[發(fā)明專利]諧振器和濾波器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811592862.2 | 申請日： | 2018-12-20 |
| 公開（公告）號： | CN111431497A | 公開（公告）日： | 2020-07-17 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 李亮;呂鑫;梁東升;劉青林;馬杰;高淵 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國電子科技集團公司第十三研究所 |
| 主分類號： | H03H3/02 | 分類號： | H03H3/02 |
| 代理公司： | 石家莊國為知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 13120 | 代理人： | 郝偉 |
| 地址： | 050051 河北*** | 國省代碼： | 河北;13 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 諧振器 濾波器 | ||
1.一種諧振器，其特征在于，包括：
襯底；
多層結(jié)構(gòu)，形成于所述襯底上，所述多層結(jié)構(gòu)由下至上依次包括下電極層、壓電層和上電極層；
其中，在所述襯底和所述多層結(jié)構(gòu)之間形成有腔體，所述腔體包括位于所述襯底上表面之下的下半腔體和超出所述襯底上表面并向所述多層結(jié)構(gòu)突出的上半腔體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的諧振器，其特征在于，所述下半腔體由底壁和第一側(cè)壁圍成，所述底壁整體與所述襯底表面平行，所述第一側(cè)壁為由所述底壁邊緣延伸至所述襯底上表面的第一圓滑曲面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的諧振器，其特征在于，所述第一圓滑曲面包括圓滑過渡連接的第一曲面和第二曲面。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的諧振器，其特征在于，所述第一曲面的豎截面呈倒拋物線狀，且位于所述底壁所在的平面之上；
所述第二曲面的豎截面呈拋物線狀，且位于所述襯底上表面所在的平面之下。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的諧振器，其特征在于，所述第一圓滑曲面各點的曲率小于第一預(yù)設(shè)值。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的諧振器，其特征在于，所述上半腔體由所述多層結(jié)構(gòu)的下側(cè)面圍成，所述多層結(jié)構(gòu)與所述上半腔體對應(yīng)的部分包括頂壁和第二側(cè)壁圍成，所述第二側(cè)壁為由所述頂壁邊緣延伸至所述襯底上表面的第二圓滑曲面。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的諧振器，其特征在于，所述第二圓滑曲面包括圓滑過渡連接的第三曲面和第四曲面。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的諧振器，其特征在于，所述第三曲面的豎截面呈拋物線狀，且位于所述頂壁所在的平面之下；
所述第四曲面的豎截面呈倒拋物線狀，且位于所述襯底上表面所在的平面之上。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的諧振器，其特征在于，所述第二圓滑曲面各點的曲率小于第二預(yù)設(shè)值。
10.根據(jù)權(quán)利要求6至9任一項所述的諧振器，其特征在于，所述頂壁無突變部分。
11.一種半導(dǎo)體器件，其特征在于，包括權(quán)利要求1至10任一項所述的諧振器。
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