[實用新型]銅箔均勻涂膠機構

有效

• 申請號: 201820063358.2
• 申請日: 2018-01-15
• 公開（公告）號: CN207929471U
• 公開（公告）日: 2018-10-02
• 發明（設計）人: 孫衍會;黃鈞;孫振
• 申請（專利權）人: 天津市領天電子科技有限公司
• 主分類號: B05C1/08
• 分類號: B05C1/08;B05C11/10;B05C9/14;B05C13/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本實用新型公開了一種銅箔均勻涂膠機構，屬于銅箔涂膠技術領域，存在銅箔上的膠體涂抹不均勻技術問題，其技術方案要點是包括自動涂膠組件以及驅動組件，自動涂膠組件包括固定機架和儲膠箱，固定機架轉動連接有上膠輥筒，上膠輥筒的底部伸入儲膠箱內，所述自動涂膠組件設置有膠體儲存組件，膠體儲存組件包括儲膠臺，儲膠臺設置有膠體暫存桶以及伸入膠體暫存桶的緩攪件，膠體儲存組件連接有攪拌組件，自動涂膠組件與驅動組件之間設置有烘干組件，達到對銅箔涂膠時更加均勻效果。

技術領域

本實用新型涉及一種銅箔涂膠領域，特別涉及一種銅箔均勻涂膠機構。

背景技術

隨著電子產品的普及和廣泛發展，金屬基制作的LED電路板的生產和制造技術也不斷更新和發展，制造這種電路板的一重要材料是銅箔，銅箔一般為厚度較薄的帶狀結構，在加工過程中，通常是先對銅箔材料進行涂膠覆膜，然后進入后序進行加工，加工完成后適配鋁基材。

現有的可參考公告號為CN206527001U的中國專利，其公開了一種張力可調料帶輸送自動涂膠裝置，包括機架，機架上設置有料帶輸出轉筒，銅箔料帶套裝于該料帶輸出轉筒上，料帶輸出轉筒后方設有能供銅箔料帶伸入的張力平衡調節固定架，張力平衡調節固定架由下往上依次設有下橫向固定桿及上橫向固定桿，下橫向固定桿上陣列設置有下調節轉筒，上橫向固定桿上陣列設置有上調節轉筒，銅箔料帶繞于下調節轉筒及上調節轉筒上，張力平衡調節固定架后方設有涂膠機體，涂膠機體沿銅箔料帶輸送方向依次設有上膠輥筒、用以驅動銅箔料帶輸送的驅動滾筒組，上膠輥筒下方設有儲存導熱膠的儲膠箱，上膠輥筒下部置于該儲膠箱內。

該裝置很好地解決了傳統銅箔料帶在加工過程中無法自動涂膠的問題，但是膠體由于本身的黏性較大，在自動涂膠的過程中，膠體長時間的放置很容易出現膠體沉淀現象，導致涂膠時銅箔上的膠體涂抹不均勻。

實用新型內容

針對現有技術存在的不足，本實用新型的目的是提供一種銅箔均勻涂膠機構，達到對銅箔涂膠時更加均勻的效果。

本實用新型的上述技術目的是通過以下技術方案得以實現的：

一種銅箔均勻涂膠機構，包括自動涂膠組件以及驅動組件，自動涂膠組件包括固定機架和儲膠箱，固定機架轉動連接有上膠輥筒，上膠輥筒的底部伸入儲膠箱內，所述自動涂膠組件設置有膠體儲存組件，膠體儲存組件包括儲膠臺，儲膠臺設置有膠體暫存桶以及伸入膠體暫存桶的緩攪件，膠體儲存組件連接有攪拌組件，自動涂膠組件與驅動組件之間設置有烘干組件。

通過上述技術方案，膠體首先在攪拌組件內進行配制和攪拌，使得膠體能較好地混合均勻，經過攪拌后的膠體運輸至膠體儲存組件，膠體儲存組件包括儲膠臺及位于儲膠臺上的膠體暫存桶，緩攪件在膠體暫存桶內緩緩攪拌，對膠體做持續的攪拌處理，防止膠體產生沉淀，使得膠體的均勻程度大大提高。經過攪拌組件的攪拌、膠體儲存組件的暫存和緩攪后，得到的均勻膠體最終倒入位于固定機架正下方的儲膠箱內且銅箔在儲膠箱內進行涂膠處理。銅箔的一端在驅動組件的帶動下緩緩拉伸運動，另一端在上膠輥筒處開始進行涂膠。上膠輥筒轉動連接于固定機架上，且上膠輥筒的下底面置于儲膠箱內，銅箔自下而上繞住上膠輥筒，其需涂膠的一面直接與儲膠箱內的均勻膠體直接接觸，驅動組件帶動銅箔拉伸時，繞在上膠輥筒上的銅箔帶動上膠輥筒轉動，使得銅箔在前進的過程中得到充分的涂膠。在儲膠箱內涂膠后的銅箔繼續向前傳送，然后進入烘干組件。涂膠后的銅箔在烘干組件內進行烘干處理，使得涂抹在銅箔上的膠體能快速烘干，以避免銅箔上出現膠體涂抹不均勻而引起的流膠、滴漏現象，進一步提高銅箔涂膠的均勻性。

較佳的，所述烘干組件包括烘干箱，烘干箱設置有供銅箔通過的烘干通口。

通過上述技術方案，涂膠后的銅箔可以通過一側的烘干通口進入烘干箱，并由另一側的烘干通口伸出，如此可使銅箔在烘干箱內得到充分的烘干處理，保證膠體在銅箔上涂抹均勻，且有效避免了膠體滴漏至地面污染環境。

較佳的，所述烘干箱靠近驅動組件的一端設置有固定輥筒，固定輥筒位于烘干通口的下端。