[發(fā)明專利]一種耐高溫隱身結(jié)構(gòu)及其應(yīng)用

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811646048.4
• 申請日: 2018-12-29
• 公開（公告）號: CN109733039A
• 公開（公告）日: 2019-05-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 石江波;黃祺;馬治;周明星;王金仿;王博哲
• 申請（專利權(quán)）人: 湖北航天技術(shù)研究院總體設(shè)計(jì)所
• 主分類號: B32B27/42
• 分類號: B32B27/42;B32B27/06;B32B17/06;B32B15/04;B32B17/02;B32B3/26;B32B3/14;B32B3/08;B32B33/00;B64C1/40
• 代理公司: 武漢智權(quán)專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 42225
• 代理人: 余浩

1.一種耐高溫隱身結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：

亞波長結(jié)構(gòu)層(2)，所述亞波長結(jié)構(gòu)層(2)包括基底薄膜(21)，所述基底薄膜(21)上間隔設(shè)置有多個亞波長周期單元(22)，所述亞波長周期單元(22)凸出于基底薄膜(21)的表面設(shè)置；

隔熱層(1)，所述亞波長結(jié)構(gòu)層(2)的兩側(cè)均設(shè)置有所述隔熱層(1)。

2.如權(quán)利要求1所述的耐高溫隱身結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述基底薄膜(21)由多個薄膜單元拼接而成，每個所述薄膜單元上均設(shè)置有亞波長周期單元(22)。

3.如權(quán)利要求1所述的耐高溫隱身結(jié)構(gòu)，其特征在于：多個所述亞波長周期單元(22)在所述基底薄膜(21)的表面上沿橫向均勻排列。

4.如權(quán)利要求1所述的耐高溫隱身結(jié)構(gòu)，其特征在于：多個所述亞波長周期單元(22)在所述基底薄膜(21)的表面上沿縱向均勻排列。

5.如權(quán)利要求1所述的耐高溫隱身結(jié)構(gòu)，其特征在于：多個所述亞波長周期單元(22)在所述基底薄膜(21)的表面上沿橫向與縱向均勻排列。

6.如權(quán)利要求1所述的耐高溫隱身結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述基底薄膜(21)上在相鄰兩個亞波長周期單元(22)之間的間隙位置處開設(shè)有連接孔(23)。

7.如權(quán)利要求1所述的耐高溫隱身結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述基底薄膜(21)與所述亞波長周期單元(22)一體成型。

8.如權(quán)利要求1所述的耐高溫隱身結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述隔熱層(1)的厚度大于所述亞波長結(jié)構(gòu)層(2)的厚度。

9.如權(quán)利要求1所述的耐高溫隱身結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述隔熱層(1)采用高硅氧玻璃纖維/鋇酚醛樹脂復(fù)合材料或陶瓷化樹脂復(fù)合材料制作而成。

10.一種飛行器，其特征在于，包括：

金屬殼體(3)；

如權(quán)利要求1至9任一所述的隱身結(jié)構(gòu)，所述隱身結(jié)構(gòu)鋪設(shè)于所述金屬殼體(3)的外表面。