[發(fā)明專利]一種內(nèi)置貼合型反光膜及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201811512332.2 | 申請日: | 2018-12-11 |
| 公開(公告)號: | CN109490999A | 公開(公告)日: | 2019-03-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 唐海江;夏寅;繆鍇;馮金剛;葉志鵬;陳強;李剛;張彥 | 申請(專利權(quán))人: | 寧波激智科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G02B5/10 | 分類號: | G02B5/10;G02B5/09 |
| 代理公司: | 北京策略律師事務(wù)所 11546 | 代理人: | 張華;鐘志紅 |
| 地址: | 315040 *** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 反光膜 內(nèi)置 貼合 凹弧面 平行反射光 三棱鏡結(jié)構(gòu) 三棱鏡陣列 結(jié)構(gòu)層 制備 底材層 修飾 反射光路 平行光路 直線光源 反光面 非平行 偏轉(zhuǎn)角 三棱鏡 側(cè)邊 光路 內(nèi)凹 側(cè)面 | ||
1.一種內(nèi)置貼合型反光膜,其特征在于,所述內(nèi)置貼合型反光膜包括三棱鏡陣列,所述三棱鏡陣列包括結(jié)構(gòu)層和底材層,所述結(jié)構(gòu)層置于底材層上,所述結(jié)構(gòu)層包括若干三棱鏡結(jié)構(gòu),所述三棱鏡結(jié)構(gòu)的橫截面為三角形,所述三角形的至少一個側(cè)邊為向三角形內(nèi)凹的弧形,所述三棱鏡結(jié)構(gòu)的至少一個側(cè)面為凹弧面,所述凹弧面為反光面。
2.根據(jù)權(quán)利要求書1所述內(nèi)置貼合型反光膜,其特征在于,所述內(nèi)置貼合型反光膜包括上置貼合功能層和三棱鏡陣列,所述上置貼合功能層置于三棱鏡陣列的結(jié)構(gòu)層之上。
3.根據(jù)權(quán)利要求書1所述內(nèi)置貼合型反光膜,其特征在于,所述內(nèi)置貼合型反光膜包括上置貼合功能層和三棱鏡陣列,所述三棱鏡陣列包括結(jié)構(gòu)層和底材層,所述結(jié)構(gòu)層置于底材層上,所述結(jié)構(gòu)層包括若干三棱鏡結(jié)構(gòu),所述三棱鏡結(jié)構(gòu)的橫截面為三角形,所述三角形的兩個側(cè)邊為向三角形內(nèi)凹的弧形,所述三棱鏡結(jié)構(gòu)的兩個側(cè)面為凹弧面,所述凹弧面為反光面;所述上置貼合功能層置于三棱鏡陣列的結(jié)構(gòu)層之上。
4.根據(jù)權(quán)利要求書1所述內(nèi)置貼合型反光膜,其特征在于,所述三棱鏡結(jié)構(gòu)覆蓋了底材層的表面。
5.根據(jù)權(quán)利要求書2所述內(nèi)置貼合型反光膜,其特征在于,所述三棱鏡結(jié)構(gòu)的兩個側(cè)面包括左側(cè)反射面和右側(cè)反射面,所述左側(cè)反射面和右側(cè)反射面為凹弧面;所述上置貼合功能層包括粘合層和離型膜。所述粘合層置于三棱鏡陣列的結(jié)構(gòu)層之上,所述結(jié)構(gòu)層置于粘合層內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求書3所述內(nèi)置貼合型反光膜,其特征在于,所述三角形的左側(cè)弧邊,圓弧所在圓心角為θa,所在弦的方向角為α2;所述三角形的右側(cè)弧邊,圓弧所在圓心角為θb,所在弦的方向角為β2,所述三角形的高為H;α2與β2均為銳角。
7.根據(jù)權(quán)利要求書6所述內(nèi)置貼合型反光膜,其特征在于,所述三角形的左側(cè)弧邊與右側(cè)弧邊相互對稱,α2=β2,且θa=θb。
8.根據(jù)權(quán)利要求書4所述內(nèi)置貼合型反光膜,其特征在于,α2與β2的范圍分別為15°~75°。
9.根據(jù)權(quán)利要求書1所述內(nèi)置貼合型反光膜,其特征在于,所述三棱鏡結(jié)構(gòu)的凹弧面上設(shè)置有反射層。
10.一種根據(jù)權(quán)利要求1-9之一所述的內(nèi)置貼合型反光膜的制備方法,其特征在于,所述方法包含下述步驟:
(1)在特定互補結(jié)構(gòu)的模具中填充紫外光固化或熱固化高分子材料,利用光固化、熱固化工藝成型,脫模后形成特定的三棱鏡陣列,制得含底材層和結(jié)構(gòu)層的半成品A;
(2)將半成品A的結(jié)構(gòu)層的一個或兩個凹弧面進行反光處理,制得含弧面反光三棱鏡陣列的反光膜半成品B;
(3)將半成品B的結(jié)構(gòu)層正面進行上置貼合功能層處理。
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