[實用新型]一種真空鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201820148506.0
• 申請日: 2018-01-29
• 公開（公告）號: CN208055451U
• 公開（公告）日: 2018-11-06
• 發明（設計）人: 李軍
• 申請（專利權）人: 合肥市輝耀真空材料有限責任公司
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26;C23C14/06
• 代理公司: 南京常青藤知識產權代理有限公司 32286
• 代理人: 史慧敏

本實用新型提供一種真空鍍膜裝置，具體涉及真空鍍膜技術領域，包括真空鍍膜倉，真空鍍膜倉內設有蒸發底板，蒸發底板設有若干蒸發正電極和若干蒸發負電極以及若干蒸發舟，一個蒸發正電極和一個蒸發負電極通過一個蒸發舟連接，蒸發底板上設有上端開口處設有蒸發罩的圍槽，圍槽和蒸發罩之間形成容納腔，蒸發正電極、蒸發負電極和蒸發舟均位于容納腔內，位于容納腔內的蒸發罩的一面垂直設有多個相互平行的第一擋板，第一擋板將蒸發罩分為多個蒸發區，一個蒸發區設有多個通孔，且其正下方設有一個蒸發舟。本實用新型設有第一擋板形成蒸發區，讓每一個蒸發舟上的硫化鋅盡量從一個蒸發區蒸發到膜面，增加薄膜表面硫化鋅的均勻性。

技術領域

本實用新型屬于真空鍍膜技術領域，具體涉及一種真空鍍膜裝置。

背景技術

近年來，隨著市場經濟的不斷發展，真空鍍膜技術和薄膜產業的發展已逐漸走向成熟，社會對功能性薄膜的需求日益增長，并得到廣泛應用，像硫化鋅薄膜這種重要的光電應用材料的研發和生產更為迫切。

真空鍍膜技術是真空領域里面重要的一個分支，真空鍍膜主要是在真空腔室里面進行，真空腔室必須是密閉環境，先對真空室進行抽真空，達到一定真空度后進行鍍膜。

目前國內用于真空鍍制硫化鋅薄膜使用的真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜倉，真空鍍膜倉內設有蒸發正電極、蒸發負電極和蒸發舟以及位于蒸發舟上方的鍍膜輥，蒸發舟的兩端連接蒸發正電極和蒸發負電極，蒸發舟內放置硫化鋅固體，此時蒸發舟充當電阻的作用，接通蒸發電源，加熱蒸發舟，使塊狀硫化鋅迅速蒸發并沉積在包裹鍍膜輥表面的鍍膜基材上。但是，硫化鋅在蒸發過程中，其分子的自由行程會發生相互碰撞，造成硫化鋅在蒸發到膜面過程中不穩定，從而造成薄膜表面硫化鋅的均勻性差，影響產品品質。

專利雙排全幅寬無間隔布局快速蒸發硫化鋅鍍膜設備(公告號CN 202131365U)，公開了一種雙排全幅寬無間隔布局快速蒸發硫化鋅鍍膜設備，包括蒸發正電極、蒸發負電極、蒸發底板、蒸發圍槽與兩排蒸發舟，每個蒸發舟是折回式條帶狀蒸發舟，折回式條帶狀蒸發舟的前、后端設有向上翻折，每排蒸發舟無間隔排列成長通槽結構，折回式條帶狀蒸發舟條帶兩端與蒸發正電極、蒸發負電極分別連接，蒸發負電極位于兩排蒸發舟之間，前排蒸發舟的前面與后排蒸發舟的后面分別排列安裝蒸發正電極。放卷輥與鍍膜輥之間，安裝有冷卻鍍膜副輥。蒸發舟上方裝有蒸發氣體均勻分配罩。在整個鍍膜幅寬面上連續盛裝、蒸發硫化鋅，蒸發量增大，鍍膜速度成倍提高；整個幅寬面鍍膜層均勻，厚度一致，不會產生光學折射和透射上的差異。但是該申請文件中的分配罩只設有密集排列的通孔，并不能減弱硫化鋅在蒸發過程中，其分子的自由行程會發生相互碰撞，因此并沒有解決現有問題。

因此急需一種能夠解決以上問題的真空鍍膜裝置。

實用新型內容

本實用新型的目的是提供一種真空鍍膜裝置，設有所述第一擋板形成所述蒸發區，讓每一個蒸發舟上的硫化鋅盡量從一個所述蒸發區蒸發到膜面，增加薄膜表面硫化鋅的均勻性。

本實用新型提供了如下的技術方案：

一種真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜倉，所述真空鍍膜倉內設有蒸發底板，所述蒸發底板設有若干蒸發正電極和若干蒸發負電極以及若干蒸發舟，一個所述蒸發正電極和一個所述蒸發負電極通過一個所述蒸發舟連接，所述蒸發底板上設有上端開口的圍槽，所述圍槽的開口處設有蒸發罩，所述圍槽和所述蒸發罩之間形成容納腔，所述蒸發正電極、所述蒸發負電極和所述蒸發舟均位于所述容納腔內，位于所述容納腔內的所述蒸發罩的一面垂直設有多個相互平行的第一擋板，所述第一擋板將所述蒸發罩分為多個蒸發區，一個所述蒸發區設有多個通孔，且其正下方設有一個所述蒸發舟。硫化鋅在蒸發過程中，其分子的自由行程會發生相互碰撞，造成硫化鋅在蒸發到膜面過程中不穩定，設有所述第一擋板形成所述蒸發區，讓每一個蒸發舟上的硫化鋅盡量從一個所述蒸發區蒸發到膜面，增加薄膜表面硫化鋅的均勻性。