[發明專利]微孔金屬膜及制備方法

在審

• 申請號: 201811643287.4
• 申請日: 2018-12-29
• 公開（公告）號: CN109518130A
• 公開（公告）日: 2019-03-26
• 發明（設計）人: 楊慧;陳希
• 申請（專利權）人: 深圳先進技術研究院
• 主分類號: C23C14/16
• 分類號: C23C14/16;C23C14/35;G01N33/50;G01N33/531
• 代理公司: 深圳中一專利商標事務所 44237
• 代理人: 高星

1.一種微孔金屬膜，其特征在于，所述微孔金屬膜包括金屬基底，所述金屬基底開設有若干微納尺寸的通孔，所述金屬基底分區設置形成N組微納通孔區，N為大于等于2的正整數；且同一微納通孔區的微納通孔的孔徑相同，不同微納通孔區的微納通孔的孔徑相同或不同，其中，所述金屬基底的材料選自第三周期至第六周期中第二族至第十三族的金屬或金屬合金，但不為鈣、鎵、汞中的至少一種。

2.如權利要求1所述的微孔金屬膜，其特征在于，以所述微納通孔的水平截面內切的最大圓的直徑為d計，同一所述微納通孔區中相鄰微納通孔之間的間距為d～20d。

3.如權利要求1所述的微孔金屬膜，其特征在于，每組所述微納通孔區的微納通孔數量為100～20000個。

4.如權利要求1至3任一項所述的微孔金屬膜，其特征在于，所述金屬基底選自鎳單質基底、鐵單質基底、鈷單質基底、銅單質基底、鋅單質基底、鈦單質基底、銀單質基底，或鎳、鐵、鈷底、銅、鋅、鈦、銀中的至少兩種形成的合金基底。

5.如權利要求1至3任一項所述的微孔金屬膜，其特征在于，所述微納通孔的橫截面形狀為圓形、多邊形中的一種，且所述微納通孔各處的橫截面尺寸相同或不同。

6.如權利要求1至3任一項所述的微孔金屬膜，其特征在于，所述微孔金屬膜還包括用于區分不同組微納通孔區的標記。

7.如權利要求6所述的微孔金屬膜，其特征在于，在所述微納通孔區的外緣設置圖形標記；和/或

在所述微納通孔區的外緣設置文字標記；和/或

在所述微納通孔區的外緣設置數字標記；和/或

在所述微納通孔區的外緣設置熒光標記。

8.一種微孔金屬膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

提供襯底，在所述襯底上沉積光刻膠材料，對所述光刻膠材料進行干燥處理，形成光刻膠層；對所述光刻膠層進行光刻處理，制備光刻膠微納陣列；其中，所述光刻膠微納陣列分區設置形成N組微納陣列區，且同一微納陣列區的微納結構的大小和高度相同，不同微納陣列區的微納結構的大小相同或不同；

在所述光刻膠微納陣列的陣列結構表面蒸鍍或磁控濺射第一金屬材料，在所述光刻膠微納陣列表面形成金屬種子層；

在所述金屬種子層表面電鍍沉積第二金屬材料，形成微孔金屬膜；其中，所述第二金屬材料選自第三周期至第六周期中第二族至第十三族的金屬或金屬合金，但不為鈣、鎵、汞中的至少一種；去除所述微孔金屬膜表面的光刻膠層和種子層，得到微孔金屬膜。

9.如權利要求8所述的微孔金屬膜的制備方法，其特征在于，所述第一金屬材料選自金屬、金屬絡合物、金屬氧化物中的一種，且所述金屬選自鉻、鈦、鋁中的至少一種，所述金屬絡合物中的金屬選自鉻、鈦、鋁中的至少一種，所述金屬氧化物中的金屬選自鉻、鈦、鋁中的至少一種。

10.如權利要求8所述的微孔金屬膜的制備方法，其特征在于，所述種子層的厚度為20納米～30納米；和/或

所述襯底為金屬導電膜。