[發(fā)明專(zhuān)利]一種具有波浪緩沖區(qū)的GCT芯片在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811615523.1 | 申請(qǐng)日: | 2018-12-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN109686784A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-04-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉佳鵬;曾嶸;周文鵬;趙彪;余占清;陳政宇 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 清華大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L29/06 | 分類(lèi)號(hào): | H01L29/06;H01L29/08;H01L29/747 |
| 代理公司: | 北京知聯(lián)天下知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11594 | 代理人: | 張陸軍;張迎新 |
| 地址: | 100084*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)射極 緩沖層 緩沖區(qū) 貼合 陽(yáng)極 芯片 基區(qū) 波浪 波浪形結(jié)構(gòu) 電壓條件 動(dòng)態(tài)雪崩 發(fā)射效率 關(guān)斷電流 陰極電子 重新發(fā)射 波浪形 交界處 陽(yáng)極側(cè) 引入 | ||
本發(fā)明涉及一種具有波浪緩沖區(qū)的GCT芯片,包括引出陽(yáng)極的p+發(fā)射極、與p+發(fā)射極貼合的n+緩沖層、與n+緩沖層相貼合的n基區(qū)、與n基區(qū)相貼合的p基區(qū)和與p基區(qū)相連接的n+發(fā)射極,所述p+發(fā)射極與所述n+緩沖層的連接處形成J1結(jié),所述n基區(qū)與n+緩沖層的交界處設(shè)置有波浪形結(jié)構(gòu),通過(guò)在GCT芯片的陽(yáng)極側(cè)引入波浪形緩沖區(qū)的結(jié)構(gòu),使動(dòng)態(tài)雪崩發(fā)生時(shí),有效降低了陽(yáng)極端的發(fā)射效率同時(shí)避免陰極電子重新發(fā)射,提高器件同等陰陽(yáng)極電壓條件下的關(guān)斷電流能力。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于電力半導(dǎo)體器件領(lǐng)域,特別涉及一種具有波浪緩沖區(qū)的GCT芯片。
背景技術(shù)
IGCT器件即集成門(mén)極換流晶閘管,是在原有GTO器件門(mén)極可斷晶閘管的基礎(chǔ)上,通過(guò)引進(jìn)透明陽(yáng)極、陽(yáng)極緩沖區(qū)等結(jié)構(gòu),配合具有低感換流回路的門(mén)極驅(qū)動(dòng),實(shí)現(xiàn)關(guān)斷增益為1的類(lèi)晶閘管器件。IGCT器件的GCT芯片典型結(jié)構(gòu)如圖1所示,包括陽(yáng)極、p+發(fā)射極、n+緩沖層、n基區(qū)、p基區(qū)、p+區(qū)域、n+發(fā)射極和陽(yáng)極。以感性負(fù)載為例,其關(guān)斷過(guò)程可以簡(jiǎn)單分為三個(gè)階段:在第一階段,通過(guò)控制門(mén)極驅(qū)動(dòng)電路中的MOSFET,利用電容在J3結(jié)處施加20V反向電壓,使J3結(jié)耗盡,進(jìn)而保證陰極電流完全轉(zhuǎn)移至門(mén)極處;在第二階段,由于陰極不流過(guò)電流,n+發(fā)射極不再進(jìn)行電子發(fā)射,在陽(yáng)極電流的作用下,在J2結(jié)處形成耗盡層,GCT芯片的陰陽(yáng)極電壓不斷升高;在第三階段,陰陽(yáng)極電壓達(dá)到母線電壓,此時(shí)電流在電感的作用下緩慢下降,在電流下降到一定程度后進(jìn)入拖尾過(guò)程,此時(shí)J2結(jié)處的空間電荷區(qū)不再拓展,電流依靠芯片體內(nèi)載流子的復(fù)合過(guò)程自然衰減。
IGCT器件在關(guān)斷過(guò)程中,GCT芯片由于受到換流回路電感不均勻等因素的影響,會(huì)出現(xiàn)局部電流分配不均勻的情況,在基區(qū)展寬效應(yīng)即kirk效應(yīng)的作用下會(huì)在J2結(jié)耗盡層即圖1中的n基區(qū)—n+緩沖區(qū)區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)動(dòng)態(tài)雪崩,當(dāng)動(dòng)態(tài)雪崩產(chǎn)生的電流細(xì)絲穩(wěn)定在芯片工藝的薄弱點(diǎn)時(shí)會(huì)造成局部陰極單元的重觸發(fā),進(jìn)而導(dǎo)致該局部區(qū)域的熱擊穿。由于J2結(jié)耗盡層中出現(xiàn)動(dòng)態(tài)雪崩時(shí)會(huì)受到負(fù)反饋效應(yīng)的影響,而具有自穩(wěn)定特性,但是n基區(qū)—n+緩沖區(qū)內(nèi)發(fā)生的動(dòng)態(tài)雪崩則會(huì)由于正反饋的作用不斷加強(qiáng),進(jìn)而造成IGCT器件損壞。因此急需解決如何避免GCT芯片在動(dòng)態(tài)雪崩出現(xiàn)后造成GCT芯片熱擊穿和IGCT器件損壞的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)上述問(wèn)題,本發(fā)明公開(kāi)了一種具有波浪緩沖區(qū)的GCT芯片,避免了GCT芯片在動(dòng)態(tài)雪崩出現(xiàn)后造成GCT芯片熱擊穿的問(wèn)題。
一種具有波浪緩沖區(qū)的GCT芯片,包括引出陽(yáng)極的p+發(fā)射極、與p+發(fā)射極貼合的n+緩沖層、與n+緩沖層相貼合的n基區(qū)、與n基區(qū)相貼合的p基區(qū)和與p基區(qū)相連接的n+發(fā)射極,其中,
所述n+發(fā)射極遠(yuǎn)離所述p基區(qū)的一側(cè)引出有陰極,所述p基區(qū)引出有兩個(gè)陰極門(mén)極結(jié)構(gòu),所述n+發(fā)射極與所述p基區(qū)的連接處形成J3結(jié),所述n基區(qū)與所述p基區(qū)的連接處形成J2結(jié),所述p+發(fā)射極與所述n+緩沖層的連接處形成J1結(jié),所述n基區(qū)與所述n+緩沖層的交界處中部設(shè)置有波浪形結(jié)構(gòu),所述n+緩沖層為波浪形緩沖區(qū);
所述波浪形結(jié)構(gòu)的中部設(shè)置為平面結(jié)構(gòu),所述平面的兩端相互遠(yuǎn)離延伸形成兩個(gè)的平滑曲面,所述平滑曲面遠(yuǎn)離所述平面的一端與所述n基區(qū)與所述n+緩沖層的交界處重合。
進(jìn)一步地,所述J1結(jié)與所述J2結(jié)平行設(shè)置。
進(jìn)一步地,兩個(gè)所述平滑曲面關(guān)于所述波浪形結(jié)構(gòu)中部平面的中線對(duì)稱(chēng)設(shè)置。
進(jìn)一步地,所述波浪形結(jié)構(gòu)中部的平面與所述J1結(jié)、J2結(jié)均平行設(shè)置。
進(jìn)一步地,所述波浪形結(jié)構(gòu)中部的平面向所述n+緩沖層凸起,所述波浪形結(jié)構(gòu)兩側(cè)的平滑曲面向所述n基區(qū)凹陷。
進(jìn)一步地,所述波浪形結(jié)構(gòu)中部的平面凸起距離小于20um。
進(jìn)一步地,所述波浪形結(jié)構(gòu)中部平面的中線與所述n+發(fā)射極在垂直方向的中線重合。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類(lèi)目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專(zhuān)門(mén)適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類(lèi)型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過(guò)對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過(guò)施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的
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