[發明專利]蒸鍍設備與蒸鍍制作工藝

在審

• 申請號: 201811547766.6
• 申請日: 2018-12-18
• 公開（公告）號: CN111334773A
• 公開（公告）日: 2020-06-26
• 發明（設計）人: 許祐霖;黃國興;林建宏;宋兆峰
• 申請（專利權）人: 財團法人工業技術研究院
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/04;C23C14/24;C23C14/54;C23C14/06
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 陳小雯

1.一種蒸鍍設備，其特征在于，包括：

卷對卷基板傳送裝置，用以傳送基板；

蒸鍍裝置，與所述卷對卷基板傳送裝置相對設置；以及

掩模裝置，設置于所述卷對卷基板傳送裝置與所述蒸鍍裝置之間，且位于所述蒸鍍裝置上方，其中所述掩模裝置具有多個可調式開孔，所述可調式開孔經調整以控制其在所述蒸鍍裝置至所述基板的方向上投影至所述基板的投影面積，

其中所述蒸鍍裝置產生的蒸鍍氣體穿過所述可調式開孔而到達所述基板。

2.如權利要求1所述的蒸鍍設備，其中所述掩模裝置具有平行配置的多個葉片，所述多個葉片之間定義出所述多個可調式開孔，其中每一所述葉片的長度方向與所述基板的傳送方向交錯，且每一所述葉片可繞著與所述長度方向平行的軸轉動。

3.如權利要求2所述的蒸鍍設備，其中所述掩模裝置包括在所述傳送方向上依序設置的第一掩模單元與第二掩模單元，且所述第一掩模單元與所述第二掩模單元各自具有多個所述葉片。

4.如權利要求3所述的蒸鍍設備，其中所述第一掩模單元與所述第二掩模單元位于不同水平高度。

5.如權利要求3所述的蒸鍍設備，其中所述第一掩模單元與所述第二掩模單元各自可繞著與所述長度方向平行的軸轉動。

6.如權利要求2所述的蒸鍍設備，其中每一所述葉片與垂直所述掩模裝置的平面之間的夾角介于15°至70°之間。

7.如權利要求6所述的蒸鍍設備，其中所述夾角符合方程式1：

θ＝tan^-1(x_c/y_d) 方程式1

其中x_c為所述蒸鍍裝置與所述基板的中心點之間的水平距離，y_d為所述蒸鍍裝置與所述基板之間的垂直距離。

8.如權利要求2所述的蒸鍍設備，其中每一所述葉片的寬度大于在所述基板上所欲形成的膜層的寬度。

9.如權利要求1所述的蒸鍍設備，其中所述掩模裝置具有平行設置的上遮板與下遮板，所述上遮板具有多個第一開孔，所述下遮板具有多個第二開孔，且所述上遮板與所述下遮板各自可在所述傳送方向上移動，其中所述第一開孔與所述第二開孔的重疊部分定義出所述多個可調式開孔。

10.如權利要求9所述的蒸鍍設備，其中所述掩模裝置包括在所述傳送方向上依序設置的第一掩模單元與第二掩模單元，且所述第一掩模單元與所述第二掩模單元各自具有所述上遮板與所述下遮板。

11.如權利要求10所述的蒸鍍設備，其中所述第一掩模單元與所述第二掩模單元位于不同水平高度。

12.如權利要求10所述的蒸鍍設備，其中所述第一掩模單元與所述第二掩模單元各自可繞著與所述傳送方向交錯的軸轉動。

13.如權利要求1所述的蒸鍍設備，還包括鍍率監測裝置，設置于鄰近所述掩模裝置。

14.如權利要求1所述的蒸鍍設備，還包括共蒸鍍裝置與鍍率監測裝置，其中所述共蒸鍍裝置與所述卷對卷基板傳送裝置相對設置，所述鍍率監測裝置設置于鄰近所述掩模裝置且遠離所述共蒸鍍裝置。

15.如權利要求14所述的蒸鍍設備，還包括擋板，設置于所述掩模裝置上方，且位于所述鍍率監測裝置與共蒸鍍裝置之間。

16.如權利要求14所述的蒸鍍設備，其中所述掩模裝置設置為與所述共蒸鍍裝置的噴口在水平方向上等高。