[發明專利]一種基于一維光子晶體的非線性激光限幅結構有效
| 申請號： | 201811602766.1 | 申請日： | 2018-12-26 |
| 公開（公告）號： | CN109343159B | 公開（公告）日： | 2020-06-30 |
| 發明（設計）人： | 路元剛;申家嶺;左宇杰;馬海霞;王吉明;徐鋒;左敦穩 | 申請（專利權）人： | 南京航空航天大學 |
| 主分類號： | G02B1/00 | 分類號： | G02B1/00;G02F1/355 |
| 代理公司： | 南京鐘山專利代理有限公司 32252 | 代理人： | 張明浩 |
| 地址： | 210016 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基于 光子 晶體 非線性 激光 限幅 結構 | ||
1.一種基于一維光子晶體的非線性激光限幅結構，其特征是：該非線性激光限幅結構由以三種介質按一定順序排列的光子晶體構成，設三種介質分別為A、B和C，則光子晶體的結構為(AB)6CAC(AB)6，其中，適用于532nm激光限幅的光子晶體結構中三種介質A、B和C分別為金剛石、SrF2和CS3-68 玻璃，介質層A、B和C的厚度分別為184.1nm、92.0nm和138.1nm；適用于1064nm激光限幅的光子晶體結構中三種介質A、B和C分別為金剛石、CeF3和CdTe，介質層A、B和C的厚度分別為149.3nm、74.7nm和112.0nm。
2.根據權利要求1所述的一種基于一維光子晶體的非線性激光限幅結構，其特征是：適用于532nm激光限幅的光子晶體在光功率密度小于1×107W/m2時，該光子晶體限幅結構的光學透過率為86.4%，當光功率密度大于6×1010W/m2時，其光學透過率為0.02%。
3.根據權利要求2所述的一種基于一維光子晶體的非線性激光限幅結構，其特征是：適用于532nm激光限幅的光子晶體中，介質A的折射率為2.425，消光系數為0，介質B 的折射率為1.4887，消光系數為0.00784，介質層C 為缺陷層，其線性折射率為1.5，非線性折射率系數為2.3×10-10cm2/W，消光系數為0.00011。
4.根據權利要求1所述的一種基于一維光子晶體的非線性激光限幅結構，其特征是：適用于1064nm激光限幅的光子晶體在光功率密度大于3×1014W/m2時，該光子晶體限幅結構光學透過率為0.3%，當光功率密度小于1×1010W/m2時，其光學透過率為79.8%。
5.根據權利要求4所述的一種基于一維光子晶體的非線性激光限幅結構，其特征是：適用于1064nm激光限幅的光子晶體中，介質A的折射率為2.3902，消光系數為0，介質B折射率為1.62，消光系數為0.00188，介質層C 為缺陷層，其線性折射率為2.746，非線性折射率系數為-1×10-12cm2/W，消光系數為0.000153。
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