[發明專利]防濺裝置及腐蝕工藝反應設備有效
| 申請號: | 201811619002.3 | 申請日: | 2018-12-27 |
| 公開(公告)號: | CN109698149B | 公開(公告)日: | 2020-11-20 |
| 發明(設計)人: | 黃鑫亮;夏楠君;王勇威;范文斌;李元升;張偉鋒;祝福生;吳光慶;吳娖;陳蘇偉;王文麗 | 申請(專利權)人: | 北京半導體專用設備研究所(中國電子科技集團公司第四十五研究所) |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京超凡志成知識產權代理事務所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 王術蘭 |
| 地址: | 100176 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 裝置 腐蝕 工藝 反應 設備 | ||
1.一種防濺裝置,應用于腐蝕工藝反應設備,其特征在于:所述防濺裝置包括防濺筒、升降擋板以及擋板驅動裝置;
所述防濺筒的頂部和底部分別具有開口,且所述防濺筒能夠套設于腐蝕工藝反應設備的反應臺的周面上且與所述周面之間形成導流間隙;所述升降擋板與所述防濺筒固定連接;所述擋板驅動裝置與所述升降擋板傳動連接,用于驅動所述升降擋板帶動所述防濺筒進行升降運動;
所述防濺裝置還包括限位框;所述限位框包括水平頂框以及分別垂直于所述水平頂框分布于所述水平頂框的兩端的第一豎直側框和第二豎直側框,且在所述第一豎直側框和所述第二豎直側框的相互面對的相對面上分別設置有沿豎直方向延伸的導向槽,所述升降擋板以能夠沿所述導向槽上下滑動的方式與所述限位框連接;
在所述水平頂框的朝向所述升降擋板的框面上還設置有高壓噴氣孔,且所述高壓噴氣孔通過導氣管路與高壓氣泵連接。
2.根據權利要求1所述的防濺裝置,其特征在于:
所述擋板驅動裝置包括氣缸、驅動連接板和升降連接板,
所述驅動連接板與所述氣缸的活塞桿的輸出端連接,且所述驅動連接板通過所述升降連接板與所述升降擋板連接。
3.根據權利要求1所述的防濺裝置,其特征在于:
所述擋板驅動裝置包括步進電機、齒輪齒條傳動機構、驅動連接板和升降連接板,
所述齒輪齒條傳動機構包括齒輪和沿豎直方向延伸的齒條,所述齒輪設置于所述步進電機的輸出軸上并與所述齒條嚙合,所述齒條固定于所述驅動連接板上,且所述驅動連接板通過所述升降連接板與所述升降擋板連接。
4.根據權利要求1所述的防濺裝置,其特征在于:
所述擋板驅動裝置包括步進電機、絲杠螺母傳動機構、驅動連接板和升降連接板,
所述絲杠螺母傳動機構包括絲杠和螺母,所述絲杠與所述步進電機的輸出軸連接,所述螺母套設于所述絲杠上并與所述驅動連接板連接,所述驅動連接板通過所述升降連接板與所述升降擋板連接。
5.根據權利要求1所述的防濺裝置,其特征在于:
在所述防濺筒的頂部開口的筒壁上設置有向所述頂部開口的中心點延伸形成的環狀內沿。
6.一種腐蝕工藝反應設備,其特征在于:包括反應室、反應臺、以及權利要求1-5中任一項所述的防濺裝置,所述反應臺設置于所述反應室的內部;
在所述反應室的腔壁上開設有腔壁開口,所述擋板驅動裝置設置于所述反應室的腔體外壁上,所述升降擋板穿過所述腔壁開口伸入所述反應室的內部,且,所述防濺筒套設于所述反應臺的周面上且與所述周面之間形成導流間隙。
7.根據權利要求6所述的腐蝕工藝反應設備,其特征在于:
在所述反應室的腔壁外壁上還固定有緩沖連接板,在所述緩沖連接板上設置有油壓緩沖器,
且所述緩沖連接板位于所述擋板驅動裝置的下方,配置成在所述擋板驅動裝置下降至最低位置的工況下與所述擋板驅動裝置的下端抵接。
8.根據權利要求6所述的腐蝕工藝反應設備,其特征在于:
所述反應臺為由下而上半徑逐漸縮小的圓臺狀。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





