[發明專利]一種利用Ga2O3薄膜催化降解有機污染物的裝置在審
| 申請號： | 201811538246.9 | 申請日： | 2018-12-16 |
| 公開（公告）號： | CN109529800A | 公開（公告）日： | 2019-03-29 |
| 發明（設計）人： | 鄧金祥;張浩;楊倩倩;李瑞東;徐智洋;孫俊杰 | 申請（專利權）人： | 北京工業大學 |
| 主分類號： | B01J23/08 | 分類號： | B01J23/08;B01J35/00;B01J37/02;A62D3/176;A62D101/20 |
| 代理公司： | 北京思海天達知識產權代理有限公司 11203 | 代理人： | 劉萍 |
| 地址： | 100124 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 石英基片 薄膜 催化降解有機污染物 卡槽 薄膜材料 沉積 重復利用 石英片 射頻磁控濺射設備 有機污染物降解 半導體材料 磁控濺射法 光催化降解 有機污染物 薄膜生長 超聲清洗 放入容器 退火處理 紫外光照 管式爐 附著 | ||
【權利要求書】：
1.一種利用Ga2O3薄膜催化降解有機污染物的方法，其特征在于：
(1)采用石英片作為Ga2O3薄膜生長的基片，對石英基片進行超聲清洗；
(2)采用射頻磁控濺射設備在石英基片上沉積一層Ga2O3薄膜材料；
(3)采用管式爐對Ga2O3薄膜材料進行退火處理；
(4)將附著Ga2O3薄膜的石英片放入容器卡槽中，在紫外光照下進行有機污染物降解。
2.一種利用Ga2O3薄膜催化降解有機污染物的裝置，其特征在于：在容器中設置卡槽，將沉積了一層Ga2O3薄膜材料的石英基片卡在卡槽中，以便重復利用Ga2O3薄膜催化降解有機污染物。
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