[發明專利]可視化公差標注系統

有效

• 申請號: 201811620869.0
• 申請日: 2015-12-30
• 公開（公告）號: CN109753715B
• 公開（公告）日: 2020-08-07
• 發明（設計）人: 許源平
• 申請（專利權）人: 成都信息工程大學;許源平
• 主分類號: G06F30/17
• 分類號: G06F30/17
• 代理公司: 成都正華專利代理事務所(普通合伙) 51229
• 代理人: 李蕊

1.一種可視化公差標注系統，其特征在于，包括：

主程序模塊，用于調用系統中除主程序模塊以外的模塊的執行，并提供與軟件連接的接口；

用戶界面模塊，用于生成用戶界面，提供輸入與選擇接口，設置約束條件以及輸出可視化公差規范設計標注塊；

多層級公差知識模式處理模塊，用于根據所處的產品生命周期來提取并生成相應層級的公差標注信息，包括：

a、將公差規范設計標注分為多個具有不同完整度的知識層級，每個層級對應產品生命周期的一個階段；

b、從GPS標準體系提取出公差標注信息，所述公差標注信息塊需要依據不同的公差規范設計完整度被安置在不同的層級上形成多層級公差知識模式，并將所述多層級公差知識模式存儲至數據庫中；

c、根據所述多層級公差知識模式生成所述多個層級的公差規范設計標注，包括：

I、將用戶選擇的幾何特征的特征參量或輸入的功能需求描述轉換生成最簡化公差規范設計標注，即第一層級；

II、根據所述最簡化公差規范設計標注，推導生成標注了缺省符號或操作數據的半完整公差規范設計標注，并生成半完整的公差規范設計標注中操作算子和操作算子內部相關控制實體的詳細解釋，即第二層級；

III、結合所述半完整公差規范設計標注和輸入的約束項，推理生成與所述半完整公差規范設計標注最相匹配的制造過程與方法標注，得到一個新的半完整公差規范設計標注，即第三層級；

IV、根據所述新的半完整公差規范設計標注推理生成計量操作算子，最終生成完整的公差規范設計標注，即第四層級；

數據庫訪問模塊，用于對數據庫存儲的GPS數據和信息的存取；

公差標注生成模塊，對用戶輸入的公差標注參量進行整理和分析，結合新一代GPS公差規范標準生成公差標注符號或數據；

公差標注修改模塊，提取出原來生成的公差規范設計標注塊，結合用戶輸入的更改信息對原來的標注塊進行修改，形成新的標注塊；同時，提供約束關聯智能判斷機制，如果用戶更改的內容存在相互不相容或者與GPS標準規定不一致的地方，軟件將智能地給予提示；

公差標注繪制模塊，用于計算標注符號中各個符號元素或數據元素所占的空間，在用戶界面或CAD軟件中的電子設計制圖上完成公差標注塊的繪制。

2.根據權利要求1所述的可視化公差標注系統，其特征在于：所述用戶界面模塊包括用戶進行輸入或選擇標注信息的公差標注用戶界面模塊和顯示標注塊的公差標注圖形界面模塊。