的設(shè)計(jì),使得整個(gè)鍍膜設(shè)備變得智能化和人性化,通過控制芯片上的定時(shí)模塊、控制模塊和解析模塊的協(xié)調(diào)確保了整個(gè)鍍膜流程無需人力監(jiān)管,從而解決了人力資源的輸出問題。
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及真空鍍膜設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種用于磁芯鍍膜的真空鍍膜設(shè)備。
背景技術(shù)
真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù),在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上,真空鍍膜設(shè)備,主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種,主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
目前的真空鍍膜設(shè)備大多以離子蒸發(fā)模式為主,通常的離子蒸發(fā)設(shè)備多為半自動(dòng)化設(shè)備,提供設(shè)備自動(dòng)化鍍膜的同時(shí),需要人工進(jìn)行監(jiān)督和看管,從而造成人力資源的輸出的現(xiàn)象,從而使得整個(gè)鍍膜設(shè)備不具有智能化和人性化。為了解決上述問題,因此,我們提出了一種用于磁芯鍍膜的真空鍍膜設(shè)備。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供一種用于磁芯鍍膜的真空鍍膜設(shè)備,解決了背景技術(shù)中所提出的問題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種用于磁芯鍍膜的真空鍍膜設(shè)備,由鍍膜設(shè)備構(gòu)成,所述鍍膜設(shè)備由鍍膜箱和加熱設(shè)備構(gòu)成,所述加熱設(shè)備位于鍍膜箱的底端且通過固定架與鍍膜箱固定連接,所述鍍膜箱頂部設(shè)有放電箱,所述放電箱內(nèi)部設(shè)有離子發(fā)生器,所述鍍膜箱側(cè)壁上設(shè)有真空泵,所述真空泵內(nèi)的旋轉(zhuǎn)葉通過軸承于真空泵電機(jī)連接,所述鍍膜箱內(nèi)部設(shè)有基片夾具和坩堝,所述基片夾具的一端上設(shè)有基片,另一端通過導(dǎo)電裝置與離子發(fā)生器連接,所述坩堝通過導(dǎo)熱裝置與加熱設(shè)備內(nèi)部的加熱器連接,所述加熱設(shè)備外部設(shè)有控制器,所述控制器外部設(shè)有顯示屏、控制按鍵,所述控制器內(nèi)部設(shè)有控制芯片、電路控制板和顯示解調(diào)器,所述控制芯片通過集成線分別與控制按鍵、真空泵電機(jī)、離子發(fā)生器、加熱器、電路控制板和顯示解調(diào)器,所述顯示解調(diào)器通過視頻線與顯示屏連接。
作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選實(shí)施方式,所述控制芯片內(nèi)部設(shè)有定時(shí)模塊、控制模塊和解析模塊。
作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選實(shí)施方式,所述鍍膜箱和加熱設(shè)備上均設(shè)有橡膠絕緣膜套,所述橡膠絕緣膜套均通過螺絲固定于鍍膜箱和加熱設(shè)備外壁上。
作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選實(shí)施方式,所述與控制芯片連接的集成線內(nèi)部由電源連接、信息傳輸線和信息接收線構(gòu)成。
作為本實(shí)用新型的一種優(yōu)選實(shí)施方式,所述電路控制板內(nèi)部板體設(shè)有電路保護(hù)裝置。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型的有益效果如下:
通過控制芯片內(nèi)的智能模塊的設(shè)計(jì),使得整個(gè)鍍膜設(shè)備變得智能化和人性化,通過控制芯片上的定時(shí)模塊、控制模塊和解析模塊的協(xié)調(diào)運(yùn)行,確保了整個(gè)鍍膜流程無需人力監(jiān)管,從而解決了人力資源的輸出問題。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型一種用于磁芯鍍膜的真空鍍膜設(shè)備整體外觀結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本實(shí)用新型一種用于磁芯鍍膜的真空鍍膜設(shè)備內(nèi)部裝置結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本實(shí)用新型一種用于磁芯鍍膜的真空鍍膜設(shè)備控制器內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4為本實(shí)用新型一種用于磁芯鍍膜的真空鍍膜設(shè)備工作原理結(jié)構(gòu)示意圖。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





