[發(fā)明專利]一種基于潛變量自回歸模型的動(dòng)態(tài)過程監(jiān)測方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811577427.2 | 申請日: | 2018-12-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109522972B | 公開(公告)日: | 2021-05-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳華;史旭華;童楚東 | 申請(專利權(quán))人: | 寧波大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G06K9/62 | 分類號(hào): | G06K9/62;G06F17/16 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 315211 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 變量 回歸 模型 動(dòng)態(tài) 過程 監(jiān)測 方法 | ||
1.一種基于潛變量自回歸模型的動(dòng)態(tài)過程監(jiān)測方法,其特征在于,包括以下步驟:
首先,離線建模階段包括如下所示步驟(1)至步驟(7);
步驟(1):采集生產(chǎn)過程正常運(yùn)行工況下的樣本數(shù)據(jù),組成訓(xùn)練數(shù)據(jù)矩陣X∈Rn×m,并計(jì)算矩陣X中各個(gè)列向量的均值μ1,μ2,…,μm以及標(biāo)準(zhǔn)差δ1,δ2,…,δm,對應(yīng)組成均值向量μ=[μ1,μ2,…,μm]T與標(biāo)準(zhǔn)差對角矩陣Φ=diag{δ1,δ2,…,δm},其中,n為訓(xùn)練樣本數(shù),m為測量變量數(shù),R為實(shí)數(shù)集,Rn×m表示n×m維的實(shí)數(shù)矩陣,上標(biāo)號(hào)T表示矩陣或向量的轉(zhuǎn)置,diag{δ1,δ2,…,δm}表示將δ1,δ2,…,δm轉(zhuǎn)變成對角矩陣的操作;
步驟(2):根據(jù)公式對矩陣X實(shí)施標(biāo)準(zhǔn)化處理得到矩陣其中,Ξ∈Rn×m是由n個(gè)相同的均值向量μ組成的矩陣,即Ξ=[μ,μ,…,μ]T;
步驟(3):記矩陣設(shè)置自相關(guān)階數(shù)為D,根據(jù)Xd=[xd,xd+1,…,xn-D+d-1]T依次構(gòu)造矩陣X1,X2,…,XD+1,其中下標(biāo)號(hào)d=1,2,…,D+1,xi為標(biāo)準(zhǔn)化后的第i個(gè)數(shù)據(jù)樣本,i=1,2,…,n;
步驟(4):設(shè)置潛變量的個(gè)數(shù)為K,根據(jù)如下所示步驟(4.1)至步驟(4.6)求取得到K個(gè)潛變量的投影向量w1,w2,…,wK,K個(gè)自回歸系數(shù)向量θ1,θ2,…,θK,和K個(gè)載荷向量p1,p2,…,pK;
步驟(4.1):初始化k=1與初始化向量θk=[1,1,…,1]T,即向量θk中所有元素都等于1;
步驟(4.2):根據(jù)如下所示公式(1)計(jì)算矩陣G后,再求解廣義特征值問題:中最小正實(shí)數(shù)特征值對應(yīng)的特征向量w;
其中,λ為特征值,矩陣Z=[X1,X2,…,XD],Im表示m×m維的單位矩陣,符號(hào)表示Kronecker內(nèi)積;
步驟(4.3):根據(jù)公式計(jì)算得到投影向量wk后,再根據(jù)如下所示公式更新自回歸系數(shù)向量θk:
上式中,ID表示D×D維的單位矩陣;
步驟(4.4):判斷向量θk是否收斂;若否,則返回步驟(4.2);若是,則得到第k個(gè)自回歸系數(shù)向量θk與投影向量wk后執(zhí)行步驟(4.5);
步驟(4.5):根據(jù)公式計(jì)算第k個(gè)潛變量的得分向量sk后,再根據(jù)公式計(jì)算載荷向量pk;
步驟(4.6):判斷是否滿足條件:k<K;若是,則置k=k+1后根據(jù)公式更新矩陣再返回步驟(4.2);若否,則得到K個(gè)潛變量的投影向量w1,w2,…,wK、K個(gè)自回歸系數(shù)向量θ1,θ2,…,θK、以及K個(gè)載荷向量p1,p2,…,pK;
步驟(5):根據(jù)公式Θ=P(WTP)-1計(jì)算投影變換矩陣Θ,其中矩陣W=[w1,w2,…,wK],載荷矩陣P=[p1,p2,…,pK];
步驟(6):利用主元分析算法為更新后的矩陣建立模型:具體的實(shí)施過程如步驟(6.1)至步驟(6.4 )所示,其中U∈Rn×η、H∈Rm×η、和E∈Rn×m分別表示主元得分矩陣、主元載荷矩陣、和殘差矩陣,η表示主元的個(gè)數(shù);
步驟(6.1):計(jì)算的協(xié)方差矩陣
步驟(6.2):求解C所有特征值γ1≥γ2≥…≥γm所對應(yīng)的特征向量h1,h2…,hm;
步驟(6.3):設(shè)置保留的主元個(gè)數(shù)η為滿足如下所示條件的最小值,并將對應(yīng)的η個(gè)特征向量組成主元載荷矩陣H=[h1,h2…,hη];
步驟(6.4):根據(jù)公式計(jì)算主元得分矩陣U∈Rn×η,那么殘差矩陣為
步驟(7):根據(jù)如下所示公式分別計(jì)算控制限ψlim、ξlim、和Qlim
上式中,表示自由度為K、置信度為α的卡方分布所對應(yīng)的值,F(xiàn)η,n-η,α表示置信度為α、自由度分別為η與n-η的F分布所對應(yīng)的值,表示自由度為h、置信度為α的卡方分布所對應(yīng)的值,a和τ分別為Q統(tǒng)計(jì)量的估計(jì)均值和估計(jì)方差;
其次,完成上述離線建模階段后,即可實(shí)施在線故障監(jiān)測,具體包括如下所示步驟(8)至步驟(13);
步驟(8):采集最新采樣時(shí)刻的樣本數(shù)據(jù)xt∈Rm×1,并找出其前D個(gè)采樣時(shí)刻的樣本數(shù)據(jù)xt-1,xt-2,…xt-D,下標(biāo)號(hào)t表示當(dāng)前最新采樣時(shí)刻;
步驟(9):根據(jù)公式對xt,xt-1,xt-2,…xt-D分別實(shí)施標(biāo)準(zhǔn)化處理,對應(yīng)得到其中j=t,t-1,t-2,…,t-D;
步驟(10):根據(jù)公式與公式分別計(jì)算潛變量的得分向量vt,vt-1,…,vt-D與殘差向量e;
步驟(11):根據(jù)如下所示步驟(11.1)至步驟(11.3)消除潛變量的得分向量vt中的自相關(guān)性;
步驟(11.1)初始化k=1;
步驟(11.2)根據(jù)公式ft,k=vt,k-Vkθk計(jì)算行向量ft中的第k個(gè)元素ft,k,其中vt,k表示向量vt中的第k個(gè)元素,Vk表示矩陣V=[vt-DT,vt-D+1T,…,vt-1T]中的第k行向量;
步驟(11.3)判斷是否滿足條件:k<K;若是,則置k=k+1后返回步驟(11.2);若否,則得到向量ft;
步驟(12)根據(jù)如下所示公式分別計(jì)算監(jiān)測統(tǒng)計(jì)量ψ、ξ、和Q的具體數(shù)值:
ψ=ftTft
ξ=eHΛ-1HTeT (7)
Q=e(Im-HHT)eT
上式中,矩陣Λ=UTU/(n-1);
步驟(13)判斷是否滿足條件ψ≤ψlim且ξ≤ξlim且Q≤Qlim;若是,則當(dāng)前樣本采集自正常工況,返回步驟(8)繼續(xù)監(jiān)測下一時(shí)刻的樣本數(shù)據(jù);若否,則當(dāng)前監(jiān)測樣本采集自故障工況。
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G06K 數(shù)據(jù)識(shí)別;數(shù)據(jù)表示;記錄載體;記錄載體的處理
G06K9-00 用于閱讀或識(shí)別印刷或書寫字符或者用于識(shí)別圖形,例如,指紋的方法或裝置
G06K9-03 .錯(cuò)誤的檢測或校正,例如,用重復(fù)掃描圖形的方法
G06K9-18 .應(yīng)用具有附加代碼標(biāo)記或含有代碼標(biāo)記的打印字符的,例如,由不同形狀的各個(gè)筆畫組成的,而且每個(gè)筆畫表示不同的代碼值的字符
G06K9-20 .圖像捕獲
G06K9-36 .圖像預(yù)處理,即無須判定關(guān)于圖像的同一性而進(jìn)行的圖像信息處理
G06K9-60 .圖像捕獲和多種預(yù)處理作用的組合
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