[發(fā)明專利]模塊化常壓電化學(xué)處理裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201811540634.0 | 申請(qǐng)日： | 2018-12-17 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN109534454A | 公開（公告）日： | 2019-03-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 蔣敏;朱祥;曹家銳;許珊;丁迎春;陳文詩(shī) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 上海東方威爾節(jié)能技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C02F1/46 | 分類號(hào)： | C02F1/46 |
| 代理公司： | 暫無(wú)信息 | 代理人： | 暫無(wú)信息 |
| 地址： | 201907 上*** | 國(guó)省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 陽(yáng)極板 水槽 析垢 模塊化 中段 化學(xué)處理裝置 極板組件 容置空間 陰極板 壓電 設(shè)備處理能力 密閉式箱體 循環(huán)水系統(tǒng) 陽(yáng)極連接部 布水系統(tǒng) 交替設(shè)置 節(jié)能減排 穩(wěn)定運(yùn)行 陽(yáng)極氯氣 軸流風(fēng)扇 蓋板 出水端 堿水池 進(jìn)水端 開口處 可去除 氯離子 循環(huán)水 后段 水中 渦氣 用水量 腐蝕 濃縮 保證 | ||
1.模塊化常壓電化學(xué)處理裝置，其特在于，包括開式析垢水槽，其內(nèi)部為容置空間，所述開式析垢水槽的開口處設(shè)置蓋板，所述開式析垢水槽上設(shè)置進(jìn)水端與出水端，所述容置空間靠近進(jìn)水端區(qū)域?yàn)殚_式析垢水槽前段，靠近出水端區(qū)域?yàn)殚_式析垢水槽后段，所述開式析垢水槽前段與開式析垢水槽后段之間的區(qū)域?yàn)殚_式析垢水槽中段，所述開式析垢水槽中段內(nèi)設(shè)置極板組件，所述極板組件具有若干陽(yáng)極板，所述陽(yáng)極板底部接于開式析垢水槽底部，頂部接于陽(yáng)極連接部，相鄰的陽(yáng)極板之間設(shè)置陰極板，交替設(shè)置的陰極板與陽(yáng)極板形成布水系統(tǒng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理裝置，其特征在于，所述蓋板上設(shè)置排風(fēng)部件。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的處理裝置，其特征在于，所述排風(fēng)部件為軸流風(fēng)扇。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理裝置，其特征在于，所述開式析垢水槽底部設(shè)置排污口，所述排污口處設(shè)置排污堵頭。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理裝置，其特征在于，所述進(jìn)水端設(shè)置在開式析垢水槽一側(cè)的下部，所述出水端設(shè)置在開式析垢水槽另一側(cè)的上部。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理裝置，其特征在于，所述開式析垢水槽處設(shè)置用于清垢的高壓沖洗水槍。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理裝置，其特征在于，所述陽(yáng)極板通過(guò)絕緣插銷及陽(yáng)極板固定座接于開式析垢水槽底部。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理裝置，其特征在于，所述陰極板通過(guò)陰極板固定座接于開式析垢水槽底部。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理裝置，其特征在于，所述陰極板上設(shè)置引水孔，相鄰陰極板上的引水孔錯(cuò)位布置，交替設(shè)置的陽(yáng)極板與陰極板，以及交錯(cuò)設(shè)置的引水孔構(gòu)成布水系統(tǒng)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理裝置，其特征在于，所述開式析垢水槽底部設(shè)置底腳。
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