[實(shí)用新型]發(fā)聲器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201820123363.8 | 申請日: | 2018-01-24 |
| 公開(公告)號: | CN207968890U | 公開(公告)日: | 2018-10-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 胡洪建 | 申請(專利權(quán))人: | 瑞聲科技(新加坡)有限公司 |
| 主分類號: | H04R9/02 | 分類號: | H04R9/02;H04R9/06;H04R7/18 |
| 代理公司: | 廣東廣和律師事務(wù)所 44298 | 代理人: | 陳巍巍 |
| 地址: | 新加坡宏茂橋65*** | 國省代碼: | 新加坡;SG |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)聲器件 熱熔柱 盆架 本實(shí)用新型 補(bǔ)強(qiáng)部 磁路系統(tǒng) 振動(dòng)系統(tǒng) 定位孔 前蓋 結(jié)構(gòu)穩(wěn)固 聲電轉(zhuǎn)換 蓋設(shè) 正對 延伸 | ||
1.一種發(fā)聲器件,包括振動(dòng)系統(tǒng)、磁路系統(tǒng)、固定所述振動(dòng)系統(tǒng)和所述磁路系統(tǒng)的盆架及蓋設(shè)于所述盆架上的前蓋,其特征在于,所述盆架上設(shè)有熱熔柱以及與所述熱熔柱相連的補(bǔ)強(qiáng)部,所述前蓋上開設(shè)有正對所述熱熔柱和所述補(bǔ)強(qiáng)部的定位孔,所述熱熔柱和所述補(bǔ)強(qiáng)部自所述盆架延伸至所述定位孔內(nèi)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲器件,其特征在于,所述盆架包括用于收容所述磁路系統(tǒng)的中央通孔、圍成所述中央通孔的內(nèi)側(cè)壁、與所述內(nèi)側(cè)壁相對設(shè)置的外側(cè)壁、連接所述內(nèi)側(cè)壁與外側(cè)壁并與所述前蓋抵接的頂壁,所述熱熔柱設(shè)置于所述頂壁上、并與所述外側(cè)壁間隔設(shè)置,所述補(bǔ)強(qiáng)部自所述熱熔柱與所述盆架的交接處延伸至與所述外側(cè)壁平齊。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的發(fā)聲器件,其特征在于,所述補(bǔ)強(qiáng)部在所述頂壁上的投影的形狀為扇環(huán)。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的發(fā)聲器件,其特征在于,所述振動(dòng)系統(tǒng)包括固定在所述盆架與所述前蓋之間的振膜,所述前蓋具有通孔,所述前蓋包括圍成所述通孔的內(nèi)邊緣、與所述內(nèi)邊緣相對設(shè)置的外邊緣、連接所述內(nèi)邊緣與所述外邊緣并與所述頂壁抵接的下表面以及與所述下表面相對設(shè)置的上表面,所述定位孔與所述內(nèi)邊緣間隔設(shè)置,所述定位孔延伸至與所述外邊緣相接并在所述外邊緣上形成缺口。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的發(fā)聲器件,其特征在于,所述前蓋還包括自所述上表面向著所述下表面凹陷且未貫穿所述下表面的收容槽,所述收容槽與所述定位孔貫通。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲器件,其特征在于,所述盆架為矩形,且所述盆架的四個(gè)角均設(shè)有所述熱熔柱。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)聲器件,其特征在于,所述熱熔柱包括與所述盆架相接的連接端以及遠(yuǎn)離所述盆架的末端,所述末端的橫截面積小于所述連接端的橫截面積。
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