[發(fā)明專利]光電掃描器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201811595554.5
• 申請日: 2018-12-25
• 公開（公告）號: CN109557702B
• 公開（公告）日: 2022-04-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 談順毅
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇慧光電子科技有限公司
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333;G02F1/133
• 代理公司: 上海段和段律師事務(wù)所 31334
• 代理人: 李佳俊;郭國中

1.一種光學(xué)器件，其特征在于，具有至少兩個不平行的表面，兩個表面之間填充雙折射材料；

光入射所述光學(xué)器件后，會在所述光學(xué)器件內(nèi)經(jīng)歷至少一次全反射；

通過施加電壓改變器件內(nèi)雙折射介質(zhì)的有效折射率，使得出射光的出射參數(shù)發(fā)生變化。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)器件，其特征在于，兩個表面上制有電極，能夠施加電壓。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)器件，其特征在于，所述雙折射材料能夠根據(jù)所施加電壓大小和/或電壓作用時(shí)間長短改變有效折射率。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)器件，其特征在于，所述雙折射材料為液晶。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)器件，其特征在于，所述液晶采用ECB或VA模式封裝。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)器件，其特征在于，所述兩個表面面對雙折射材料的一側(cè)制有配向膜，所述兩個表面上的配向膜的配向方向一致。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)器件，其特征在于，所述表面全部或部分區(qū)域制有反射區(qū)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)器件，其特征在于，所述表面全部或部分區(qū)域制有增透膜。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)器件，其特征在于，所述兩個表面延光入射方向厚度變化。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)器件，其特征在于，所述兩個表面所在波導(dǎo)器件的截面為三角形或楔形。

11.一種光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，包括權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的至少一件光學(xué)器件，還包括光源，其中，所述光學(xué)器件的入射光來自于光源。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述光源為激光。

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述入射光為平行光或近似平行光。

14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述入射光偏振方向與配向方向一致。

15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，還包括耦合器件，耦合器件將光源發(fā)出的光耦合入所述光學(xué)器件。

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，所述耦合器件為三角形棱鏡和/或光柵器件。

17.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于，還包括位于光路上的光學(xué)元件。

18.一種控制系統(tǒng)，其特征在于，控制或者對權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的至少一件光學(xué)器件的兩個表面施加電信號。

19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的控制系統(tǒng)，其特征在于，針對多塊光學(xué)器件，控制系統(tǒng)分別在不同時(shí)間對不同的光學(xué)器件施加電壓，并輸出同步信號和/或控制光源輸入對應(yīng)的光學(xué)器件。

20.根據(jù)權(quán)利要求18所述的控制系統(tǒng)，其特征在于，所述電信號為固定電壓、變化電壓中的至少一種，或者是設(shè)定波形、變化波形中的至少一種。

21.根據(jù)權(quán)利要求18所述的控制系統(tǒng)，其特征在于，所述控制系統(tǒng)連接光源，和/或接收光學(xué)器件。

22.根據(jù)權(quán)利要求18所述的控制系統(tǒng)，其特征在于，所述控制系統(tǒng)對光學(xué)器件施加周期性的電信號。